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광을 제공하는 광원;상기 광을 회절시켜 회절광을 생성하는 공간 광 변조기;상기 회절광을 복수의 복소 파면들로 복제하여 반사시키는 홀로그래픽 광학 소자; 및상기 복소 파면들 각각을 아이 박스 내에 복수의 초점들로 포커싱하는 필드 렌즈;를 포함하되,상기 복수의 복소 파면들은 상호 중첩하여 연속적으로 배치되는 망막 투사 표시 장치
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제1 항에 있어서, 상기 복수의 초점들 사이의 간격은 사용자의 눈의 동공의 직경보다 작은 망막 투사 표시 장치
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제1 항에 있어서, 상기 공간 광 변조기는 위상 변조를 수행하는 위상 변조기, 진폭 변조 및 위상 변조를 모두 수행하는 복합 변조기 중 어느 하나인 망막 투사 표시 장치
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제1 항에 있어서, 상기 홀로그래픽 광학 소자는 상기 회절광을 상기 복소파면들 각각으로 복제하는 복수의 간섭 패턴들을 포함하는 다중 홀로그래픽 광학 소자인 망막 투사 표시 장치
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제4 항에 있어서, 상기 홀로그래픽 광학 소자는 포토폴리머로 구성되고, 상기 간섭 패턴들은 체적 격자 형태로 기록되는 망막 투사 표시 장치
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제4 항에 있어서, 상기 홀로그래픽 광학 소자는 적어도 3개의 상기 간섭 패턴들을 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제1 항에 있어서, 상기 공간 광 변조기에서 생성된 회절광을 상기 홀로그래픽 광학 소자에 전달하는 릴레이 광학계를 더 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제7 항에 있어서, 상기 릴레이 광학계를 통해 전달되는 회절광에서 노이즈를 제거하는 노이즈 제거 필터를 더 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제7 항에 있어서, 상기 광원부와 상기 공간 광 변조기 사이에 배치되며, 상기 광원으로부터 출사된 광을 상기 공간 광 변조기로 반사시키고, 상기 공간 광 변조기로부터 출사된 상기 회절광을 상기 릴레이 광학계로 투과시키는 제1 광분기기를 더 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제9 항에 있어서, 상기 릴레이 광학계와 상기 홀로그래픽 광학 소자 사이에 배치되며, 상기 릴레이 광학계로부터 출사된 상기 회절광을 상기 홀로그래픽 광학 소자로 반사시키고, 상기 홀로그래픽 광학 소자로부터 출사된 상기 복소 파면들을 상기 필드 렌즈로 투과시키는 제2 광분기기를 더 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제10 항에 있어서, 상기 제1 광분기기 및 상기 제2 광분기기는 빔스플리터 또는 하프 미러 중 어느 하나인 망막 투사 표시 장치
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제1 항에 있어서, 상기 공간 광 변조기에 위상 프로파일을 제공하는 프로세서를 더 포함하는 망막 투사 표시 장치
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제12 항에 있어서, 상기 프로세서는, 상기 복소 파면들의 결맞음 합에 기초하여 복원된 가상 영상과 타겟 영상 사이의 손실 값을 계산하고, 상기 손실 값이 기설정된 임계값을 초과하는 경우 상기 위상 프로 파일을 업데이트하는 망막 투사 표시 장치
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제13 항에 있어서, 상기 프로세서는 아래 수학식 1로 표현된 손실 함수를 이용하여 상기 손실 값을 산출하는 망막 투사 표시 장치
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제13 항에 있어서, 상기 프로세서는, 상기 손실 함수가 감소하도록 상기 위상 프로파일을 업데이트하는 망막 투사 표시 장치
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광을 제공하는 광원, 상기 광을 회절시켜 회절광을 생성하는 공간 광 변조기, 상기 회절광을 복수의 복소 파면들로 복제하여 반사시키는 홀로그래픽 광학 소자, 및 상기 복소 파면들 각각을 아이 박스 내에 복수의 초점들로 포커싱하는 필드 렌즈를 포함하는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법에 있어서,상기 공간 광 변조기에 임의의 위상 프로파일을 입력하는 단계; 상기 홀로그래픽 광학 소자에 의해 복제된 상기 복소 파면들의 제1 전파 시뮬레이션을 수행하는 단계; 상기 제1 전파 시뮬레이션이 수행된 복소 파면들을 이용하여 가상 영상이 복원되는 지점까지 제2전파 시뮬레이션을 수행하는 단계; 상기 복원된 가상 영상과 타겟 영상 사이의 손실 값을 계산하는 단계; 상기 손실 값이 기 설정된 임계값 이하인지 여부를 판단하는 단계;상기 손실 값이 기 설정된 임계값을 초과하는 경우, 현재의 위상 프로파일을 업데이트하는 단계; 및 상기 손실 값이 상기 임계값 이하인 경우, 상기 업데이트를 종료하는 단계;를 포함하는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법
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제16 항에 있어서, 상기 제1 전파 시뮬레이션을 수행하는 단계는, 상기 복소 파면들의 결맞음 합을 계산하는 단계를 포함하는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법
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제16 항에 있어서, 상기 손실 값을 계산하는 단계는, 아래 수학식 1로 표현된 손실 함수를 이용하는 것을 특징으로 하는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법
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제17 항에 있어서, 가상 영상 (xt, yt)좌표의 신호값은, 위상 프로파일 정보, 및 상기 아이 박스와 상기 가상 영상 사이의 전파 거리에 대한 함수로 모델링된 전파 함수를 이용하여 산출되는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법
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제16 항에 있어서, 상기 현재의 위상 프로파일을 업데이트하는 단계는, 업데이트된 위상 프로파일에 의해 상기 손실 함수가 감소하도록 수행되는 망막 투사 표시 장치의 위상 프로파일 최적화 방법
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