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(a)콜로이드 입자가 분산된 광경화성 고분자를 자외선을 통해 경화시킨 후 상기 콜로이드 입자를 선택적으로 제거하여 얻어진 다공성 미세입자에 반응성 이온 식각 공정을 실시하여 다공성을 높임과 동시에 소수성 화학물질로 미세입자의 표면을 처리하여 초소수성 미세입자를 얻는 단계;(b)상기 초소수성 미세입자를 분산매에 분산시켜 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 얻는 단계, (c)상기 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 기판에 도포하는 단계를 포함하는 초소수성 미세입자를 기판에 코팅하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 초소수성 미세입자의 크기가 5㎛ 내지 1mm인 것임을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,콜로이드 입자는 실리카, 이산화티탄, 폴리스타이렌 및 폴리메틸메타크릴레이트 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 광경화성 고분자는 아크릴레이트기를 포함하는 광경화성 고분자 임을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,광경화성 고분자는 에톡시레이티드트리메틸롤프로판트라아크릴레이트(ethoxylatedtrimethylolpropanetriacrylate, ETPTA) 임을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,콜로이드 입자가 분산된 광경화성 고분자는 콜로이드 입자 5%(v/v) 내지 70%(v/v), 광경화성 고분자 95%(v/v) 내지 30%(v/v) 포함되는 것 임을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,분산매는 광경화성 분산매 또는 휘발성 분산매인 것을 특징으로 하는 방법
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제7항에 있어서,광경화성 분산매는 아크릴레이트기를 포함하는 광경화성 고분자이고, 휘발성 분산매는 에탄올인 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 기판에 스핀코팅 하는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 기판에 분사식으로 도포하는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,(b)단계는 상기 초소수성 미세입자 5%(v/v) 내지 70%(v/v)를 분산매로서 광경화성 분산매 30%(v/v) 내지 95%(v/v)에 분산시켜 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 얻는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,(b)단계는 상기 초소수성 미세입자 5%(v/v) 내지 70%(v/v)를 분산매로서 휘발성 분산매 30%(v/v) 내지 95%(v/v)에 분산시켜 초소수성 미세입자가 분산된 용액을 얻는 것을 특징으로 하는 방법
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