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3축방향으로 이동이 가능한 정렬플레이트(100);상기 정렬플레이트(100)에 의해 지지되고 수용된 전해액에 전극(210)이 구비되는 반응수조(200);상기 반응수조(200)에 투입되는 광섬유 프로브(310)를 고정하도록 상기 반응수조(200)에 장착되는 광섬유 홀더(300);상기 광섬유 프로브(310)에 대향되도록 배치되어 전해방전반응을 통해 상기 광섬유 프로브(310)를 가공하는 가공툴(410);상기 가공툴(410)을 고정하기 위한 가공툴 홀더(400);상기 가공툴 홀더(400)를 이송시키기 위한 이송유닛; 및상기 가공툴(410) 및 전극(210)에 전압을 공급하기 위한 전원공급기(600);를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서,상기 가공툴(410) 및 광섬유 프로브(310)의 영상신호를 제공하는 촬영부(710)와, 상기 촬영부(710)에서 제공된 영상신호를 디스플레이하는 디스플레이부(720)와, 상기 영상신호를 분석하여 상기 가공툴(410) 및 광섬유 프로브(310)의 정렬을 위한 작동신호를 상기 정렬플레이트(100)에 인가하는 제어부(700)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서,상기 광섬유 홀더(300)는 상기 반응수조(200)의 중앙부에 관통되어 설치되는 홀더파이프(320)와, 상기 광섬유 프로브(310)가 반응수조(200)내 전해액에 노출되도록 고정튜브(301)를 통해 광섬유 프로브(310)의 상부측을 고정하여 상기 홀더파이프(320)의 상단에 장착되는 상부 고정구(330)와, 고정튜브(301)를 통해 광섬유 프로브(310)의 하부측을 고정하여 홀더파이프(320)의 하단에 장착되는 하부 고정구(340)와, 상기 반응수조(200)의 기밀이 유지되도록 상기 반응수조(200)와 홀더파이프(320) 사이에 설치되는 실링부재(350)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서,상기 정렬플레이트(100)는 X축 방향으로 이동되도록 X축 액츄에이터(111)에 구동연결되는 X축 플레이트(110)와, Y축 방향으로 이동되도록 Y축 액츄에이터(121)에 구동연결되는 Y축 플레이트(120)와, Z축 방향으로 이동되도록 Z축 액츄에이터(131)에 구동연결되는 Z축 플레이트(130)가 상호 적층되어 구성되는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서,상기 이송유닛은 베이스플레이트(510)와, 상기 베이스플레이트(510)상에 상하방향으로 연장 형성되고 일측에 고정편이 마련되는 지지바(520)와, 상기 고정편에 상하 슬라이딩 이동 가능하게 설치되는 이송편(530)과, 상기 이송편(530)에 고정되어 상기 가공툴 홀더(400)가 장착되는 클램프(540)와, 상기 이송편(530)을 이동시키기 위한 이송 액츄에이터(550)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서, 상기 전원공급기(600)의 공급전압은 20~45V 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 1에 있어서, 상기 반응수조(200)에 수용되는 전해액의 농도는 20~50wt% 범위를 만족하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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청구항 5에 있어서,상기 가공툴 홀더(400)는 상기 클램프(540)에 고정되는 회전모터(420)와, 회전가능하도록 상기 회전모터(420)에 구동연결되고 상기 가공툴(410)이 파지되는 회전구(430)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조장치
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가공툴 및 광섬유 프로브를 반응수조 내에 서로 대향되게 배치하는 단계;상기 가공툴 및 광섬유 프로브의 배치상태를 촬영하는 단계;촬영된 가공툴 및 광섬유 프로브의 이미지를 분석하여 상기 가공툴 및 광섬유 프로브를 동일 선상에 정렬하는 단계;상기 반응수조 내에 전해액을 주입하는 단계;상기 가공툴 및 전극에 전압을 공급하는 단계; 및상기 가공툴을 광섬유 프로브의 위치 방향으로 이동시키면서 광섬유 프로브를 가공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 가공툴 및 광섬유 프로브를 동일 선상에 정렬하는 단계는, 촬영부를 통해 촬영된 영상신호로부터 가공툴 및 광섬유 프로브의 위치정보를 이미지한 후, 이미지된 위치정보와 기 입력된 정렬 위치정보가 서로 일치되도록 반응수조가 고정된 정렬플레이트를 X,Y,Z축 방향으로 이동시켜 정렬하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 9에 있어서, 상기 광섬유 프로브를 가공하는 단계는, 상기 광섬유 프로브의 가공면에 대한 거칠기가 향상되도록 상기 가공툴을 회전시키는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 10에 있어서, 상기 가공툴 및 광섬유 프로브를 동일 선상에 정렬하는 단계는, 상기 정렬플레이트의 이동 오차를 보상하기 위해, 상기 이미지된 위치정보와 기 입력된 정렬 위치정보에 일치될 때까지 청구항 10의 과정을 반복하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 11에 있어서, 상기 광섬유 프로브를 가공하는 단계는, 가공툴의 회전속도를 1~15rpm 범위로 유지하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 11에 있어서, 상기 가공툴 및 전극에 전압을 공급하는 단계는, 공급 전압을 20~45V 범위로 유지하고 전해액의 농도를 20~50wt% 범위로 유지하는 것을 특징으로 하는 전해방전가공을 이용한 광섬유 프로브 제조방법
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청구항 14에 있어서, 상기 광섬유 프로브를 가공하는 단계는, 가공툴의 이동속도를 0
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