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바이러스 플라크 제조방법

  • 기술번호 : KST2015160839
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 바이러스 플라크 제조방법에 관한 것으로, 특히 본 발명의 일특징에 따라 바이러스 플라크 에세이(Plaque assay)용 기판 제조를 위하여 고형화된 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS) 표면에 음각 패턴을 형성하여 PDMS 기판을 제작한 후, 상기 제작된 PDMS 기판의 양각 패널에 고분자 물질층을 도포함과 동시에 음각 패턴에 감염대상세포를 배양하여 세포 어레이를 제작한 다음, 상기 배양된 세포에 바이러스를 감염 및 배양시켜 바이러스 플라크를 형성하는 단계를 포함하는 바이러스 플라크 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 바이러스 플라크 형성방법을 표준화할 수 있으며, 공정 효율 및 생산성이 매우 우수하고, 이종 바이러스 혼합물로부터 특정 바이러스를 분리 정제 및 정량하는 것이 가능하다.바이러스 플라크, PDMS 기판, 세포 어레이
Int. CL C12N 7/08 (2006.01) C12N 7/00 (2006.01)
CPC C12N 7/00(2013.01) C12N 7/00(2013.01)
출원번호/일자 1020060071295 (2006.07.28)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0772035-0000 (2007.10.25)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20071031) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.28)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 현진호 대한민국 서울시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 천성진 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)(특허법인 무한)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0545397-92
2 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2006.08.09 수리 (Accepted) 1-1-2006-0568233-07
3 등록결정서
Decision to grant
2007.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0407722-16
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
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번호 청구항
1 1
음각 패턴이 형성된 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS) 기판을 제작하는 단계; PDMS 기판의 양각 패널에 고분자 물질층을 도포함과 동시에 음각 패턴에 감염대상 세포를 배양하여 세포 어레이를 제작하는 단계; 및 상기 배양된 세포에 바이러스를 감염 및 배양시켜 바이러스 플라크를 형성하는 단계를 포함하는 바이러스 플라크 제조방법
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제1항에 있어서,상기 PDMS 기판의 제작은 ⅰ) 웨이퍼 상에 포토레지스트 조성물을 도포하는 단계, ⅱ) 상기 도포되어 형성된 포토레지스트 층을 노광, 현상, 및 건조하여 채널 패턴을 형성하는 단계, ⅲ) 상기 채널 패턴이 형성된 웨이퍼 상에 PDMS를 도포하고 건조시켜 PDMS를 고형화시키는 단계, 및 ⅳ) 상기 고형화된 PDMS를 웨이퍼로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 바이러스 플라크 제조방법
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제2항에 있어서,상기 포토레지스트 조성물이 네가티브형(negative type)인 것을 특징으로 하는 바이러스 플라크 제조방법
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제1항에 있어서,상기 PDMS 기판 제작 후 광조사에 의하여 표면 개질하는 단계를 더 실시하는 것을 특징으로 하는 바이러스 플라크 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 물질층이 폴리에틸렌 글리콜(polyethylene glycol, PEG)계 고분자, 상기 PEG를 측쇄로 하는 양친성 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA), 또는 이들의 혼합물로 형성되는 것을 특징으로 하는 바이러스 플라크 제조방법
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제1항에 있어서,상기 바이러스로 감염 후 아가로오스 배지를 도포하고 고형화시킨 다음, 배양하여 바이러스 플라크를 형성하는 것을 특징으로 하는 바이러스 플라크 제조방법
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국가 R&D 정보가 없습니다.