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다중 입도분포 분말의 균일 원심성형체 제조방법

  • 기술번호 : KST2014011622
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다중 입도 분포 분말과 페놀 수지를 포함하는, 입자들의 분포가 균일한 복합 과립의 제조 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 과립을 사용하여 입자 분리가 없고 균일한 미세구조를 갖는 원심성형체를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 입도 분포가 넓은 다중 입도 분포 혼합 분말과 페놀 수지의 알콜계 슬러리를 비용매인 물에 적하하여 과립을 만들고, 이 과립이 부분적으로 용해되는 물, 알콜 또는 물-알콜 혼합 용매를 사용하여 상기 제조된 과립을 원심성형함으로써 입자 분리가 없고 균일한 충전구조를 갖는 튜브와 같은 실형상 원심성형체를 제조할 수 있다.다중 입도 분포 분말, 과립, 원심성형, 과립 충전, 제조 방법
Int. CL C04B 35/622 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020010047604 (2001.08.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0434830-0000 (2004.05.27)
공개번호/일자 10-2003-0013542 (2003.02.15) 문서열기
공고번호/일자 (20040607) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.08.08)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이해원 대한민국 서울특별시동대문구
2 송휴섭 대한민국 서울특별시강남구
3 이종호 대한민국 서울특별시광진구
4 김주선 대한민국 대전광역시서구
5 신현익 대한민국 서울특별시구로구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2001-0197854-54
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2003.06.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.07.22 수리 (Accepted) 9-1-2003-0031088-72
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2003.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0480800-87
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.01.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0036659-85
7 의견서
Written Opinion
2004.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0036665-59
8 등록결정서
Decision to grant
2004.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0196560-18
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

1) 다중 입도 분포를 갖는 탄화규소 또는 알루미나 원료 분말, 상기 원료 분말 중량의 1 내지 20%의 페놀 수지 및 알콜을 포함하는 균일 혼합물을 제공하는 단계,

2) 상기 혼합물을 물 또는 경화제를 포함하는 물에 적하하고, 교반하여 균일한 과립을 형성하는 단계,

3) 여과 또는 침전에 의해 단계 2)의 혼합물로부터 과립을 분리하고 이를 물로 세척하여 잔류 알콜을 제거하는 단계 및

4) 단계 3)의 분리된 과립을 건조하여 과립에 포함된 액상 매체를 제거하는 건조 단계

를 포함하는, 입도차가 큰 다중 입도 분포 분말과 페놀 수지를 포함하는 균일한 과립의 제조 방법

2 2

삭제

3 3

제1항에 있어서, 단계 2)의 물의 온도가 70 내지 90℃인 방법

4 4

제1항에서 형성된 과립을 몰드에 채우고 과립간에 존재하는 공극 부피의 20 내지 100%의 물, 알콜 또는 물-알콜 혼합 용매를 첨가한 다음, 가열하면서 중력가속도의 2 내지 100배의 원심력을 가하는 것을 포함하는, 입자 분리가 없고 균일한 충전 구조를 갖는 원심성형체의 제조 방법

5 5

제4항에 있어서, 용매가 물인 방법

6 6

제5항에 있어서, 80 내지 110℃로 가열하면서 중력 가속도의 10 내지 100배의 원심력을 가하는 것인 방법

7 7

제4항에 있어서, 용매가 알콜 또는 물-알콜 혼합 용매인 방법

8 8

제7항에 있어서, 40 내지 80℃의 온도에서 중력 가속도의 2 내지 10배의 원심력을 가하는 것인 방법

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제4항에 있어서, 얻어진 원심성형체를 50 내지 80℃에서 성형체 두께에 따라 2 내지 10시간 유지하여 페놀 수지를 완전히 경화시킨 후, 얻어진 성형체를 비활성 기체 분위기 또는 진공 하에서 탈지하여 잔류 탄소를 남기는 탈지 단계를 추가로 포함하는 방법

10 10

제4항에 있어서, 얻어진 원심성형체를 50 내지 80℃에서 성형체 두께에 따라 2 내지 10시간 유지하여 페놀 수지를 완전히 경화시킨 후, 얻어진 성형체를 공기 중에서 탈지하여 잔류 탄소를 제거하는 탈지 단계를 추가로 포함하는 방법

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1 US06913716 US 미국 FAMILY
2 US20030030163 US 미국 FAMILY

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1 US2003030163 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US6913716 US 미국 DOCDBFAMILY
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