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투명기판 일면에 투명 전극막을 형성하는 단계; 상기 전극막 상층에 나노임프린트 리쏘그라피법(Nano-Imprint Lithography: NIL)에 의하여 폴리머 재질의 패턴을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 사이의 전극막 상층에 전기도금법(electro plating)을 이용하여 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 폴리머 재질의 패턴 및 금속층 패턴상에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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투명기판 일면에 금속재질의 전도층을 형성하는 단계; 상기 전도층 상층에 나노임프린트 리쏘그라피법(Nano-Imprint Lithography; NIL)에 의하여 폴리머 재질의 패턴을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 사이의 전도층 상층에 전기도금법(electro plating)을 금속층을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 및 금속층 패턴상에 투명한 보호막을 형성하는 단계; 및 상기 투명기판을 제거하고, 상기 투명기판이 제거된 폴리머 및 금속층 패턴 일면에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 전극막은 ITO(Indium Tin Oxide)막인 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명기판은 투명한 필름막인 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 투명기판은 실리콘 또는 글래스(glass)를 재질로 하는 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리머 재질의 패턴을 형성하는 단계는 UV 나노임프린트 리쏘그라피법(UV NIL) 또는 열경화 나노임프린트 리쏘그라피법(Thermal curing NIL)으로 형성하는 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속층은 알루미늄 또는 구리로 형성하는 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름 제조방법
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편광용 또는 정보보호용 필름에 있어서, 투명기판 일면에 투명 전극막을 형성하는 단계; 상기 전극막 상층에 나노임프린트 리쏘그라피법(Nano-Imprint Lithography: NIL)에 의하여 폴리머 재질의 패턴을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 사이의 전극막 상층에 전기도금법(electro plating)을 이용하여 금속층을 형성하는 단계; 및 상기 폴리머 재질의 패턴 및 금속층 패턴상에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보호용 필름
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편광용 또는 정보보호용 필름에 있어서, 투명기판 일면에 금속재질의 전도층을 형성하는 단계; 상기 전도층 상층에 나노임프린트 리쏘그라피법(Nono-Imprint Lithography; NIL)에 의하여 폴리머 재질의 패턴을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 사이의 전도층 상층에 전기도금법(electro plating)을 금속층을 형성하는 단계; 상기 폴리머 재질의 패턴 및 금속층 패턴상에 투명한 보호막을 형성하는 단계; 및 상기 투명기판을 제거하고, 상기 투명기판이 제거된 폴리머 및 금속층 패턴 일면에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 편광 및 정보보보용 필름
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