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시편이 안착되는 시편 고정대;상기 시편 고정대의 상부에 형성되며 시편에 대한 시험을 수행하는 측정부;상기 시편 고정대에 대한 상기 측정부의 상대적인 위치를 x축, y축 및 z축 방향으로 변화시키는 이동모듈; 및상기 측정부와 상기 이동모듈을 제어하는 제어부;를 포함하여 이루어지며,상기 측정부는 상기 이동모듈에 고정되는 몸체부와 상기 몸체부에 탈착 가능하게 고정되는 측정 프로브를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 시편 고정대에 안착된 시편을 촬영하는 비전부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제2항에 있어서,상기 비전부는, 상기 시편 고정대에 대하여 직각을 이루는 광축을 가지는 제1 비전 카메라와 상기 시편 고정대에 대하여 비스듬한 광축을 가지는 제2 비전 카메라를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제3항에 있어서,상기 제1 비전 카메라는 상기 시편 고정대의 하부에 배치되고,상기 시편 고정대에는 상하로 관통하는 관찰창이 형성되는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제4항에 있어서,상기 시편 고정대는, 중앙부에 상기 관찰창을 구비하고 서로 크기가 다른 다수 개의 고정판을 구비하고, 크기가 작은 고정판은 크기가 큰 고정판의 관찰창에 맞물리도록 배치되는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제3항에 있어서,상기 제어부는, 시편에 대한 시험시마다 상기 제1 비전 카메라에서 촬영된 영상을 토대로 상기 측정부가 시편의 중심과 일치하도록 상기 이동모듈을 제어하는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제2항에 있어서,상기 시편 고정대, 상기 측정부, 상기 이동모듈 및 상기 비전부는 방진 테이블에 고정되는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 측정부는 나노 스테이지를 통해 상기 이동모듈에 고정되는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 제어부는, 시편에 대한 시험시마다 상기 측정부의 z축 방향 위치가 보정되도록 상기 측정부와 상기 이동모듈을 제어하는 것을 특징으로 하는 박막의 기계 및 전기 물성 고속 측정 시스템
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