요약 | 본 발명은 센서 소자에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 일측 표면에 입체 패턴으로 이루어진 패턴 영역이 형성된 제1기판; 상기 제1기판의 표면에 형성되고, 상기 패턴 영역 외곽에 위치한 전극들; 및 상기 제1기판의 일측 표면과 대향하는 일측 표면 상에 적어도 상기 패턴 영역의 일부를 덮으면서 상기 전극들과 전기적으로 접촉하는 가변 전도도 패턴;을 포함하는 센서 소자가 제공된다. |
---|---|
Int. CL | G01L 9/00 (2006.01.01) C01B 31/02 (2006.01.01) G06F 3/041 (2006.01.01) |
CPC | G06F 3/041(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100061035 (2010.06.28) |
출원인 | 한양대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1269395-0000 (2013.05.23) |
공개번호/일자 | 10-2012-0000667 (2012.01.04) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20130529) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.02.22) |
심사청구항수 | 10 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한양대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이승백 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
2 | 임채현 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인이상 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한양대학교 산학협력단 | 서울특별시 성동구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0413478-13 |
2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2012.02.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0143649-82 |
3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2013.03.25 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2013.05.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0032210-71 |
5 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.05.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0344911-35 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 일측 표면에 입체 패턴으로 이루어진 패턴 영역이 형성된 제1기판;상기 제1기판의 표면에 형성되고, 상기 패턴 영역 외곽에 위치한 전극들; 및상기 제1기판의 일측 표면과 대향하는 일측 표면 상에 적어도 상기 패턴 영역의 일부를 덮으면서 상기 전극들과 전기적으로 접촉하는 가변 전도도 패턴;을 포함하는 센서 소자 |
2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 입체 패턴은 트랜치(trench) 형태, 물결(wavy) 형태 및 원을 포함하는 다각 기둥 형태 중 어느 한 형태로 이루어진 패턴인 센서 소자 |
3 |
3 제 1 항에 있어서,상기 전극들은 상기 패턴 영역을 사이에 두고 서로 이격되어 위치하는 제1전극 및 제2전극을 포함하는 센서 소자 |
4 |
4 제 1 항에 있어서,상기 가변 전도도 패턴은 탄소 나노 튜브, 나노 와이어, 나노 파티클, 금속 및 압전 물질 중 어느 하나를 포함하는 박막인 센서 소자 |
5 |
5 제 1 항에 있어서,상기 센서 소자는 상기 가변 전도도 패턴 상부에 배치되는 제2기판을 더 포함하고,상기 제2기판과 가변 전도도 패턴 사이에 위치한 점착층을 더 포함하는 센서 소자 |
6 |
6 제 5 항에 있어서,상기 제2기판은 플랙시블(flexible) 기판인 센서 소자 |
7 |
7 제 1 항에 있어서,상기 전극들과 제1기판 사이에 위치한 버퍼층을 더 포함하는 센서 소자 |
8 |
8 일측 표면에 입체 패턴이 위치한 제1기판 및 일측 표면 상에 가변 전도도 패턴이 위치한 제2기판을 준비하는 단계;상기 입체 패턴의 외곽에 전극들을 형성하는 단계; 및상기 전극들에 가변 전도도 패턴이 접촉하도록 상기 제1기판과 제2기판을 접합하는 단계;를 포함하는 센서 소자 제조 방법 |
9 |
9 제 8 항에 있어서,상기 일측 표면 상에 가변 전도도 패턴이 위치한 제2기판을 준비하는 단계:는제2기판의 일측 표면 상에 점착층을 형성하는 단계;일측 표면에 가변 전도도 패턴이 형성된 다공성 나노 템플레이트 필터를 준비하는 단계;상기 다공성 나노 템플레이트 필터와 제2기판을 대면시키는 단계; 및상기 가변 전도도 패턴을 전사하여 상기 점착층 상에 상기 가변 전도도 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 센서 소자 제조 방법 |
10 |
10 제 9 항에 있어서,상기 일측 표면에 가변 전도도 패턴이 형성된 다공성 나노 템플레이트 필터를 준비하는 단계;는일표 표면 상에 상기 가변 전도도 패턴 형성을 위한 마스크 패턴이 형성된 다공성 나노 템플레이트 필터를 준비하는 단계;탄소 나노 튜브가 분산된 탄소 나노 튜브 용액을 준비하는 단계; 및상기 탄소 나노 튜브 용액을 상기 다공성 나노 템플레이트 필터를 이용하여 선택적 진공 여과법으로 진공 여과하여 상기 다공성 나노 템플레이트의 일측 표면 상에 가변 전도도 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 센서 소자 제조 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
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1 | 지방자치단체 | 한양대학교 산학협력단 | 서울시산학연협력사업(서울형산업기술개발지원사업) | 탄소 나노튜브 박막의 표면구조변화를 이용한 고감도 압력 및 촉각센서개발 |
특허 등록번호 | 10-1269395-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20100628 출원 번호 : 1020100061035 공고 연월일 : 20130529 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130520 청구범위의 항수 : 10 유별 : G01L 9/00 발명의 명칭 : 센서 소자 및 이를 제조하는 방법 존속기간(예정)만료일 : 20190524 |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 217,500 원 | 2013년 05월 23일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 182,000 원 | 2016년 04월 18일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 182,000 원 | 2017년 04월 03일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 130,000 원 | 2018년 04월 06일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.06.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0413478-13 |
2 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2012.02.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0143649-82 |
3 | 선행기술조사의뢰서 | 2013.03.25 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2013.05.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0032210-71 |
5 | 등록결정서 | 2013.05.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0344911-35 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
기술번호 | KST2014060007 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한양대학교 |
기술명 | 센서 소자 및 이를 제조하는 방법 |
기술개요 |
본 발명은 센서 소자에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 일측 표면에 입체 패턴으로 이루어진 패턴 영역이 형성된 제1기판; 상기 제1기판의 표면에 형성되고, 상기 패턴 영역 외곽에 위치한 전극들; 및 상기 제1기판의 일측 표면과 대향하는 일측 표면 상에 적어도 상기 패턴 영역의 일부를 덮으면서 상기 전극들과 전기적으로 접촉하는 가변 전도도 패턴;을 포함하는 센서 소자가 제공된다. |
개발상태 | 기술개발진행중 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 센서 소자 및 이를 제조하는 방법 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 라이센스, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415109506 |
---|---|
세부과제번호 | C1090-1011-0012 |
연구과제명 | SDR 기술연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
연구주관기관명 | 한양대학교 산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200208~201012 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1415109506 |
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세부과제번호 | C1090-1011-0012 |
연구과제명 | SDR 기술연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
연구주관기관명 | 한양대학교 산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200208~201012 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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