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기판;상기 기판의 표면 상에 배치되고, 제1 패턴이 형성된 제1 도전층; 및상기 기판의 배면 상에 배치되고, 제2 패턴이 형성된 제2 도전층을 포함하고,위에서 봤을 때, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 오버랩되지 않는고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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제1항에 있어서,상기 기판의 표면 상에 배치되고, 상기 제1 패턴에 전기적으로 연결되는 제1 복수의 가이드 라인; 및상기 기판의 배면 상에 배치되고, 상기 제2 패턴에 전기적으로 연결되는 제2 복수의 가이드 라인을 더 포함하고,위에서 봤을 때, 상기 제1 복수의 가이드 라인은 상기 제2 패턴과 적어도 일부가 오버랩되고, 상기 제2 복수의 가이드 라인은 상기 제1 패턴과 적어도 일부가 오버랩되는고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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제1항에 있어서,상기 제1 패턴은 제1 서브 패턴 및 상기 제1 서브 패턴과 인접한 제2 서브 패턴을 포함하고,상기 제1 서브 패턴 및 상기 제2 서브 패턴은 패터닝 라인에 의해 서로 전기적으로 구별되는고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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제3항에 있어서,인가되는 전압을 통해 상기 제1 서브 패턴 및 상기 제2 서브 패턴에 의한 투과도가 서로 상이하게 조절될 수 있도록, 제1 복수의 가이드 라인 및 제2 복수의 가이드 라인은 서로 전기적으로 연결되지 않은고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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제1항에 있어서,상기 제1 도전층 상에 배치되는 제1 고분자 분산 액정; 및상기 제1 고분자 분산 액정의 투과도를 조절하기 위해, 상기 제1 고분자 분산 액정 상에 배치되어 제1 전원에 의해 전압이 인가되는 제3 도전층을 더 포함하는고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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제5항에 있어서,상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제2 고분자 분산 액정; 및상기 제2 고분자 분산 액정의 투과도를 조절하기 위해, 상기 제2 고분자 분산 액정의 하부에 배치되어 제2 전원에 의해 전압이 인가되는 제4 도전층을 더 포함하는고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터
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물체에 의해 반사된 빛 중 일부를 통과시켜 푸리에 평면을 형성하는 고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터를 포함하고,상기 고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터는,기판;상기 기판의 표면 상에 배치되고, 제1 패턴이 형성된 제1 도전층; 및상기 기판의 배면 상에 배치되고, 제2 패턴이 형성된 제2 도전층을 포함하고,위에서 봤을 때, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 오버랩되지 않는이미지 프로세싱 장치
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광을 파장을 따라 분리시키는 회절 격자; 및상기 회절 격자에 의해 분리된 파장 중 일부를 통과시키는 고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터를 포함하고,상기 고분자 분산 액정 기반 가변형 공간 필터는,기판;상기 기판의 표면 상에 배치되고, 제1 패턴이 형성된 제1 도전층; 및상기 기판의 배면 상에 배치되고, 제2 패턴이 형성된 제2 도전층을 포함하고,위에서 봤을 때, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 오버랩되지 않는광 필터링 장치
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