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촉매 기판 상에 그라파이트 함유층을 형성하는 것;상기 그라파이트 함유층의 제1 표면을 표면 처리하여 제1 처리층을 형성하는 것; 및상기 제1 처리층 상에 제1 패시베이션층을 형성하는 것을 포함하고,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 제1 표면의 상기 표면 처리를 통해 상기 그라파이트 함유층이 포함하는 C-O-C 결합을 제거하는 것을 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 제1 표면의 상기 표면 처리를 통해 C=O 결합, C-OH 결합 또는 O=C-OH 결합 중 적어도 하나를 생성하는 것을 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 그라파이트 함유층의 상기 제1 표면을 산소 플라즈마에 노출시키는 것을 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 패시베이션층은 ALD를 통해서 형성되는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 제1 처리층의 표면 거칠기(RMS)가 3
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제1 항에 있어서,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 제1 처리층의 D/G ratio가 0
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제1 항에 있어서,상기 그라파이트 함유층의 제2 표면을 표면 처리하여 제2 처리층을 형성하는 것; 및상기 제2 처리층 상에 제2 패시베이션층을 형성하는 것을 더 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 제2 처리층 및 상기 제2 패시베이션층은 승화 물질로 제1 패시베이션층을 덮은 후 형성되는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1 패시베이션층을 형성하는 것은,상기 제1 패시베이션층이 TiN, BC, BN, SiC, Zr, 또는 Mo 중 적어도 하나를 포함하도록 형성하는 것을 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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10
촉매 기판 상에 그라파이트 함유층을 형성하는 것;상기 그라파이트 함유층의 제1 표면을 표면 처리하여 제1 처리층을 형성하는 것; 및상기 제1 처리층 상에 제1 패시베이션층을 형성하는 것을 포함하고,상기 제1 처리층을 형성하는 것은,상기 제1 표면의 상기 표면 처리를 통해 C=O 결합, C-OH 결합 또는 O=C-OH 결합 중 적어도 하나를 생성하는 것을 포함하는 극자외선 노광용 펠리클의 제조 방법
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