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기판;상기 기판 상에 형성되는 하드 코팅층; 및상기 하드 코팅층 상에 형성되는 인덱스 매칭층을 포함하되,상기 하드 코팅층은 나노 입자를 함유하는 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 아크릴 재질로 구성되는 코팅 기판
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제 2 항에 있어서,상기 기판은 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA)로 만들어지는 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 나노 입자는 티타늄 계열 나노 입자 및 규소 계열 나노 입자 중 적어도 하나를 포함하는 코팅 기판
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제 4 항에 있어서,상기 티타늄 계열 나노 입자는 TiO2 나노 입자를 포함하고, 상기 규소 계열 나노 입자는 SiO2 나노 입자를 포함하는 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 나노 입자의 사이즈는 1 내지 20 nm인 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 하드 코팅층은 1
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제 1 항에 있어서,상기 인덱스 매칭층은 1
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제 1 항에 있어서,상기 하드 코팅층은 상기 기판의 양면에 형성되고,상기 인덱스 매칭층은 상기 양면 중 어느 한 면의 하드 코팅층 상에 형성되는 코팅 기판
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기판 상에 하드 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 하드 코팅층 상에 인덱스 매칭층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 하드 코팅층은 나노 입자를 함유하는 기판 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 기판 상에 하드 코팅층을 형성하는 단계는:상기 기판 상에 하드 코팅 용액을 도포하는 단계; 및상기 하드 코팅 용액을 경화시키는 단계;를 포함하는 기판 코팅 방법
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제 11 항에 있어서,상기 하드 코팅 용액은 티타늄 계열 나노 입자 및 규소 계열 나노 입자 중 적어도 하나를 함유하는 기판 코팅 방법
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제 12 항에 있어서,상기 티타늄 계열 나노 입자는 TiO2 나노 입자를 포함하고, 상기 규소 계열 나노 입자는 SiO2 나노 입자를 포함하는 기판 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 나노 입자의 사이즈는 1 내지 20 nm인 기판 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 하드 코팅층은 1
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제 10 항에 있어서,상기 인덱스 매칭층을 형성하는 단계는:상기 하드 코팅층 상에 인덱스 매칭 용액을 도포하는 단계; 및상기 인덱스 매칭 용액을 경화시키는 단계;를 포함하는 기판 코팅 방법
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제 10 항에 있어서,상기 인덱스 매칭층은 1
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제 10 항에 있어서,상기 하드 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 기판의 양면에 상기 하드 코팅층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 인덱스 매칭층을 형성하는 단계는, 상기 양면 중 어느 한 면의 하드 코팅층 상에 상기 인덱스 매칭층을 형성하는 단계를 포함하는 기판 코팅 방법
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기판;상기 기판 상에 형성되는 하드 코팅층;상기 하드 코팅층 상에 형성되는 인덱스 매칭층; 및상기 인덱스 매칭층 상에 형성되는 투명 전극을 포함하되,상기 하드 코팅층은 나노 입자를 함유하는 터치 패널
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기판 상에 하드 코팅층을 형성하는 단계;상기 하드 코팅층 상에 인덱스 매칭층을 형성하는 단계; 및상기 인덱스 매칭층 상에 투명 전극을 형성하는 단계를 포함하되,상기 하드 코팅층은 나노 입자를 함유하는 터치 패널 제조 방법
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