| 1 |
1
외부의 가스공급부와 연결되어 반응가스 또는 분위기 가스를 유입하기 위한 가스 유입구를 구비한 챔버와;챔버 외부의 전원공급부와 연결되며, 양면전극으로 챔버의 중앙에 설치되는 파워전극과;챔버 외부의 접지단과 연결되며, 챔버 내에 파워전극의 양측으로 소정 간격 이격되어 상기 파워 전극과 대향하도록 설치되는 제1 및 제2 측면 그라운드 전극과;챔버 외부의 접지단과 연결되며, 상기 챔버의 외부 하측에 설치되는 하부 그라운드 전극을 구비하여,챔버 내에 가스공급와 함께 전원공급부로부터 파워전극으로 전원이 인가됨에 따라, 상기 파워전극과 상기 제1, 2 측면 그라운드 전극 및 하부 그라운드 전극 간의 공간에 플라즈마 방전이 일어나도록 구성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 2 |
2
제1 항에 있어서,상기 파워전극의 상기 제1 및 제2 측면 그라운드 전극과의 대향면에는 복수의 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 파워전극의 하부면에 복수의 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 4 |
4
제3 항에 있어서,상기 파워전극과 제1 및 제2 측면 그라운드 전극 사이의 각 영역은 물리적으로 서로 분리되고, 상기 가스 유입구는 상기 분리된 각 영역의 상부에 구비되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 5 |
5
외부의 가스공급부와 연결되어 반응가스 또는 분위기 가스를 유입하기 위한 가스 유입구를 구비한 챔버와;챔버 외부의 접지단과 연결되며, 양면전극으로 챔버의 중앙에 설치되는 중앙 그라운드 전극과;챔버 내에 중앙 그라운드 전극의 양측으로 소정 간격 이격되어 상기 중앙 그라운드 전극과 대향하도록 설치되며, 챔버 외부의 전원공급부와 각각 연결되는 제1 및 제2 파워 전극과;챔버 외부의 접지단과 연결되며, 챔버의 외부 하측에 설치되는 하부 그라운드 전극을 구비하여,챔버 내에 가스공급와 함께 전원공급부로부터 제1 및 제2 파워전극으로 전원이 각각 인가됨에 따라, 상기 제1, 2 파워전극과 상기 중앙 그라운드 전극 사이의 공간 및 상기 제1, 2 파워전극과 상기 하부 그라운드 전극 사이의 공간에 플라즈마 방전이 일어나도록 구성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 6 |
6
제5 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 파워전극의 상기 중앙 그라운드 전극과의 대향면에는 복수의 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 7 |
7
제6 항에 있어서,상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 파워전극 사이의 각 영역은 물리적으로 서로 분리되고, 상기 가스 유입구는 상기 분리된 각 영역의 상부에 구비되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 8 |
8
제2항에 있어서,상기 파워전극과 제1 및 제2 측면 그라운드 전극의 표면은 절연물질로 코팅되거나 덮여지는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 9 |
9
제6항에 있어서,상기 제1 및 제2 파워전극 및 중앙 그라운드 전극의 표면은 절연물질로 코팅되거나 덮여지는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 10 |
10
제2항, 제3항 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 돌기는 첨단이 점으로 이루어진 핀 형상, 원뿔, 다각뿔 또는 다각기둥 형상 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 11 |
11
제10 항에 있어서,상기 돌기는 절연물질로 코팅되거나 절연체 구조물을 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 12 |
12
제1 항 또는 제5 항에 있어서,챔버의 하측으로부터 피처리물과의 반응 후에 남겨진 잔여가스를 이동시키기 위한 배기통로와;상기 배기통로와 연결된 가스관을 통해서 배기통로를 거쳐 이동되는 잔여가스를 수집하는 회수시스템과;상기 회수시스템과 연결된 가스관을 통해서 회수시스템으로부터 잔여가스를 이송받아 재생처리하는 리사이클 시스템을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 13 |
13
제12 항에 있어서,상기 리사이클 시스템은 챔버의 가스 유입구와 가스 공급라인을 통해 연결되어, 리사이클 시스템에서 재생처리된 가스가 챔버의 내부로 재공급되도록 구성한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 14 |
14
제12 항에 있어서,상기 배기통로는 챔버의 하측으로부터 챔버의 외주면을 따라 챔버의 상측으로 연장되도록 형성한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
| 15 |
15
제1 항에 있어서,상기 파워전극과, 파워전극의 양측으로 소정 간격 이격되어 대향하도록 설치되는 제1 및 제2 측면 그라운드 전극으로 이루어지는 전극쌍 구조가 챔버 내에 두 개 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치
|
