요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
| 요약 |
세륨(Ce+3) 이온에 의한 제거능력을 오랫동안 안정되게 유지하여 실리콘산화막을 효과적으로 제거할 수 있는 기판 폴리싱을 위한 세륨옥사이드-징크옥사이드 합금 연마입자 및 그 제조방법을 제시한다. 그 입자 및 방법은 세륨옥사이드(CeO2)에 징크옥사이드(ZnO)이 고용되어 이루어진 세륨옥사이드-징크옥사이드 연마입자로써, 세륨옥사이드-징크옥사이드 연마입자의 세륨(Ce3+) 이온이 실리콘산화막의 실리케이트(silicate) 이온과 결합하여 실리콘산화막을 제거한다.
|
| Int. CL |
C09K 3/14 (2006.01.01) C01G 9/02 (2006.01.01) C01F 17/235 (2020.01.01)
|
| CPC |
C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01)
|
| 출원번호/일자 |
1020200097884
(2020.08.05)
|
| 출원인 |
주식회사 아이에스티이
|
| 등록번호/일자 |
10-2429708-0000
(2022.08.02)
|
| 공개번호/일자 |
10-2022-0017651
(2022.02.14)
문서열기
|
| 공고번호/일자 |
문서열기
|
| 국제출원번호/일자 |
|
| 국제공개번호/일자 |
|
| 우선권정보 |
|
| 법적상태 |
등록 |
| 심사진행상태 |
|
| 심판사항 |
|
| 구분 |
국내출원/신규 |
| 원출원번호/일자 |
|
| 관련 출원번호 |
|
| 심사청구여부/일자 |
Y
(2020.08.05)
|
| 심사청구항수 |
2 |
