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신규한 다공성 고분자 전해질 조성물(Ⅱ) 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015114660
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신규한 다공성 고분자 전해질 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자와 메틸메타크릴레이트 및 말레인산 알카리염이 공중합된 이오노머와의 블랜드를 기초로한 다공성 고분자 전해질 조성물에 관한 것이다.본 발명의 목적은 이온전도 특성, 전기화학적 안정성 및 계면특성이 우수한 새로운 다공성 고분자 전해질 조성물 및 그의 제조방법을 제공함에 있다. 본 발명에 의한 다공성 고분자 전해질 조성물은 유기용매와의 상용성이 향상되어 벌크에서의 이온전도 특성, 계면안정성 등이 향상되고, 전기화학적으로도 안정한 장점을 지닌다.
Int. CL H01M 10/0525 (2010.01) H01M 10/0565 (2010.01) H01M 10/058 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1019990045645 (1999.10.20)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0324712-0000 (2002.02.02)
공개번호/일자 10-2001-0037901 (2001.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (20020216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.10.20)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박정기 대한민국 대전광역시서구
2 이영기 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박형준 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로*길 **, *층 (서초동, 삼호빌딩)(한솔국제특허법률사무소)
2 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1999.10.20 수리 (Accepted) 1-1-1999-0133483-68
2 등록결정서
Decision to grant
2001.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0310801-66
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
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2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1

이차전지용 고분자 전해질 조성물에 있어서,

메틸메타크릴레이트와 말레인산 알카리염이 공중합된 이오노머와 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자가 블랜드된 다공성 고분자 매트릭스와,

상기 다공성 고분자 매트릭스의 공극에 유기용매에 리튬염이 첨가된 액체전해질이 함침되어져 있는 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

2 2

제 1항에 있어서, 메틸메타크릴레이트와 말레인산 알카리염이 공중합된 이오노머와 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자가 블랜드된 다공성 고분자 매트릭스내에서의 조성비는 중량비로서 1:1 내지 1:9인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

3 3

제 1항에 있어서, 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자로는 폴리비닐리덴플루오라이드와 헥사플루오로프로필렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 헥사플루오로프로필렌의 공중합체, 트리플루오로에틸렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 트리플루오로에틸렌의 공중합체 또는 테트라플루오로에틸렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 테트라플루오로에틸렌의 공중합체로 구성된 군에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

4 4

제 1항에 있어서, 유기용매로는 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 감마부틸로락톤, 에틸메틸카보네이트, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄 또는 2-메틸테트라하이드로퓨란으로 구성된 군에서 선택되어진 1종 또는 2종이상의 혼합용매인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

5 5

제 1항에 있어서, 리튬염은 리튬퍼클로레이트, 리튬헥사플루오로포스페이트, 리튬트리플레이트, 리튬비스트리플루오로메틸설포닐아미드 또는 리튬테트라플루오로보레이트염 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

6 6

제 1항에 있어서, 다공성 고분자 매트릭스내로 함침된 액체전해질의 양은 고분자의 무게를 기준으로 하여 50∼300중량%인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

7 7

제 1항에 있어서, 이오노머는 분자량이 10,000 내지 200,000까지이며, 이오노머 내의 이온기의 함량이 2 ∼ 30몰%인 메틸메타크릴레이트와 말레인산 알카리염이 공중합된 고분자인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

8 8

제 1항 또는 제 3항에 있어서, 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자는 분자량이 100,000 내지 350,000인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

9 9

제 1항 또는 제 4항에 있어서, 유기용매는 고분자의 무게를 기준으로 하여 50∼300중량%인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

10 10

제 1항 또는 제 5항에 있어서, 리튬염은 고분자의 무게를 기준으로 하여 5∼30중량%인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

11 11

제 1항 또는 제 7항에 있어서, 말레인산 알카리염은 말레인산 리튬염, 말레인산 칼륨염 또는 말레인산 나트륨염 임을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

12 12

제 1항에 있어서, 다공성 고분자 매트릭스는 얇은 박판의 형태임을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물

13 13

이차전지용 고분자 전해질 조성물의 제조방법에 있어서,

메틸메타크릴레이트와 말레인산 알카리염이 공중합된 이오노머와 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자를 공용매를 이용하여 블랜딩하는 단계;

상기 블랜딩된 용액에 다공성 구조생성을 위한 가소제를 첨가한 후, 전기 용액에 무기물을 첨가하여 제조한 균일한 용액을 유리판에 캐스팅하여 공용매를 증발시킨 후 고분자 필름을 얻는 단계;

상기 고분자 필름을 메탄올 또는 디에틸에테르에 함침시켜 상기 필름속의 가소제만을 선택적으로 녹여내어 다공성 고분자 필름을 얻는 단계; 및

상기 다공성 고분자 필름을 하기(Ⅰ)의 용매에 하기(Ⅱ)의 리튬염을 용해시켜 제조한 액체전해질에 함침시키는 단계로 구성되어지는 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물의 제조방법

14 14

제 13항에 있어서, 비닐리덴플루오라이드 계열의 고분자로는 폴리비닐리덴플루오라이드와 헥사플루오로프로필렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 헥사플루오로프로필렌의 공중합체, 트리플루오로에틸렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 트리플루오로에틸렌의 공중합체 또는 테트라플루오로에틸렌의 조성이 1 ∼ 30몰%인 비닐리덴플루오라이드와 테트라플루오로에틸렌의 공중합체로 구성된 군에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물의 제조방법

15 15

제 13항에 있어서, 가소제는 디메틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트 또는 디옥틸프탈레이트로 구성된 군에서 선택되어지는 1종의 것으로서, 고분자를 기준으로 하여 50∼300중량% 첨가하는 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물의 제조방법

16 16

제 13항에 있어서, 무기물은 알루미늄옥사이드, 리튬알루미늄옥사이드, 실리카 또는 제올라이트로 구성된 군에서 선택된 1종의 것으로서, 고분자를 기준으로 하여 5∼50중량% 첨가하는 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물의 제조방법

17 17

제 13항에 있어서, 공용매는 테트라하이드로퓨란 또는 아세톤인 것을 특징으로 하는 다공성 고분자 전해질 조성물의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.