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기판 상에 나노 입자를 도포하는 제1단계;
열처리를 통하여, 상기 나노 입자를 상기 기판 상에 나노 요철로 결합시키는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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제1항에 있어서,
상기 나노 입자는 금속 나노 입자인 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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3
제2항에 있어서,
상기 금속 나노 입자는, 은, 알루미늄, 구리, 철, 백금, 납, 금 및 수은 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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제1항에 있어서,
상기 나노 입자는 직경이 1~100nm인 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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제1항에 있어서,
상기 나노 요철은 직경이 10~1000nm인 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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제1항에 있어서,
상기 나노 입자는 용매에 혼합되어 용액 상태로 상기 기판 상에 도포되는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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7
제1항에 있어서,
상기 용매는 유기 용매 또는 폴리머 수지 용매인 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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8
제1항에 있어서,
상기 기판은 2차원 평탄면 또는 3차원 입체면을 가지는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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9
제1항에 있어서,
상기 제2단계는, 상기 나노 입자의 소결 온도 이상에서 상기 나노 입자를 소결시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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10
제9항에 있어서,
상기 제2단계는, 상기 나노 입자의 소결 온도보다 낮은 온도에서 열처리를 시작하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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11
제1항에 있어서,
상기 기판은 실리콘, 유리, 쿼츠, 플라스틱, 산화물 및 금속 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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12
제11항에 있어서,
상기 산화물 및 금속은 상기 기판의 표면에 막을 이루어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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13
제1항에 있어서,
상기 나노 요철을 마스크로 하여 상기 기판을 식각하고, 상기 나노 요철을 제거하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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14
제1항에 있어서,
상기 나노 요철이 형성된 상기 기판 위에 타켓 물질을 도포한 후, 상기 나노 요철을 제거하는 리프트-오프 공정을 수행하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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15
제1항에 있어서,
상기 나노 요철을 마스크로 하여 선택적으로 상기 나노 요철 이외의 상기 기판의 부위에 타켓 물질을 도포하고, 상기 나노 요철을 제거하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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16
제1항에 있어서,
상기 나노 요철 위에 타겟물질을 선택적으로 도포하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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17
제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타켓 물질은 산화물, 금속 또는 폴리머인 것을 특징으로 하는 나노 구조물 제작방법
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18
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 나노 구조물 제작방법에 의하여 상기 나노 구조물을 제작하는 단계; 및
제작된 상기 나노 구조물을 복제하는 복제단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 제작방법
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19
제18항에 있어서,
상기 복제단계에서는 전주도금, 임프린팅, 사출성형 및 압축성형 중 적어도 하나를 1회 이상 수행하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴 제작방법
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