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산으로 전처리되어 표면이 활성화된 탄소나노구조체, 구리 나노입자, 바인더 및 용매를 포함하는 백색광 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물로서,상기 탄소나노구조체는 평균 길이 1 ㎛ 내지 500 ㎛의 탄소나노튜브로서 상기 조성물 총 중량을 기준으로 0
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제1항에 있어서, 상기 전처리는 염산, 황산, 질산 또는 그 혼합물 용액에 탄소나노튜브, 그래핀 또는 그 혼합물을 첨가 및 교반하여 반응시킨 후, 세척함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 용매는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세린, 이소프로필 알코올, 2-메톡시 에탄올, 펜틸 알코올, 헥실 알코올, 부틸 알코올, 옥틸 알코올, 포름 아미드, 메틸에틸케톤, 에틸알코올, 메틸알코올, 아세톤 또는 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 바인더는 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리비닐알콜 (PVA), 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌글리콜, 폴리메틸메타크릴레이트, 덱스트란, 아조비스, 도데실벤젠황산나트륨 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 바인더의 중량평균분자량은 10,000 내지 500,000이며, 그 함량은 상기 조성물 총 중량을 기준으로 1 중량% 내지 50 중량%인 것을 특징으로 하는 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물
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탄소나노구조체를 산으로 전처리하여 표면을 활성화시키는 단계;상기 탄소나노구조체, 바인더 및 구리 나노입자를 용매에 분산시킴으로써 광소결에 의한 전도성 구리 패턴 형성용 조성물을 제조하는 단계;상기 전도성 구리 패턴 형성용 조성물을 기판 상에 코팅 및 건조하는 단계; 및상기 코팅 결과물을 제논 플래쉬 램프로부터 조사된 백색광을 이용하여 광소결시키는 단계를 포함하며,상기 탄소나노구조체는 평균 길이 1 ㎛ 내지 500 ㎛의 탄소나노튜브로서 상기 조성물 총 중량을 기준으로 0
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제8항에 있어서, 상기 탄소나노구조체, 바인더 및 구리 나노입자를 용매에 분산시키는 단계는 초음파 분산기, 기계식 교반기, 볼밀 또는 3 롤밀을 사용하여 5 분 내지 60 분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 구리 패턴의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 전도성 구리 패턴 형성용 조성물의 코팅 단계는 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅, 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅 (gravure-offset printing), 플렉소 프린팅 (flexography printing) 또는 스핀 코팅 (spin coating)에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 구리 패턴의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 기판은 포토페이퍼, PET, 종이, 유리, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN), 아크릴 수지, 내열성 에폭시 (Epoxy), BT 에폭시/유리 섬유, 초산비닐수지 (EVA), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 이루어진 기판인 것을 특징으로 하는 전도성 구리 패턴의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 광소결 단계는 상기 백색광을 조사하기 이전에, 80 ℃ 내지 110 ℃의 온도에서 5 분 내지 60 분 동안 예열하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 구리 패턴의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제논 플래쉬 램프의 광조사 시간은 0
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제8항에 있어서, 상기 제논 플래쉬 램프의 광강도 (intensity)는 7
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