1 |
1
미리 준비된 실리콘 기판 상에 희생층을 증착하는 단계; 상기 증착된 희생층 상에 제1 폴리머를 도포하여 패터닝한 후, 열 경화시키는 단계; 상기 제1 폴리머 상에 본딩 패드 영역과, 트랜스미션 라인과, 레코딩 패드 영역을 형성하도록 금속박막을 패터닝하는 단계; 상기 트랜스미션 라인을 폐쇄하고, 상기 본딩 패드 영역과 레코딩 패드 영역을 패터닝하도록 제2 폴리머를 도포하는 단계; 및상기 본딩 패드 영역에 대해 전기도금을 실시하여, 상기 금속박막과 접하는 본딩 패드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 희생층은 알루미늄(Al)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 전기도금을 실시하기 전, 상기 본딩 패드가 형성될 영역에 대해 음각 형태로 포토레지스트를 패터닝하며, 상기 전기도금으로 상기 본딩 패드가 형성된 후에 상기 포토레지스트를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 전기도금 시, 전류 밀도를 조절하여 상기 본딩 패드의 표면 거칠기를 제어하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 본딩 패드 영역에 대해 전기도금 시, 상기 레코딩 패드 영역에도 동시에 전기도금을 실시하여 레코딩 패드를 형성하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
6 |
6
제 5 항에 있어서, 상기 전기도금에 사용되는 금속은 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 또는 니켈코발트(NiCo)인 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 레코딩 패드 영역에 대해 금속을 증착하여, 상기 금속박막과 접하는 레코딩 패드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
8 |
8
제 7 항에 있어서, 상기 금속을 증착하기 전, 상기 레코딩 패드가 형성될 영역에 대해 음각 형태로 포토레지스트를 패터닝하며, 상기 금속이 증착되어 상기 레코딩 패드가 형성된 후에 상기 포토레지스트를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
9 |
9
제 7 항에 있어서, 상기 증착되는 금속은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 스테인레스강(SUS-27), 철(Fe) 또는 은-염화은(Ag-AgCl)인 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이 제조방법
|
10 |
10
신경계에 부착되는 미세전극 어레이와, 신호 처리 회로에 연결되는 커넥터 사이의 연결방법으로서, 미리 준비된 기판 상에 미세전극 어레이와 정렬 마크를 형성하는 단계;상기 정렬 마크와 섀도우 마스크를 정렬한 후, 상기 섀도우 마스크의 개구를 통해 본딩 물질을 상기 미세전극 어레이의 본딩 패드 상에 도포하는 단계; 및상기 미세전극 어레이의 본딩 패드 상에서 상기 커넥터의 핀을 정렬한 후, 상기 미세전극 어레이의 본딩 패드에 본딩시키는 단계를 포함하며, 상기 미세전극 어레이의 제조는, 미리 준비된 실리콘 기판 상에 희생층을 증착하는 단계; 상기 증착된 희생층 상에 제1 폴리머를 도포하여 패터닝한 후, 열 경화시키는 단계; 상기 제1 폴리머 상에 본딩 패드 영역과, 트랜스미션 라인과, 레코딩 패드 영역을 형성하도록 금속박막을 패터닝하는 단계; 상기 트랜스미션 라인을 폐쇄하고, 상기 본딩 패드 영역과 레코딩 패드 영역을 패터닝하도록 제2 폴리머를 도포하는 단계; 및상기 본딩 패드 영역에 대해 전기도금을 실시하여, 상기 금속박막과 접하는 본딩 패드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
11 |
11
제 10 항에 있어서, 상기 커넥터가 상기 미세전극 어레이에 본딩된 후, 상기 희생층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
12 |
12
제 11 항에 있어서, 상기 희생층은 알루미늄 식각액(Al etchant), 희석된 불산(diluted HF(hydrofluoric acid)), 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH(tetramethylammonium hydroxide)) 계열의 PR 현상액(developer)을 사용하여 제거되는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
13 |
13
제 11 항에 있어서, 상기 희생층이 제거된 후, 상기 제1 폴리머의 하부에 금속, 플라스틱, 실리콘, GaAs, 유리 또는 석영(quartz) 웨이퍼 기판으로 이루어진 플레이트(plate)를 부착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
14 |
14
제 10 항에 있어서, 상기 미세전극 어레이의 본딩 패드 상에 상기 커넥터의 핀을 정렬하는 단계는, 자동 설비 기계(automatic mounting machine)가 상기 커넥터의 진공 픽업 영역(vacuum pick-up area)을 통해 상기 커넥터를 잡아서 상기 커넥터의 핀이 상기 미세전극 어레이의 본딩 패드 상에 위치하도록 배치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
15 |
15
제 10 항에 있어서, 상기 커넥터는 복수의 핀을 갖는 리셉터클(receptacle)과 헤더(header)로 구성되며, 상기 헤더가 상기 리셉터클의 중앙 부분에 메탈 피팅(metal fitting)되고, 상기 헤더의 핀이 상기 미세전극 어레이의 본딩 패드에 직접 결합되며, 상기 리셉터클은 상기 신호 처리 회로에 와이어를 통해 연결되는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
16 |
16
제 10 항에 있어서, 상기 본딩 물질은 은 페이스트(Ag paste) 또는 납 페이스트(Pb paste)인 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
17 |
17
제 10 항에 있어서, 상기 본딩 물질은 Au-Ge, Au-In, Au-Sn, Ag-Sn 및 Pb-Sn로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 합금인 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
18 |
18
제 10 항에 있어서, 상기 레코딩 패드 영역에 대해 백금을 증착하여, 상기 금속박막과 접하는 레코딩 패드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|
19 |
19
제 10 항에 있어서, 상기 커넥터의 핀을 절연 물질로 이루어진 에폭시로 마감 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세전극 어레이와 커넥터의 연결방법
|