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표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자의 제조장치, 그 제조방법 및 이를 이용한 상기 수화겔 입자의 제조방법(Device for manufacturing vertically encoded hydrogel microparticles for multiplexed detection of target biological molecules, method for preparing the same, and method for preparing the microparticles using the device)

  • 기술번호 : KST2018000202
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자의 제조장치, 그 제조방법 및 이를 이용한 상기 수화겔 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는, 분석대상 시료 중 검출대상이 되는 생체 분자에 특이적으로 결합하는 물질 및 고분자 전구체 유체가 소통되는 제1 채널; 상기 제2 채널 상부 또는 하부에 수직 적층되며 고분자 전구체 및 상기 생체 분자에 특이적으로 결합하는 물질을 형광 분석하기 위한 형광 염료가 소통되는 제2 채널; 및 상기 제1 채널 및 제2 채널과 소통되며, 상기 제1 채널 및 상기 제2 채널 내부의 유체 흐름을 조절하기 위한 가압 수단을 포함하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자의 제조장치, 그 제조방법 및 이를 이용한 상기 수화겔 입자의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 마이크로입자들의 생산량을 증가시키는 동시에, 외부 자극에 영향을 받지 않고 마이크로입자들의 불량도를 낮추어 품질을 향상시킬 수 있으며, 부호화 부분에 기하학적 패턴 대신 형광 염료를 사용하여 부호화함으로써 암호 해독시 에러 발생률을 획기적으로 낮출 수 있고, 적층 수 및 형광 염료의 파장 조절 등을 통해서 부호화 영역 및 코드 영역을 용이하게 증가시키는 것이 가능한, 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자의 제조장치, 그 제조방법 및 이를 이용한 상기 수화겔 입자의 제조방법을 제공할 수 있다.
Int. CL G01N 33/532 (2016.08.05) G01N 33/533 (2016.08.05) G01N 33/534 (2016.08.05) G01N 33/543 (2016.08.05) B01L 3/00 (2016.08.05) C08J 3/075 (2016.08.05) C08J 3/24 (2016.08.05) C08J 3/12 (2016.08.05)
CPC G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01) G01N 33/532(2013.01)
출원번호/일자 1020160085486 (2016.07.06)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0005428 (2018.01.16) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.07.06)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 봉기완 대한민국 서울특별시 마포구
2 노윤호 대한민국 경기도 과천시 별양로

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정은열 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, ***호(정앤김특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2016-0653998-12
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.05.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.08.09 수리 (Accepted) 9-1-2017-0026139-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0609606-56
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-1063926-87
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2017-1192096-88
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0000921-50
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0060941-58
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-0060942-04
10 등록결정서
Decision to grant		 2018.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0413157-06
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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포토리소그라피 공정에 의해서 각각 제1 채널 및 제2 채널이 양각 패터닝된 제1 및 제2 마스터 웨이퍼를 제조하는 단계;상기 제1 및 제2 마스터 웨이퍼 상에 고분자 전구체 용액을 붓고 열경화시킨 후, 상기 제1 및 제2 마스터 웨이퍼와 경화된 고분자를 분리함으로써 각각 제1 채널 및 제2 채널이 음각 패터닝된 제1 고분자 주형 및 제2 채널 형성부를 제조하는 단계;상기 제1 고분자 주형에 자외선 경화성 고분자 용액을 붓고 자외선 조사를 통해서 경화시킴으로써 상기 제1 채널이 양각 패터닝된 제1 채널 형성용 스탬프를 제조하는 단계;유리 슬라이드 상에 상기 고분자 전구체 용액을 코팅하고 부분 경화시키는 단계;상기 부분 경화된 고분자 표면에 상기 제1 채널 형성용 스탬프를 날인함으로써 제1 채널이 표면에 형성된 제1 채널 형성부를 제조하는 단계; 및상기 제1 채널 형성부와 상기 제2 채널 형성부를 결합시키는 단계를 포함하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 마스터 웨이퍼는 에폭시 수지 계열의 고분자 수지인 것을 특징으로 하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 고분자 전구체 용액은 폴리디메틸실록산을 함유하는 용액인 것을 특징으로 하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 부분 경화는 상기 유리 슬라이드 상에 고분자를 코팅하고 30 ℃ 내지 150 ℃에서 5분 내지 20분 동안 방치함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제1 채널 형성용 스탬프를 날인한 후, 상기 제1 채널 형성부와 상기 제2 채널 형성부를 결합시키기 이전에, 30 ℃ 내지 150 ℃에서 5분 내지 20분 동안 추가적 부분 경화를 수행하는 것을 특징으로 하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제1 채널 형성부와 상기 제2 채널 형성부를 결합시킨 후 30 ℃ 내지 150 ℃에서 3시간 이상 방치하는 것을 특징으로 하는 표적 생체 분자 다중 검출을 위한 적층 부호화 수화겔 입자 제조장치의 제조방법
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1 미래창조과학부 고려대학교 산학협력단 이공분야기초연구사업(신진-유형2) 생체 분자의 고감도 다중 검출을 위한 적층 엔코드 하이드로젤 입자의 개발