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기판에 다수의 마이크로웰(microwell)이 형성된 마이크로웰 어레이를 준비하는 단계;상기 마이크로웰 내부에 리피드 용액을 주입한 후 건조시켜서 리피드 층을 형성하는 단계; 및상기 리피드 층이 형성된 마이크로웰 위에 버퍼용액을 가하여 수화시킴으로서, 상기 리피드 층으로부터 상기 마이크로웰 위로 3차원 구조물(three-dimension structure)을 형성하는 단계;를 포함하는 리피드 구조물(lipid structure)의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리피드 용액은 리피드가 포함된 트라이클로로에틸렌(Trichloroethylene) 용액인 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리피드 용액은 리피드를 1~50mM 범위 내의 농도로 포함하는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 리피드 층을 형성하는 단계는,상기 준비한 마이크로웰 어레이 표면에 리피드 용액을 가하고, 상기 리피드 용액이 가해진 마이크로웰 어레이를 회전시켜서, 상기 마이크로웰 어레이의 마이크로웰 내부로 리피드 용액을 주입하는 단계; 및상기 리피드 용액이 주입된 마이크로웰 어레이를 건조시켜서 리피드 층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 리피드 용액을 주입하는 단계는,상기 준비한 마이크로웰 어레이 표면에 산소 플라즈마(Oxygen Plasma)를 처리하여 기판 표면을 친수성화(Hydrophilization)하는 단계; 및상기 친수성화된 기판 표면에 리피드 용액을 가하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 리피드 용액을 주입하는 단계는,상기 마이크로웰 어레이의 마이크로웰 내부로 리피드 용액을 주입한 후, 상기 마이크로웰 밖에 남아 있는 리피드 용액을 펌프로 흡입하여 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 마이크로웰 어레이를 건조시키는 것은 -10℃ 내지 -80℃ 범위 내의 온도에서 건조시키는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 마이크로웰 어레이를 건조시키는 것은 1 mTorr 내지 10 mTorr 범위 내의 압력에서 5~20시간 동안 건조시키는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 버퍼용액은 초순수(Distilled water : DI water)인 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로웰은 1~20㎛ 범위 내의 직경(diameter)을 갖는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로웰은 0
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제1항에 있어서,상기 다수의 마이크로웰은 10~100㎛ 범위 내의 간격(pitch)을 갖는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 3차원 구조물은 튜브형 구조물(tubular structure)인 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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14
제1항에 있어서,상기 3차원 구조물은 아래 계산식1에 따른 응력(Areal strain : εa)이 0
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기판에 다수의 마이크로웰(microwell)이 형성된 마이크로웰 어레이;상기 마이크로웰 내부에 리피드 용액을 주입한 후 건조시켜서 형성한 리피드 층; 및상기 리피드 층으로부터 상기 마이크로웰 위로 형성된 3차원 구조물(three-dimension structure);을 포함하는 리피드 구조물(lipid structure)
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16
제15항에 있어서,상기 마이크로웰은 1~20㎛ 범위 내의 직경(diameter)을 갖는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물
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제15항에 있어서,상기 마이크로웰은 0
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제15항에 있어서,상기 다수의 마이크로웰은 10~100㎛ 범위 내의 간격(pitch)을 갖는 것을 특징으로 하는 리피드 구조물
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제15항에 있어서,상기 3차원 구조물은 튜브형 구조물(tubular structure)인 것을 특징으로 하는 리피드 구조물
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기판에 다수의 마이크로웰이 형성된 마이크로웰 어레이를 준비하는 단계;상기 마이크로웰 내부에 리피드 용액을 주입한 후 건조시켜서 리피드 층을 형성하는 단계; 및상기 리피드 층이 형성된 마이크로웰의 위와 아래로 전계를 인가한 상태에서, 상기 리피드 층이 형성된 마이크로웰 위에 버퍼를 가하여 수화시킴으로서, 상기 리피드 층으로부터 상기 마이크로웰 위로 3차원 구조물(three-dimension structure)을 형성하는 단계;를 포함하는 리피드 구조물(lipid structure)의 제조방법
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제20항에 있어서,상기 3차원 구조물은 단일 이중막으로 이루어진 구형 구조물(vesicular shape structure)인 것을 특징으로 하는 리피드 구조물의 제조방법
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