맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

계층적 미세구조물, 이를 제조하기 위한 몰드 및 이 몰드의 제조방법(HIERARCHIAL FINE STRUCTURES, A MOLD fOR FORMING SAME, AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE MOLD)

  • 기술번호 : KST2016013984
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신규한 구조의 계층적 미세 구조물 및 이를 제조하기 위한 몰드 제조방법을 제공한다. 상기 제조방법으로 제조된 계층적 미세구조물 형성용 몰드는 다양한 계층구조, 예를 들면, 마이크로/나노 이중구조, 기반/브릿지 이중구조를 갖는 미세 구조물을 간단한 공정을 사용하여 형성할 수 있으며, 또한 각 층의 바닥면까지 미세 구조를 형성할 수 있어, 보다 큰 비표면적을 갖는 계층적 미세구조물을 형성할 수 있고, 이와 같은 멀티스케일을 가지는 미세 구조물이 사용되는 대형 이동수단의 표면처리, 초소수성을 갖는 기능성소재, 산업용 로봇, 전자소자 등 다양한 분야에 응용될 수 있다.
Int. CL G03F 7/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01)
CPC B81C 1/00023(2013.01) B81C 1/00023(2013.01) B81C 1/00023(2013.01)
출원번호/일자 1020150007294 (2015.01.15)
출원인 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1694605-0000 (2017.01.03)
공개번호/일자 10-2016-0088072 (2016.07.25) 문서열기
공고번호/일자 (20170109) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.15)
심사청구항수 11

