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지질 물질을 준비하는 단계;
상기 지질물질을 지지체 상에 코팅하는 단계; 및
지지체 상에 코팅된 상기 지질 물질에 나노입자 형성물질을 증착하여 무기 나노입자/지질 복합체를 형성하는 단계;
로 이루어지는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 지질 물질은 상기 나노입자 형성물질의 증착 온도에서 액정상태로 존재하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 상기 지질 물질은 상온(25℃)에서 액정상태로 존재하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 지질 물질을 용매에 용해한 후 용매와 함께 지지체 상에 코팅하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 지질 물질의 두께는 10~500nm인 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 나노입자 형성물질의 증착은 물리기상 증착법 또는 화학기상 증착법에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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7
제 6 항에 있어서, 증착되는 나노입자 형성물질의 양은 그 두께가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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8
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 나노입자 형성물질의 증착 이후에 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 열처리는 40~200℃의 온도에서 10분 이상 실시되는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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10
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기 나노입자/지질 복합체에 용매를 가하여 콜로이드 용액을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 무기 나노입자/지질 복합체에 용매를 가하여 콜로이드 용액을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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12
제 10 항에 있어서, 상기 용매는 7
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제 12 항에 있어서, 상기 용매는 클로로포름(Chloroform), 옥탄(Octane), 헥산(Hexane), 사이클로헥산(Cyclohexane), 톨루엔(Toluene), 아세톤(Acetone), 삼차부틸알콜(Tert-Butyl Alcohol) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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14
제 11 항에 있어서, 상기 용매는 7
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제 14 항에 있어서, 상기 용매는 클로로포름(Chloroform), 옥탄(Octane), 헥산(Hexane), 사이클로헥산(Cyclohexane), 톨루엔(Toluene), 아세톤(Acetone), 삼차부틸알콜(Tert-Butyl Alcohol) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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16
제 10 항에 있어서, 상기 콜로이드 용액을 지지체에 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 콜로이드 용액을 지지체에 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 16 항에 있어서, 상기 콜로이드 용액의 코팅전 또는 코팅후에 용매를 증발시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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제 17 항에 있어서, 상기 콜로이드 용액의 코팅전 또는 코팅 후에 용매를 증발시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 나노입자/지질 복합체의 제조방법
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