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전자파 방사 방법 및 이를 수행하는 장치

  • 기술번호 : KST2023010943
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전자파 방사 방법 및 이를 수행하는 장치가 개시된다. 다양한 실시예에 따른 전자파 방사 장치는 상향링크 및 하향링크로 구성되는 제1 전자파 신호를 생성하고, 상기 제1 전자파 신호를 하향링크로만 구성되는 제2 전자파 신호로 평가하기 위해 상기 제1 전자파 신호의 전력을 스케일링 하여 방사하는 신호 생성기; 및 스케일링 된 제1 전자파 신호가 세포들에 균일하게 조사될 수 있도록 상기 세포들을 포함하는 세포 용기들이 원형으로 배치되는 방사 챔버를 포함할 수 있다.
Int. CL G01R 29/08 (2006.01.01)
CPC G01R 29/0821(2013.01) G01R 29/0835(2013.01) G01R 29/0871(2013.01)
출원번호/일자 1020220065472 (2022.05.27)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0165553 (2023.12.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.10.27)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이영승 대전광역시 유성구
2 전상봉 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2022-0563882-99
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2022.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2022-1138318-36
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번호 청구항
1 1
상향링크 및 하향링크로 구성되는 제1 전자파 신호를 생성하고, 상기 제1 전자파 신호를 하향링크로만 구성되는 제2 전자파 신호로 평가하기 위해 상기 제1 전자파 신호의 전력을 스케일링 하여 방사하는 신호 생성기; 및스케일링 된 제1 전자파 신호가 세포들에 균일하게 조사될 수 있도록 상기 세포들을 포함하는 세포 용기들이 원형으로 배치되는 방사 챔버를 포함하는, 전자파 방사 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 신호 생성기를 제어하는 컨트롤러를 더 포함하고,상기 신호 생성기는,상기 컨트롤러의 제어를 받아 상기 스케일링 된 제1 전자파 신호의 전력을 증폭하여 방사하는, 전자파 방사 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 전자파 신호는,상향링크 및 하향링크로 구성되는 5G NR 신호를 포함하고,상기 제2 전자파 신호는,하향링크로만 구성되는 5G NR 신호를 포함하는, 전자파 방사 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 신호 생성기는,상기 제1 전자파 신호의 한 프레임에 포함된 전체 심볼들과 하향링크 심볼들의 비(ratio)를 이용하여 상기 스케일링을 수행하는, 전자파 방사 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 신호 생성기는,상기 신호 생성기의 내부에서 생성되는 반사 신호의 크기가 일정 수치의 레벨을 넘는 경우 작동을 중단하는, 전자파 방사 장치
6 6
제1 항에 있어서,상기 방사 챔버는,바닥면이 금속으로 이루어진 것인, 전자파 방사 장치
7 7
제1항에 있어서,상기 세포들을 배양하기위해 온도 및 습도를 유지하기 위한 항온 항습기를 더 포함하는, 전자파 방사 장치
8 8
제7항에 있어서,상기 방사 챔버는,상기 항온 항습기의 내부에 위치하는, 전자파 방사 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 방사 챔버는,상기 항온 항습기의 내부 공기를 순환시키는 팬(fan)을 포함하는, 전자파 방사 장치
10 10
제1항에 있어서,상기 세포들의 전자파 흡수로 인한 상기 세포 용기들의 온도 상승을 제어하기 위한 쿨러를 더 포함하는, 전자파 방사 장치
11 11
제10항에 있어서,상기 쿨러는,냉각수가 흐르는 파이프를 포함하고,상기 파이프는,상기 방사 챔버의 바닥면 아래에 설치되는, 전자파 방사 장치
12 12
상향링크 및 하향링크로 구성되는 제1 전자파 신호를 생성하는 동작;상기 제1 전자파 신호를 하향링크로만 구성되는 제2 전자파 신호로 평가하기 위해 상기 제1 전자파 신호의 전력을 스케일링 하는 동작;스케일링 된 제1 전자파 신호가 세포들에 균일하게 조사될 수 있도록 상기 세포들을 포함하는 세포 용기들을 원형으로 배치하는 동작; 및스케일링 된 제1 전자파 신호를 상기 세포 용기들을 향해 방사하는 동작을 포함하는 전자파 방사 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 스케일링 된 제1 전자파 신호의 전력을 증폭하는 동작을 더 포함하고,상기 방사하는 동작은,증폭된 제1 전자파 신호를 방사하는 동작을 포함하는, 전자파 방사 방법
14 14
제12항에 있어서,상기 제1 전자파 신호는,상향링크 및 하향링크로 구성되는 5G NR 신호를 포함하고,상기 제2 전자파 신호는,하향링크로만 구성되는 5G NR 신호를 포함하는, 전자파 방사 방법
15 15
제12항에 있어서,상기 스케일링 하는 동작은,상기 제1 전자파 신호의 한 프레임에 포함된 전체 심볼들과 하향링크 심볼들의 비를 이용하여 상기 제1 전자파 신호의 전력을 스케일링 하는 동작을 포함하는, 전자파 방사 방법
16 16
제13항에 있어서,전자파 신호를 증폭하여 방사하는 과정에서 생성되는 반사 신호의 크기가 일정 수치 레벨을 넘는 경우 전력 증폭을 중단하는 동작을 더 포함하는, 전자파 방사 방법
17 17
제12항에 있어서,상기 세포들을 배양하기위해 온도 및 습도를 유지하는 동작을 더 포함하는, 전자파 방사 방법
18 18
제12항에 있어서,상기 세포들의 전자파 흡수로 인한 상기 세포 용기들의 온도 상승을 제어하는 동작을 더 포함하는, 전자파 방사 방법
19 19
제18항에 있어서,상기 제어하는 동작은,냉각수가 흐르는 파이프를 상기 세포 용기의 바닥면에 인접시켜 상기 세포 용기를 냉각시키는 동작을 포함하는, 전자파 방사 방법
20 20
제1항의 전자파 방사 장치;상기 전자파 방사 장치에 의해 생성된 전자파가 세포들에 조사됨으로써 변하는 상기 세포들의 온도를 측정하는 온도계; 및상기 세포들의 전자파 흡수율을 계산하는 전자파 흡수율 계산 장치를 포함하고,상기 전자파 흡수율 계산 장치는,인스트럭션들을 포함하는 메모리; 및 상기 메모리와 전기적으로 연결되고, 상기 인스트럭션들을 실행하기 위한 프로세서를 포함하고,상기 프로세서에 의해 상기 인스트럭션들이 실행될 때, 상기 프로세서는,상기 세포들의 온도 변화율에 기초하여 상기 전자파 흡수율을 계산하는, 세포 실험 시스템
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.