맞춤기술찾기

이전대상기술

벤족사졸 발색단을 갖는 2차 비선형 광학 폴리이미드

  • 기술번호 : KST2015120387
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 2차 비선형 광학 폴리이미드 및 이를 사용하여 제조되는 비선형 광학 재료에 관한 것이다. 본 발명의 2차 비선형 광학 폴리이미드 화합물은 높은 내열성, 높은 유리 전이 온도, 및 유기 용매에 대한 우수한 용해성을 갖고 있을 뿐만 아니라, 전기 광학 계수의 열안정성이 우수하다.식 중,Ar1은,,,,또는 이고,Ar2는,또는이며,R은또는로 표시되는 벤족사졸 발색단이고,X는 S, O 또는 NH이며,y는 1 내지 6의 값을 갖고,EWG는 NO2, CH=C(CN)2, C(CN)=C(CN)2,,,또는 이다.
Int. CL C08G 73/10 (2006.01) G02F 1/35 (2006.01) C08G 73/06 (2006.01)
CPC C08G 73/10(2013.01) C08G 73/10(2013.01) C08G 73/10(2013.01) C08G 73/10(2013.01)
출원번호/일자 1019970054186 (1997.10.22)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0217537-0000 (1999.06.04)
공개번호/일자 10-1999-0032963 (1999.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (19990901) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.10.22)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 송상엽 대한민국 서울특별시 양천구
2 이철주 대한민국 서울특별시 동대문구
3 박기홍 대한민국 서울특별시 성북구
4 곽미경 대한민국 서울특별시 동대문구
5 김낙중 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1997.10.22 수리 (Accepted) 1-1-1997-0171691-69
2 특허출원서
Patent Application
1997.10.22 수리 (Accepted) 1-1-1997-0171689-77
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.10.22 수리 (Accepted) 1-1-1997-0171690-13
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
9 등록사정서
Decision to grant
1999.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0161196-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

하기 화학식 1로 표시되는 2차 비선형 광학 폴리이미드

2 2

제1항 기재의 2차 비선형 광학 폴리이미드로 제조되는 2차 비선형 광학 재료

3 3

비스아미노페놀과 이무수화물을 NMP 존재하에 반응시켜 히드록시기 함유 폴리이미드를 합성하는 단계, 및

합성 생성물을 벤족사졸계 발색단과 반응시키는 단계

를 포함하는 제1항 기재의 2차 비선형 광학 폴리이미드의 제조 방법

4 4

제3항에 있어서, 비스아미노페놀이 3,3-디히드록시벤지딘 및 2,2-비스(3-아미노-4-히드록시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 (6FBAH)으로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물이고, 이무수화물이 피로멜리트산 이무수화물 (PMDA) 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)-디프탈산 이무수화물 (6FDA)로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물인 제1항 기재의 2차 비선형 광학 폴리이미드의 제조 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.