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애노드(anode), 상기 애노드 상의 발광층, 및 상기 발광층 상의 캐소드(cathode)를 포함하고,상기 발광층과 상기 캐소드 사이에 전자주입층을 포함하며,상기 전자주입층은 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 것인,유기 발광 소자(organic light emitting diode, OLED)
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제 1 항에 있어서,상기 산화금속 및 상기 탄산금속 각각은, 알칼리 금속, 알칼리토금속, 란타늄 계열 금속, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것인, 유기 발광 소자
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제 2 항에 있어서,상기 산화금속은, Li2O, Na2O, K2O, Rb2O, Cs2O, Fr2O, BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, RaO, La2O3, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 유기 발광 소자
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제 2 항에 있어서,상기 탄산금속은, Li2CO3, Na2CO3, K2CO3, Rb2CO3, Cs2CO3, Fr2CO3, BeCO3, MgCO3, CaCO3, SrCO3, BaCO3, RaCO3, La2(CO3)3, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 유기 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 풀러렌은, C60, C70, C76, C78, C84, C60 유도체, C70 유도체, C76 유도체, C78 유도체, C84 유도체, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 유기 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 도핑된 풀러렌은 풀러렌 100 중량부에 대해서 상기 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속을 99
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제 1 항에 있어서,상기 전자주입층과 상기 발광층 사이에 전자수송층을 추가로 포함하는, 유기 발광 소자
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제 7 항에 있어서,상기 전자수송층은 상기 산화금속 또는 상기 탄산금속, 또는 상기 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 것인, 유기 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 애노드와 상기 발광층 사이에 정공주입층 또는 정공수송층, 또는 정공주입층 및 정공수송층을 추가로 포함하는, 유기 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 유기 발광 소자는 유연성 기재, 투명 기재, 또는 유연성 투명 기재 상에 형성된 것인, 유기 발광 소자
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기재 상에 애노드를 형성하는 단계;상기 애노드 상에 발광층을 형성하는 단계; 상기 발광층 상에 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 전자주입층을 형성하는 단계; 및상기 전자주입층 상에 캐소드를 형성하는 단계를 포함하는 것인,유기 발광 소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 산화금속 및 상기 탄산금속 각각은, 알칼리 금속, 알칼리토금속, 란타늄 계열 금속, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 풀러렌은, C60, C70, C76, C78, C84, C60 유도체, C70 유도체, C76 유도체, C78 유도체, C84 유도체, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 도핑된 풀러렌은 풀러렌 100 중량부에 대해서 상기 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속을 99
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제 11 항에 있어서,상기 애노드 상에 발광층을 형성하는 단계 이후에, 상기 발광층 상에 전자수송층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 15 항에 있어서,상기 전자수송층은 상기 산화금속 또는 상기 탄산금속, 또는 상기 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 기재 상에 애노드를 형성하는 단계 이후에,상기 애노드 상에 정공주입층 또는 정공수송층, 또는 정공주입층 및 정공수송층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 기재는 유연성 기재, 투명 기재, 또는 유연성 투명 기재인 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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기재 상에 캐소드를 형성하는 단계;상기 캐소드 상에 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 전자주입층을 형성하는 단계;상기 전자주입층 상에 발광층을 형성하는 단계; 및상기 발광층 상에 애노드를 형성하는 단계를 포함하는 것인,유기 발광 소자의 제조방법
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제 19 항에 있어서,상기 캐소드 상에 산화금속 또는 탄산금속, 또는 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 전자주입층을 형성하는 단계 이후에, 상기 전자주입층 상에 전자수송층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 20 항에 있어서, 상기 전자수송층은 상기 산화금속 또는 상기 탄산금속, 또는 상기 산화금속 및 탄산금속에 의하여 도핑된 풀러렌(fullerene)을 함유하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 19 항에 있어서,상기 전자주입층 상에 발광층을 형성하는 단계 이후에,상기 발광층 상에 정공주입층 또는 정공수송층, 또는 정공주입층 및 정공수송층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것인, 유기 발광 소자의 제조방법
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제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 유기 발광 소자를 포함하는, 발광 디바이스(device)
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제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 유기 발광 소자를 포함하는, 디스플레이 디바이스
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