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플라즈마 발생장치 및 기판 처리장치

  • 기술번호 : KST2014046908
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따르면, 일면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 할로우 캐소드(Hollow cathode), 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들(Needle); 및 할로우 캐소드에 전기적으로 연결되는 전력공급원을 포함하는 플라즈마 발생장치 및 기판 처리장치가 제공된다. 이러한 본 발명에 따르면, 할로우 캐소드 및 할로우 캐소드의 내측홈에 배치된 니들에 의해 할로우 캐소드 효과와 전자 방출 효과가 증대되므로 고밀도의 플라즈마를 제공할 수 있다. 플라즈마, 할로우 캐소드, 니들, 전극, 전력공급원
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01J 37/32596(2013.01)
출원번호/일자 1020090085700 (2009.09.11)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1094644-0000 (2011.12.09)
공개번호/일자 10-2011-0027900 (2011.03.17) 문서열기
공고번호/일자 (20111220) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.11)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전 유성구
2 서상훈 대한민국 대전 유성구
3 이헌수 대한민국 대전 유성구
4 이윤성 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2009-0559451-46
2 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2009.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0631333-35
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.05.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0039136-94
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0161217-06
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0353291-10
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0353285-46
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2011.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0487007-71
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.09.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0752556-17
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0752566-74
11 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0700475-12
12 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2011.12.02 수리 (Accepted) 2-1-2011-0286493-65
13 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2011.12.09 수리 (Accepted) 2-1-2011-0293192-92
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 도전성 물질의 할로우 캐소드(Hollow cathode); 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 상기 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들(Needle); 상기 할로우 캐소드에 전기적으로 연결되는 전력공급원; 및 상기 니들을 관통하여 상기 할로우 캐소드의 타면까지 관통되도록 연장된 유입홀을 포함하는 플라즈마 발생장치
2 2
청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
3 3
청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
4 4
청구항 제1 항에 있어서, 상기 내측홈은, 안쪽 모서리가 곡면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
5 5
내부에 기판 처리 공정이 수행되는 공간을 제공하고, 가스의 배기를 위한 배기구가 형성된 공정챔버; 상기 공정챔버 내부로 가스를 공급하는 가스공급부재; 상기 공정챔버 내부에 배치되어 기판을 지지하는 기판지지부재; 상기 공정챔버 내부에 배치되어 일면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 할로우 캐소드; 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 상기 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들; 상기 할로우 캐소드에 전력을 인가하는 전력공급원; 및 상기 니들을 관통하여 상기 할로우 캐소드의 타면까지 관통되도록 연장된 유입홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치
6 6
청구항 제5 항에 있어서, 상기 기판지지부재는 하부전극을 더 구비하고, 상기 전력공급원은 상기 할로우 캐소드와 상기 하부전극 중에서 적어도 어느 하나와 전기적으로 연결되어 전력을 인가하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치
7 7
청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
8 8
청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
9 9
청구항 제5항 내지 청구항 제8 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 내측홈은, 안쪽 모서리가 곡면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치
10 10
내부에 기판 처리 공정이 수행되는 공간을 제공하고, 가스의 배기를 위한 배기구가 형성된 공정챔버; 상기 공정챔버 내부로 가스를 공급하는 가스공급부재; 상기 공정챔버 내부에 배치되어 기판을 지지하는 복수의 기판지지부재; 상기 공정챔버 내부에서 상기 기판지지부재들 사이에 배치되며, 양면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 복수의 할로우 캐소드; 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 상기 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들; 상기 할로우 캐소드들에 전력을 인가하는 전력공급원; 및 상기 니들을 관통하여 상기 할로우 캐소드의 타면까지 관통되도록 연장된 유입홀을 포함하는 기판 처리장치
11 11
청구항 제10 항에 있어서, 상기 기판지지부재들은 하부전극을 더 구비하고, 상기 전력공급원은 상기 할로우 캐소드와 상기 하부전극 중에서 적어도 어느 하나에 전기적으로 연결되어 전력을 인가하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치
12 12
청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
13 13
청구항 제10 내지 청구항 제12 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 내측홈은, 안쪽 모서리가 곡면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치
14 14
일면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 도전성 물질의 할로우 캐소드(Hollow cathode); 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 상기 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들(Needle);및 상기 할로우 캐소드에 전기적으로 연결되는 전력공급원을 포함하는 플라즈마 발생장치
15 15
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