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리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법

  • 기술번호 : KST2015111783
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리튬이차전지 음극용 탄소재의 코팅방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 리튬이온 이차전지의 부극용 활물질로서 주로 사용하는 고결정질 탄소재에 우수한 표면특성의 탄소재를 코팅함으로써 리튬이온 이차전지의 고에너지 밀도화, 고성능화를 위한 리튬이차전지 음극용 탄소재의 코팅방법에 관한 것이다. 본 발명은 기존의 CVD법을 응용한 텀블링(tumbling) CVD법을 사용하여 우수한 표면특성을 갖는 탄소재를 고결정질 탄소재의 표면에 코팅함으로써 고결정질 탄소계의 표면특성에 의해 첫번째 충방전사이클에서 나타나는 큰 비가역용량과 프로필렌 카보네이트(propylene carbonate, PC)계 전해질과의 낮은 친화성(poor compat ibility)과 같은 단점을 해결하여 고결정질 탄소재의 우수한 벌크(bulk) 특성과 고결정질 탄소재의 표면에 코팅된 탄소재의 우수한 표면특성을 동시에 이용함으로써 고용량, 고성능의 리튬이온 이차전지를 위해서 음극 활물질로 사용할 수 있는 탄소재의 코팅방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
Int. CL H01M 10/0525 (2010.01) H01M 4/583 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1020000044367 (2000.07.31)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0377540-0000 (2003.03.12)
공개번호/일자 10-2002-0010843 (2002.02.06) 문서열기
공고번호/일자 (20030326) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.07.31)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재영 대한민국 대전광역시유성구
2 한영수 대한민국 대전광역시유성구
3 박성철 대한민국 대전광역시유성구
4 한상철 대한민국 대전광역시유성구
5 강용묵 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2000-0160787-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.03.22 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2002-0003112-45
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0180849-19
5 의견서
Written Opinion		 2002.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2002-0238985-67
6 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2002.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2002-5185587-16
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.07.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0238986-13
8 등록결정서
Decision to grant		 2002.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0452197-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅에 있어서,

고결정질 탄소재를 길이방향으로 파인 홈을 가지는 반응관에 주입하는 단계와,

반응관을 탄화수소가스를 열분해 반응시킬 수 있는 온도까지 가열하는 단계와,

반응관을 회전시키면서 탄화수소가스를 반응관에 공급하여 고결정질 탄소재 표면에 열분해 탄소를 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
2 2

제 1항에 있어서, 고결정질 탄소재는 천연흑연(natural graphite), 키시흑연 (Kish graphite, KG), SFG 시리즈(SFG-6, SFG-15), 고방향 피롤리틱 흑연(highly oriented pyrolytic graphite), MPCF(Mesophase pitch based carbon fiber), MCMB 시리즈(MCMB 2800, MCMB 2700, MCMB 2500) 중에서 선택된 한가지인 것을 특징으로 하는 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
3 3

제 1항에 있어서, 탄화수소가스는 액화 프로판 가스(C3H8, LPG), 메탄(CH4), 부탄(C4H10), 벤젠(C6H6) 중에서 선택된 한가지인 것을 특징으로 하는 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
4 4

제 2항에 있어서, 고결정질 탄소재는 2000℃ 이상의 온도로 열처리되어 결정화된 구조(ordered structure)인 것을 특징으로 하는 리튬이차전지 음극 활물질용 탄소재의 코팅방법
5 5

특허청구범위 제1항 내지 제4항중 선택된 어느 한항의 방법에 의해 열분해 탄소가 표면에 코팅된 고결정질 탄소재를 리튬이차전지 음극 활물질로 사용하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.