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미세 광학 소자가 내장될 메인 기판을 식각 마스크 패턴에 따라 식각하여 한 개 이상의 캐비티를 형성하는 단계;상기 캐비티가 형성된 메인 기판의 상부에 유리 기판을 접합하는 단계;상기 유리 기판의 유리가 상기 한 개 이상의 캐비티를 채우도록 1차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계; 및상기 유리가 채워진 메인 기판의 상부 또는 하부를 식각하여 상기 메인 기판에 내장되는 한 개 이상의 미세 광학 소자를 제작하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 미세 광학 소자가 미세 유리 렌즈인 경우, 상기 한 개 이상의 캐비티를 형성하는 단계는, 오목한 기둥 형태의 캐비티가 형성되도록 상기 메인 기판을 수직 식각하며,상기 1차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계는, 상기 한 개 이상의 캐비티를 유리로 채워 한 개 이상의 유리 기둥이 상기 메인 기판에 내장되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제2항에 있어서,상기 한 개 이상의 미세 광학 소자를 제작하는 단계는,상기 메인 기판에 내장된 한 개 이상의 유리 기둥의 일부가 드러나도록 상기 유리가 채워진 메인 기판의 상부를 수직 식각하는 단계;상기 미세 유리 렌즈의 광학 특성에 기초하여 상기 일부가 드러난 한 개 이상의 유리 기둥에 대해 2차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계; 및상기 메인 기판에 내장된 상기 한 개 이상의 유리 기둥의 바닥이 보이도록 상기 메인 기판의 하부를 연마하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 미세 광학 소자가 미세 유리 프리즘인 경우,상기 한 개 이상의 캐비티를 형성하는 단계는, 오목한 다각뿔 형태의 캐비티가 형성되도록 상기 메인 기판을 습식 식각하며, 상기 1차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계는, 상기 한 개 이상의 캐비티를 유리로 채워 한 개 이상의 다각뿔이 상기 메인 기판에 내장되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제4항에 있어서,상기 한 개 이상의 미세 광학 소자를 제작하는 단계는,상기 메인 기판에 내장된 한 개 이상의 다각뿔 중 일부가 드러나도록 상기 유리가 채워진 메인 기판의 하부를 수직 식각하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 1차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계 이후,상기 유리 기판을 연마하여 상기 메인 기판의 상부에 접합된 유리를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제1항에 있어서,상기 미세 광학 소자가 미세 유리 렌즈인 경우,상기 캐비티를 형성하는 단계는 하나의 상기 메인 기판 상에 복수 개의 캐비티를 형성하고, 상기 미세 광학 소자가 미세 유리 프리즘인 경우, 상기 캐비티를 형성하는 단계는 하나의 상기 메인 기판 상에 하나의 캐비티를 형성하는 것을 특징으로 하는 기판에 내장되는 미세 광학 소자 제작 방법
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 방법에 의해서 제작된 미세 광학 소자
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메인 기판을 식각 마스크 패턴에 따라 식각하여 복수 개의 캐비티들을 형성하는 단계;상기 복수 개의 캐비티들이 형성된 메인 기판의 상부에 유리 기판을 접합하는 단계;상기 유리 기판의 유리가 상기 복수 개의 캐비티들을 채우도록 1차 유리 열 재흐름 공정을 수행하는 단계; 및상기 유리가 채워진 메인 기판의 상부 또는 하부를 식각하여, 복수 개의 미세 광학 소자들이 내장된 메인 기판을 미세 광학 어레이 소자로서 제작하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 광학 소자 어레이 제작 방법
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메인 기판; 및상기 메인 기판에 내장된 복수 개의 미세 광학 소자들;을 포함하며,상기 복수 개의 미세 광학 소자들은 상기 메인 기판을 식각하여 복수 개의 캐비티들을 형성하고, 유리 열 재흐름 공정을 수행하여 상기 복수 개의 캐비티들에 유리를 채운 후, 상기 유리가 채워진 메인 기판의 상부 또는 하부를 식각하여 제작되는 것을 특징으로 하는 미세 광학 소자 어레이
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