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고유전율 나노 입자가 배합된 고분자 분산형 액정 및 이를 이용한 액정 표시장치

기술번호 : KST2019023631
담당센터 : 대구기술혁신센터
전화번호 : 053-550-1450

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 가시광선 파장대보다 작은 직경을 가지는 액정 방울이 고분자에 분산되고, 고분자에 도핑된 고유전율 나노 입자를 포함하는 고분자 분산형 액정 및 이를 이용한 액정 표시장치에 관한 것이다. 나노 크기의 액정 방울을 사용함으로써 액정 방울 자체로 인한 가시광선의 산란을 방지할 수 있으며, 고분자와 액정 방울 계면에 잡혀 있는 액정 분자가 증가한다. 따라서 액정 방울로 인한 빛의 산란에 의한 편광도 저하를 방지하여, 오프 상태일 때의 빛샘이나 온 상태일 때의 투과율 저하로 인한 휘도 저하를 방지하여 콘트라스트비를 개선할 수 있으며, 액정 분자들이 빠르게 반응할 수 있다. 아울러, 고유전율 나노 입자를 고분자에 도핑함으로써, 액정 방울의 크기 감소로 인한 구동 전압이 증가하는 것을 방지할 수 있다. 따라서 저전압에서 구동 가능하며, 응답 속도가 개선된 액정 표시장치에 적용될 수 있다.
Int. CL	G02F 1/1334 (2006.01.01) C08L 101/00 (2006.01.01)
CPC	G02F 1/1334(2013.01) G02F 1/1334(2013.01)
출원번호/일자	1020150181767 (2015.12.18)
출원인	엘지디스플레이 주식회사, 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자	10-1971073-0000 (2019.04.16)
공개번호/일자	10-2017-0073782 (2017.06.29) 문서열기
공고번호/일자	(20190423) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항	심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2015.12.18)
심사청구항수	10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사	대한민국	서울특별시 영등포구
2	경북대학교 산학협력단	대한민국	대구광역시 북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	고정훈	대한민국	울산광역시 남구
2	백지호	대한민국	경기 파주시 책향기로 *,
3	김학린	대한민국	대구광역시 북구
4	박지섭	대한민국	경북 구미시
5	심규엽	대한민국	대구광역시 동구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	네이트특허법인	대한민국	서울특별시 강남구 역삼로 *, *호(역삼동, 하나빌딩)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	엘지디스플레이 주식회사		서울특별시 영등포구
2	경북대학교 산학협력단		대구광역시 북구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2015.12.18	수리 (Accepted)	1-1-2015-1244556-63
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2016.11.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2016.12.20	수리 (Accepted)	9-1-2016-0053152-61
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2017.01.03	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0007563-27
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2017.03.03	수리 (Accepted)	1-1-2017-0215157-25
6	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2017.06.09	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0404316-13
7	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2017.07.05	수리 (Accepted)	1-1-2017-0645302-79
8	[명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination)	2017.07.05	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2017-0645301-23
9	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2017.07.19	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0505423-92
10	심사관의견요청서 Request for Opinion of Examiner	2017.10.13	수리 (Accepted)	7-8-2017-0024246-69
11	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.03.26	수리 (Accepted)	4-1-2018-5051994-32
12	등록결정서 Decision to grant	2019.03.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0218321-58
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2020.06.23	수리 (Accepted)	4-1-2020-5136893-04

