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투명 유연 기판; 및상기 투명 유연 기판의 상면에 스퍼터링 방식으로 증착 형성되는 하부 투명 전극층과, 상기 하부 투명 전극층의 상면에 코팅 방식으로 코팅 형성되는 금속 나노와이어 층과, 상기 금속 나노와이어 층의 상면에 스퍼터링 방식으로 증착 형성되는 상부 투명 전극층을 구비하여 형성된 다층 투명 전극층을 포함하며상기 상부 투명 전극층은 상기 금속 나노와이어 층의 수직화를 방지하는 대향 타겟 스퍼터링 장치를 통해 스퍼터링 증착 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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제 1 항에 있어서,상기 금속 나노와이어 층은 스핀 코팅 또는 브러쉬 코팅 방식을 통해 코팅 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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제 2 항에 있어서,상기 금속 나노와이어 층은 Ag, Cr, Ti, Cu, Au, Ni, Al, Mo 중 어느 하나의 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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제 1 항에 있어서,상기 하부 투명 전극층 또는 상부 투명 전극층은 ITO, ZTO, IZO, IZTO, GZO, AZO, NbTiO2, FTO, ATO, BZO 중 어느 하나로 적용되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하부 투명 전극층은 20~40nm두께로 형성되며, 상기 금속 나노와이어 층은 30~100nm의 두께로 형성되며, 상기 상부 투명 전극층는 20~40nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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제 1 항에 있어서,상기 대향 타겟 스퍼터링 장치는내부 공간에 진공압이 형성되고, 증착 대상 기판이 내부 공간에 배치되도록 형성되는 스퍼터링 챔버;상기 스퍼터링 챔버 내에 장착되어 서로 대향하도록 이격되게 배치되고, 서로 대향하는 면에는 각각 음극 전원에 연결되도록 스퍼터링 타겟 물질이 배치되며, 대향하는 사이 공간이 상기 증착 대상 기판과 이격되게 배치되는 제 1 및 제 2 스퍼터링 건;상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 건의 사이 공간에 자기장이 형성되도록 상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 건에 각각 장착되는 제 1 및 제 2 마그네트; 및상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 건의 사이 공간으로 반응 가스가 유입되어 플라즈마가 형성되도록 상기 스퍼터링 챔버에 관통 삽입되는 가스 공급관을 포함하고, 상기 플라즈마는 상기 제 1 및 제 2 마그네트에 의해 형성된 자기장에 의해 상기 제 1 및 제 2 스퍼터링 건의 사이 공간에 구속되며, 상기 플라즈마에 의해 상기 스퍼터링 타겟 물질의 원자가 방출되어 상기 투명 유연기판에 증착되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자
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투명 유연기판의 상면에 하부 투명 전극층을 형성하는 단계;상기 하부 투명 전극층의 상면에 용액 공정으로 은 나노와이어 코팅액을 코팅한 후 건조시켜 금속 나노와이어 층을 형성하는 단계;상기 금속 나노와이어 층이 형성된 상기 투명 기판을 스퍼터링 챔버에 장착시킨 후, 상기 금속 나노와이어 층의 상면에 상부 투명 전극층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 상부 투명 전극층은 상기 금속 나노와이어 층의 수직화를 방지하는 대향 타겟 스퍼터링 방식으로 상기 금속 나노와이어 층의 상면에 스퍼터링 증착 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 금속 나노와이어층은 스핀 코팅 또는 브러쉬 코팅 방식을 통해 코팅 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 금속 나노와이어층은 Ag, Cr, Ti, Cu, Au, Ni, Al, Mo 중 어느 하나의 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자의 제조 방법
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10
제 7 항에 있어서,상기 하부 투명 전극층 또는 상부 투명 전극층은 ITO, ZTO, IZO, IZTO, GZO, AZO, NbTiO2, FTO, ATO, BZO 중 어느 하나로 적용되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자의 제조 방법
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제 7 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하부 투명 전극층은 20~40nm두께로 형성되며, 상기 금속 나노와이어 층은 30~100nm의 두께로 형성되며, 상기 상부 투명 전극층는 20~40nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 투명 전극 소자의 제조 방법
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