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유체가 개재되도록 위아래에 배치된 제1 시험판 및 제2 시험판;상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 간의 상하 간격을 변경시키는 상하 간격 변경부;상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 간의 경사각을 조정하기 위한 경사각 조정부; 및상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 간의 상하 간격의 변경에 따른 상기 유체의 변화를 촬상하는 카메라;를 구비하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 상하 간격 변경부는, 상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 중 하나를 수직 방향으로 이동시키는 리니어 액추에이터(actuator)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제2 항에 있어서,상기 리니어 액추에이터의 위치 결정 정도는 0 보다 크고 5μm 이하인 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제1 항에 있어서, 상기 경사각 조정부는, 상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 중 하나를 경사각의 변경이 가능하게 지지하며, 상기 변경된 경사각을 측정 가능한 고니오메트릭 스테이지(goniometric stage)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제4 항에 있어서, 상기 고니오메트릭 스테이지의 각도 분해능(resolving power)은 0 보다 크고 0
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제1 항에 있어서,상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 중 하나의 시험판에 대한 다른 하나의 위치를 조정하기 위한 위치 조정부;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제6 항에 있어서,상기 위치 조정부는,상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판 중 하나를 위치의 변경이 가능하게 지지하며, 상기 변경된 위치를 측정 가능한 XYZ 스테이지(XYZ stage)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제7 항에 있어서,상기 XYZ 스테이지의 위치 분해능은 0 보다 크고 10μm 이하인 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 시험판을 착탈 가능하게 지지하는 제1 시험판 스테이지; 및 상기 제2 시험판을 착탈 가능하게 지지하는 제2 시험판 스테이지;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제9 항에 있어서,상기 제1 시험판 및 상기 제2 시험판은 각각 상기 제1 시험판 스테이지 및 상기 제2 시험판 스테이지에 양면 점착 테이프에 의해 착탈 가능하게 점착 지지되는 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 카메라는 촬상 속도가 1000 fps(frame per second)보다 크거나 같은 고속 카메라인 것을 특징으로 하는 유변학적 물성 측정 장치
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