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 대한민국 서울특별시 관악구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최만수 대한민국 서울특별시 강남구
2 서갑양 대한민국 서울특별시 서초구
3 조혜성 대한민국 경기도 수원시 장안구
4 김상문 대한민국 경기도 의정부시 시민로
5 김준수 대한민국 서울특별시 금천구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김애라 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (역삼동, 한신인터밸리**) 서관 ***호(테라아이피씨특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 대한민국 서울특별시 관악구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0042783-15
2 보정요구서
Request for Amendment		 2015.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0025620-21
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0174018-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0310381-10
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-0617230-44
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0617268-78
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0777614-27
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-1174321-11
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2016.11.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-1174322-56
12 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0916977-57
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1 패턴이 형성된 제1 고분자 패턴막을 준비하는 단계;양면에 각각 제1 및 제2 부분 경화층이 형성되어 있으며 상기 제1 패턴의 크기보다 큰 크기를 갖는 제2 패턴의 개구부가 형성되어 있는 제2 고분자 패턴막을, 상기 제1 부분 경화층이 상기 제1 고분자 패턴막의 제1 패턴과 접하도록 위치시키는 단계; 및 상기 제2 고분자 패턴막의 제2 부분 경화층에 상기 제2 패턴의 크기보다 작은 제3 패턴을 형성하는 단계; 를 포함하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 제3 패턴이 형성된 제2 고분자 패턴막 상에, 상기 제2 패턴의 크기보다 큰 제4 패턴의 개구부가 형성되어 있으며 양면에 각각 제3 및 제4 부분 경화층을 갖는 제4 고분자 패턴막을 상기 제3 부분 경화층이 상기 제3 패턴과 접하도록 위치시키는 단계; 및 상기 제4 고분자 패턴막의 상기 제4 부분 경화층 상에 상기 제4 패턴 보다 크기가 작은 제5 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 제2 고분자 패턴막 또는 제4 고분자 패턴막은,상기 제2 패턴 또는 제4 패턴에 대칭되는 볼록부를 갖는 입체 패턴이 형성된 제1 스탬프와 패턴이 형성되지 않은 평평한 면을 갖는 제2 스탬프를 준비하는 단계;상기 제1 스탬프의 입체 패턴 상에 고분자 수지막 조성물을 코팅하고 그 위에 상기 제2 스탬프를 위치시킴으로써 상기 고분자 수지막 조성물이 표면에 대한 친화력 차이에 따른 젖음 특성에 의해 상기 입체 패턴의 오목한 부분으로 유동하도록 하여 상기 볼록부가 고분자 수지 코팅층을 두께 방향으로 관통하도록 하는 단계; 상기 제1 스탬프와 제2 스탬프를 통해 일정 압력을 가하면서 자외선을 조사함으로써 상시 고분자 수지막 조성물을 경화시키는 단계: 및상기 제1 스탬프 및 제2 스탬프를 제거하는 단계에 의해 제조되는 것인, 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 제1 스탬프 및 제2 스탬프는 산소투과성 및 광투과성 고분자 재질로 제작되고, 자외선 조사에 의한 고분자 수지막 조성물 경화시 제1 및 제2 스탬프와 인접한 고분자 수지막 표면의 경화도가 중심부의 경화도보다 낮아지는 것을 특징으로 하는 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
8 8
제6항에 있어서,상기 고분자 수지막 조성물에 자외선 조사 후 제2 스탬프만 먼저 제거함으로써, 상기 관통한 제1 스탬프의 볼록부에 잔류하는 부분 경화된 수지가 상기 고분자 수지막의 표면으로 유동하는 디웨팅 공정 단계를 더 포함하는 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
9 9
제6항에 있어서,상기 제2 스탬프가 위치된 고분자 수지막 표면의 부분 경화도가 상기 제1 스탬프가 형성된 부분 경화도 보다 낮은 것을 특징으로 하는 계층적 미세 구조물 형성용 몰드의 제조방법
10 10
제6항에 있어서,상기 제1 및 제2 스탬프가 각각 독립적으로 폴리디메틸실록산(PDMS) 또는 폴리우레탄아크릴레이트(PUA)를 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상으로 제조된 것을 특징으로 하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
11 11
제5항에 있어서,상기 제2 또는 제4 부분 경화층상의 고분자 패턴 형성은상기 부분 경화층에 형성하고자 하는 패턴에 대칭되는 패턴을 갖는 스탬프를 위치시키는 단계; 및상기 부분 경화층이 상기 스탬프의 형상에 따라 유동하여 고분자 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
12 12
제5항에 있어서,상기 제2 또는 제4 부분 경화층에 고분자 패턴 형성은, 상기 부분 경화층에 형성하고자 하는 패턴에 대칭되는 패턴을 갖는 스탬프를 일정 압력으로 위치시켜 상기 부분 경화층에 패턴을 전사시키는 단계; 및 상기 부분 경화층이 상기 스탬프의 형상에 따라 유동하여 고분자 패턴을 형성할 때 감압조건을 인가하여 유동을 용이하게 하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
13 13
제11항에 있어서,상기 스탬프가 폴리디메틸실록산(PDMS) 또는 폴리우레탄아크릴레이트(PUA)를 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상으로 제조된 것을 특징으로 하는 계층적 미세구조물 형성용 몰드의 제조방법
14 14
제5항에 있어서,상기 제5 패턴이 형성된 제4 고분자 패턴막 상에, 상기 제4 패턴의 크기보다 큰 제6 패턴의 개구부가 형성되어 있으며 양면에 각각 부분 경화층을 갖는 제6 고분자 패턴막을 상기 부분 경화층 중 일면이 상기 제5 패턴과 접하도록 위치시키는 단계; 및 상기 제6 고분자 패턴막의 다른 부분 경화층 상에 상기 제6 패턴보다 크기가 작은 제7 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 방법을 반복함으로써 3층 이상의 다층 구조를 갖는 계층적 미세구조물을 제조할 수 있는 몰드를 제조하는 것을 특징으로 하는 계층적 미세구조물용 몰드의 제조방법
15 15
삭제
16 16
삭제
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2016114622 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2016114622 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 글로벌프론티어사업 초고효율 에너지 변환용 삼차원 멀티구조체 병렬 조립
2 미래창조과학부 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 글로벌프론티어사업 지능형 구조물의 병렬적 접합을 통한 3차원 멀티스케일 구조물 제작