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연속공정이 가능한 용융 결정화 반응장치 및 이를 포함하는시스템

  • 기술번호 : KST2014032879
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 결정 석출물을 분리하기 위한 별도의 스크레이퍼, 충진제 등을 필요로 하지 않아 반응장치의 구성이 단순하며, 최종산물을 용액상태로 얻을 수 있어 연속식으로 순수상태의 결정을 얻을 수 있는 용융 결정화 반응장치에 관한 것으로서, 회전축에 의해 지지되는 회전통 (11); 상기 회전통을 내부에 포함하고, 상기 회전통의 외주면과의 사이에 반응공간 (12)을 갖는 반응조 (13); 및 상기 반응조에 열을 공급하는 열공급부 (14)를 포함하는 용융 결정화 반응장치 및 이를 포함하는 결정화 분리공정 시스템을 제공한다. 용융 결정화, 연속, 냉매
Int. CL B01J 19/00 (2006.01) B01D 9/02 (2006.01)
CPC B01D 9/0059(2013.01) B01D 9/0059(2013.01)
출원번호/일자 1020080005470 (2008.01.17)
출원인 주식회사 오르비텍, 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0958530-0000 (2010.05.10)
공개번호/일자 10-2009-0079477 (2009.07.22) 문서열기
공고번호/일자 (20100519) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.17)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 오르비텍 대한민국 서울특별시 금천구
2 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍종팔 대한민국 서울 노원구
2 강혜련 대한민국 서울 중랑구
3 김다영 대한민국 서울 은평구
4 이창훈 대한민국 서울 종로구
5 김우식 대한민국 서울 광진구
6 양대륙 대한민국 서울 성북구
7 강정원 대한민국 서울 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신진만 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로**길 ** *층(역삼동, 우암빌딩)(신진만특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 오르비텍 대한민국 서울특별시 금천구
2 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2008-0041529-14
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.02.05 수리 (Accepted) 4-1-2008-5020006-08
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.04.10 수리 (Accepted) 9-1-2009-0020384-42
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0473060-50
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0031440-29
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0031493-38
8 등록결정서
Decision to grant		 2010.05.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0192482-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.07.08 수리 (Accepted) 4-1-2010-5125168-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.12.23 수리 (Accepted) 4-1-2010-5242958-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2013-5060259-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-0055229-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062829-61
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2015-0028092-93
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
회전축에 의해 지지되는 회전통; 상기 회전통을 내부에 포함하고, 상기 회전통의 외주면과의 사이에 반응공간을 갖는 반응조; 및 상기 반응조에 열을 공급하는 열공급부를 포함하는 결정화 반응장치가 연속하여 적어도 2개 이상 직렬연결되어진 용융 결정화 반응장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 반응조의 내주면이 결정의 성장표면으로 제공되어지는 것을 특징으로 하는 용융 결정화 반응장치
3 3
삭제
4 4
회전축에 의해 지지되는 회전통; 상기 회전통을 내부에 포함하고, 상기 회전통의 외주면과의 사이에 반응공간을 갖는 반응조; 및 상기 반응조에 열을 공급하는 열공급부를 포함하는 용융 결정화 반응장치에서, 상기 반응공간에 투입된 결정화 대상인 용융액을 냉각하여 결정화하는 단계; 결정화 온도 이상으로 가열하여 부분 용융하는 단계; 및 남은 결정을 용융시키는 단계를 포함하는 결정의 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 최종 단계에서 얻어진 용융액을 다음 용융 결정화 장치의 반응공간에 보내어 용융점 이하로 냉각하여 결정화 하는 단계; 결정화 온도 이상으로 가열하여 부분 용융하는 단계; 및 남은 결정을 용융시키는 단계를 더 포함하는 결정의 제조방법
6 6
결정화 원료를 제공하는 원료공급부; 및 상기 원료공급부에 의해 공급되는 결정화 원료가 투입되는 청구항 1의 반응장치를 포함하는 결정화 분리공정 시스템
7 7
제 6항에 있어서, 청구항 1의 반응장치의 후단에 결정화를 위한 냉각기를 더 포함하는 결정화 분리공정 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.