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폐수 처리장치

  • 기술번호 : KST2014039917
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 제조공정시 사용되어 배출되는 환경유해성 용매와 미세입자를 다량으로 포함하는 오염폐수를 처리하는 반도체 오염폐수 처리장치에 관한 것이다.본 발명의 반도체 오염폐수 장치는, 반도체 공정시 사용되어 배출되는 반도체 오염폐수에 이온을 공급하여 오염폐수 내에 미세하게 존재하는 미세입자를 조대화시키는 정전처리부가 설치된 조대화장치와; 상기 조대화장치에서 조대화된 조대입자를 원심력을 이용하여 분리시키는 사이클론 분리기를 포함하도록 구성된 것이다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01)
CPC C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01)
출원번호/일자 1020100014431 (2010.02.18)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1109551-0000 (2012.01.18)
공개번호/일자 10-2011-0094808 (2011.08.24) 문서열기
공고번호/일자 (20120131) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.18)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김용진 대한민국 대전광역시 유성구
2 한방우 대한민국 대전광역시 유성구
3 김학준 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍원석 대한민국 대전광역시 유성구
5 신완호 대한민국 대전광역시 유성구
6 정상현 대한민국 대전광역시 유성구
7 송동근 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 진용석 대한민국 대전광역시 서구 청사로 ***, 청사오피스텔 ***호 세빈 국제특허법률사무소 (둔산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0106555-18
2 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0105220-50
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.05.06 수리 (Accepted) 9-1-2011-0038422-14
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.05.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0257983-13
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0477693-35
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.06.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0477692-90
10 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0709792-24
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
반도체 공정시 사용되어 배출되는 반도체 오염폐수에 이온을 공급하여 오염폐수 내에 존재하는 미세입자를 조대화시키는 정전처리부가 설치된 조대화장치와;상기 조대화장치에서 조대화된 조대입자를 원심력을 이용하여 분리시키는 사이클론 분리기를 포함하며,상기 사이클론 분리기의 배출구 측에는 여과필터가 더 설치되고,상기 여과필터에는 액체 또는 기체를 고압으로 역분사시켜 여과필터에 부착되어 있는 미세입자를 탈락시킴으로써 여과필터를 재생키는 여과필터 재생장치가 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
2 2
반도체 공정시 사용되어 배출되는 반도체 오염폐수에 이온을 공급하여 오염폐수 내에 존재하는 미세입자를 조대화시키는 정전처리부가 설치된 조대화장치와;상기 조대화장치에서 조대화된 조대입자를 원심력을 이용하여 분리시키는 사이클론 분리기를 포함하며,상기 사이클론 분리기의 배출구 측에는 여과필터가 더 설치되고,상기 여과필터에는 여과필터 외측면 부착되어 있는 미세입자를 왕복이동하면서 탈락시키는 스크래퍼와, 상기 스크래퍼를 왕복이동시키는 왕복이동장치로 이루어진 여과필터 재생장치가 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 조대화장치는 고전압인가장치로부터 고전압을 인가받아 이온을 발생시키는 다수개의 전극판으로 이루어진 정전처리부와, 상기 정전처리부를 통과한 오염폐수를 혼합시켜 미세입자의 조대화시키는 혼합부로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
4 4
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 조대화장치에는 응고제 공급장치가 더 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
5 5
제 3항에 있어서,상기 조대화장치에는 응고제 공급장치가 더 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
6 6
제 3항에 있어서,상기 혼합부는 동일한 간격으로 2열 이상으로 혼합봉이 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
7 7
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 사이클론 분리기는 하부에 정전기력 발생기가 설치된 정전 사이클론 분리기임을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 환경부 한국기계연구원 차세대핵심환경기술개발사업 반도체 배출가스 처리용 2단 전기패킹 스크러버 시스템 개발(2/3)