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기판;상기 기판상에 설치되며, 복수의 관통 구멍을 구비하여 브리지 형태를 형성하는 멤브레인;브리지 형태를 형성하는 상기 멤브레인 상부의 일부에 형성되는 마이크로 히터;상기 마이크로 히터 상부에 설치되며, 복수의 관통 구멍을 구비하여 브리지 형태를 형성하는 절연막; 브리지 형태를 형성하는 상기 절연막 상부의 일부에 형성되는 감지 전극; 및상기 감지 전극 위에 형성된 감지 물질;을 포함하고,상기 마이크로 히터는 대칭되는 2개의 브리지를 관통하여 연결되고, 상기 마이크로 히터의 일부가 상기 브리지 형태를 형성하는 멤브레인의 복수의 관통 구멍의 내측 중앙부 영역에서 'ㄹ'형의 패턴을 형성하고,상기 감지 전극은 복수 개의 분리된 형태의 감지 전극으로 구성되고, 상기 분리된 감지 전극 각각은 1개의 브리지를 관통하되 상기 마이크로 히터의 'ㄹ'형 패턴 영역 전에서 단절되어 분리되며, 1개의 브리지를 관통한 상기 감지 전극의 일단이 상기 마이크로 히터의 'ㄹ'형 패턴과 평행하도록 절곡되게 형성되고,상기 감지 물질은 상기 브리지 형태를 형성하는 복수의 관통 구멍의 내측 영역에 도포되는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서
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제1항에 있어서,상기 기판은,실리콘 재질로 상기 멤브레인의 하부에 소정 깊이의 캐비티가 형성된 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은,실리콘 질화막(Si3N4), 실리콘 산화막(SiO2) 및 실리콘 산화질화막(SiON) 중 어느 하나 또는 복수의 적층으로 이루어지며,상기 절연막은 상기 기판, 마이크로 히터 및 감지 전극을 전기적으로 절연시키고, 실리콘 산화막(SiO2) 및 실리콘 질화막(Si3N4) 중 어느 하나 또는 복수의 적층으로 이루어지며,상기 절연막과 멤브레인을 RIE (Reactive Ion Etching) 식각하여 XeF2 가스에 의한 Si 식각을 위한 오픈 윈도우를 형성한 후, XeF2 가스를 이용하여 Si을 등방성 건식 식각하여 브리지 형태를 형성하는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서
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제1항에 있어서,상기 절연막의 양 끝단을 식각하여 형성되고, 상기 마이크로 히터에 와이어 본딩되는 와이어 본딩 패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서
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실리콘 재질의 기판 상에 설치되는 멤브레인 상에 마이크로 히터를 형성하는 단계;상기 마이크로 히터 상부에 설치되고, 상기 마이크로 히터를 감싸며 형성되는 절연막을 형성하는 단계; 상기 절연막의 상부에 감지 전극을 형성하는 단계;상기 멤브레인 및 절연막을 식각하여 복수의 관통 구멍을 형성함으로써 상기 멤브레인 및 절연막에 브리지 형태를 형성하는 단계; 및상기 감지 전극 위에 감지물질을 도포하는 단계;를 포함하고,상기 마이크로 히터는 대칭되는 2개의 브리지를 관통하여 연결되고, 상기 마이크로 히터의 일부가 상기 브리지 형태를 형성하는 멤브레인의 복수의 관통 구멍의 내측 중앙부 영역에서 'ㄹ'형의 패턴을 형성하고,상기 감지 전극은 복수 개의 분리된 형태의 감지 전극으로 구성되고, 상기 분리된 감지 전극 각각은 1개의 브리지를 관통하되 상기 마이크로 히터의 'ㄹ'형 패턴 영역 전에서 단절되어 분리되며, 1개의 브리지를 관통한 상기 감지 전극의 일단이 상기 마이크로 히터의 'ㄹ'형 패턴과 평행하도록 절곡되게 형성되고,상기 감지 물질은 상기 브리지 형태를 형성하는 복수의 관통 구멍의 내측 영역에 도포되는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 감지 전극 위에 감지물질을 도포하는 단계 이전에, 상기 멤브레인의 브리지 형태의 하부에 상기 기판의 소정 깊이까지 캐비티가 형성되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 멤브레인은 실리콘 질화막(Si3N4), 실리콘 산화막(SiO2) 및 실리콘 산화질화막(SiON) 중 어느 하나 또는 복수의 적층으로 이루어지며,상기 절연막은 상기 기판, 마이크로 히터 및 감지 전극을 전기적으로 절연시키고, 실리콘 산화막(SiO2) 및 실리콘 질화막(Si3N4) 중 어느 하나 또는 복수의 적층으로 이루어지며,상기 멤브레인 및 절연막을 식각하여 복수의 관통 구멍을 형성함으로써 상기 멤브레인 및 절연막에 브리지 형태의 패턴을 형성하는 단계는,XeF2 가스를 이용하여 기판 상부를 등방성 건식 식각하여 브리지 형태를 형성하는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 절연막의 양 끝단을 식각하여 상기 마이크로 히터에 와이어 본딩되는 와이어 본딩 패드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 브리지형 마이크로 가스센서의 제조방법
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