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 고분자 매트릭스에 분산되어 있는 액정 방울(droplet)은 100 nm ~ 300 nm 범위의 평균 직경을 가지며, 상기 액정 방울 내에 형성되는 액정 분자의 유전율은 상기 고분자 매트릭스를 구성하는 고분자의 유전율보다 크고, 고분자 매트릭스에 상기 액정 분자의 유전율보다 큰 유전율을 가지는, 유전상수가 50 ~ 100인 나노 입자가 상기 고분자를 합성하기 위한 모노머 또는 올리고머 중량을 기준으로 0
2	2 제 1항에 있어서, 상기 나노 입자의 평균 크기는 10 ~ 100 nm인 고분자 분산형 액정
3	3 제 1항에 있어서,상기 나노 입자는 금속 산화물 나노 입자, 합금 산화물 나노 입자, 합금 나노 입자 및 이들의 조합으로 구성되는 군에서 선택되는 고분자 분산형 액정
4	4 제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 나노 입자는 TiO2, HfO2, ZrO5, Ta2O5, BST(Barium Strontium Titanate), BST/BSTO(Barium Strontium Titanate/Barium Strontium Titanate Oxide), STO(Strontium Titanate Oxide), PZT(Lead Zirconium Titanate) 및 이들의 조합으로 구성되는 군에서 선택되는 고분자 분산형 액정
5	5 제 1항에 있어서, 상기 나노 입자는 상기 고분자를 합성하기 위한 모노머 또는 올리고머 중량을 기준으로 0
6	6 제 1 기판과; 상기 제 1 기판과 마주하는 제 2 기판과; 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 개재되는 액정층을 포함하고, 상기 액정층은, 고분자 매트릭스에 분산되어 있는 액정 방울(droplet)은 100 nm ~ 300 nm 범위의 평균 직경을 가지며, 상기 액정 방울 내에 형성되는 액정 분자의 유전율은 상기 고분자 매트릭스를 구성하는 고분자의 유전율보다 크고, 고분자 매트릭스에 상기 액정 분자의 유전율보다 큰 유전율을 가지는, 유전상수가 50 ~ 100인 나노 입자가 상기 고분자를 합성하기 위한 모노머 또는 올리고머 중량을 기준으로 0
7	7 제 6항에 있어서, 상기 나노 입자의 평균 크기는 10 ~ 100 nm인 액정 표시장치
8	8 제 6항에 있어서,상기 나노 입자는 금속 산화물 나노 입자, 합금 산화물 나노 입자, 합금 나노 입자 및 이들의 조합으로 구성되는 군에서 선택되는 액정 표시장치
9	9 제 6항 또는 제 8항에 있어서, 상기 나노 입자는 TiO2, HfO2, ZrO5, Ta2O5, BST(Barium Strontium Titanate), BST/BSTO(Barium Strontium Titanate/Barium Strontium Titanate Oxide), STO(Strontium Titanate Oxide), PZT(Lead Zirconium Titanate) 및 이들의 조합으로 구성되는 군에서 선택되는 액정 표시장치
10	10 제 6항에 있어서, 상기 나노 입자는 상기 고분자를 합성하기 위한 모노머 또는 올리고머 중량을 기준으로 0

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1971073-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20151218 출원 번호 : 1020150181767 공고 연월일 : 20190423 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20190325 청구범위의 항수 : 10 유별 : G02F 1/1334 발명의 명칭 : 고유전율 나노 입자가 배합된 고분자 분산형 액정 및 이를 이용한 액정 표시장치 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 경북대학교 산학협력단 대구광역시 북구...
1	(권리자) 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	435,000 원	2019년 04월 16일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2015.12.18	수리 (Accepted)	1-1-2015-1244556-63
2	선행기술조사의뢰서	2016.11.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2016.12.20	수리 (Accepted)	9-1-2016-0053152-61
4	의견제출통지서	2017.01.03	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0007563-27
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2017.03.03	수리 (Accepted)	1-1-2017-0215157-25
6	거절결정서	2017.06.09	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0404316-13
7	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2017.07.05	수리 (Accepted)	1-1-2017-0645302-79
8	[명세서등 보정]보정서(재심사)	2017.07.05	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2017-0645301-23
9	거절결정서	2017.07.19	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2017-0505423-92
10	심사관의견요청서	2017.10.13	수리 (Accepted)	7-8-2017-0024246-69
11	출원인정보변경(경정)신고서	2018.03.26	수리 (Accepted)	4-1-2018-5051994-32
12	등록결정서	2019.03.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0218321-58
13	출원인정보변경(경정)신고서	2020.06.23	수리 (Accepted)	4-1-2020-5136893-04

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번호	심판번호(숫자)	심판번호(문자)	사건의표시	청구일	심결일자
1	2017101003869	2017원3869	2015년 특허출원 제0181767호 거절결정불복	2017.08.14	2019.03.22

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