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광원을 갖고 광을 조사하는 광조사계;광원에서 나온 광을 분할하여 측정 대상체로 조사하는 광속분할기;광속분할기를 통해 측정 대상체에 광이 조사되면 간섭 이미지 생성부 및 측정 대상체의 반사광을 중첩시켜 간섭을 생성하는 간섭 이미지 생성부;간섭 이미지 생성부에 의한 다수의 간섭 무늬 변조 이미지들을 획득하는 이미지 획득 저장부;이미지 획득 저장부의 간섭 무늬 변조 이미지들을 후처리하여 3차원 패드 표면 형상을 출력하는 이미지 후처리 출력부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 광조사계는 가시광 LED 광원을 구비하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 간섭 이미지 생성부는 압전소자(PZT)를 이용한 상하 미세 진동으로 광경로차 변동에 의해 간섭 무늬 변조를 하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 3 항에 있어서, 압전소자(PZT)를 이용하여 간섭계 기준단(reference arm)의 광 경로를 고속으로 미세 진동시켜 시간 별로 변화하는 간섭 이미지를 얻어낸 후 이를 이용하여 위상 정보 내 패드의 3차원 형상 정보를 복원하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 3 항에 있어서, 간섭 이미지 생성부는 기준단 반사체 역할을 하는 빛에 투명한 글래스 혹은 투명 필름으로 구성되어,측정 대상체 위에 위치시키고, 입사되는 광이 글래스 아랫면과 측정 대상체의 표면에 반사되고 두 반사광이 서로 중첩되어 간섭이 생성되도록 하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 5 항에 있어서, 중첩된 반사광들이 동일한 광경로를 공유하여 외부 소음 및 진동에 영향을 받지 않고, 2차원 간섭 이미지가 이미지 획득 저장부에 저장되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 3 항에 있어서, 압전소자(PZT) 모션과 이미지 획득 저장부의 이미지 수신 타이밍을 동기화하기 위해,압전소자(PZT) 및 이미지 획득 저장부를 구성하는 CCD 카메라를 동시에 트리거하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 이미지 후처리 출력부는,광학 위상 도출, 위상 펼침 과정, 위상 경사도 보정의 후처리 과정을 거쳐 최종 3차원 패드 표면 형상을 출력하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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제 1 항에 있어서, 광 입사 면적을 간섭 이미지 생성부의 측정 대상체가 위치하는 측정 영역에 맞게 조정하여,측정 대상체 형상 정보를 고속으로 획득하여 실시간 형상 모니터링하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 장치
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가시광 LED 광원에서 나온 광을 광속분할기를 통해 대물렌즈를 거쳐 측정 대상체에 조사하는 단계;간섭 이미지 생성부 및 측정 대상체의 반사광을 중첩시켜 간섭을 생성하는 단계;간섭 이미지 생성부에서 압전소자(PZT)를 이용한 상하 미세 진동으로 광경로차를 변동시켜 간섭 무늬를 변조시키는 단계;이미지 획득부에서 다수의 간섭 무늬 변조 이미지들을 획득 한 후 광학 위상 도출, 위상 펼침 과정, 위상 경사도 보정의 후처리 과정을 거쳐 최종 3차원 패드 표면 형상을 출력하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 방법
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제 10 항에 있어서, 측정 대상체인 CMP 연마패드의 표면 거칠기 측정을 위하여,거리 분해능(axial resolution)을 결정하고 가능한 측정 영상 범위를 나타내는 가간섭 길이 를으로 구하고,여기서, 는 중심 파장이고 는 광원의 스펙트럼 너비인 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드 표면 거칠기 측정을 위한 방법
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