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플라즈마 상태 변수를 측정하기 위한 메인 프로브;상기 메인 프로브와 병렬 연결되는 제1 보조 프로브;상기 메인 프로브와 병렬 연결되는 제2 보조 프로브; 및상기 제1 보조 프로브와 상기 제2 보조 프로브를 상호 연결하여 바이어스 전압을 인가하기 위한 직류 전원을 포함하는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항에 있어서,상기 제1 보조 프로브는, 상기 메인 프로브와 인접하게 배치되고,상기 제2 보조 프로브는, 상기 제1 보조 프로브에서 미리 정해진 거리만큼 떨어져 있는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 플라즈마 진단장치는,상기 메인 프로브와 상기 제1 보조 프로브가 장착되는 제1 튜브; 및상기 제2 보조 프로브가 장착되는 제2 튜브를 더 포함하는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항에 있어서,상기 직류 전원은,상기 바이어스 전압의 값을 변경할 수 있도록, 가변 직류 전원으로 마련되는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항에 있어서,상기 제1 보조 프로브는,상기 메인 프로브와 전기적으로 절연되도록, 저지 커패시터를 통해 상기 메인 프로브에 병렬 연결되는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항에 있어서,상기 제1 보조 프로브는 양(+)으로 바이어스 되고,상기 제2 보조 프로브는 음(-)으로 바이어스 되는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제1항에 있어서,상기 메인 프로브는 랭뮤어 프로브(Langmuir Probe)로 마련되고,상기 제1 및 제2 보조 프로브 각각은 링 형상을 갖는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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8
제1항에 있어서,상기 제1 보조 프로브는,상기 메인 프로브에 비해 큰 면적을 갖는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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제8항에 있어서,상기 제2 보조 프로브는,상기 제1 보조 프로브에 비해 작은 면적을 갖는, 보조 이중 프로브가 구비된 플라즈마 진단장치
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