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투명전극과 이를 이용한 투명 안테나 및 투명전극의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014059371
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저저항 다층 구조의 다층 투명 전도막과 금속선을 혼합한 새로운 형태의 투명전극 및 그 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명에 의한 투명전극은, 다층 투명 전도막과 다층 투명 전도막의 일면에 접하는 복수의 금속선을 포함한다. 다층 투명 전도막은 투명 전도성 산화물층 및 투명 전도성 산화물층과 접하는 금속층을 포함하고, 금속층의 상하면에 투명 전도성 산화물층이 적층된 2n+1층(n은 1 이상의 정수)의 샌드위치 구조를 갖는다. 본 발명에 의한 투명전극은 저저항 다층 구조의 다층 투명 전도막과 금속선이 혼합된 새로운 형태의 투명전극으로 우수한 투과성과 전도성을 가지므로, 평판 디스플레이, 터치 패널, 태양전지, 센서, TFT 등 다양한 전자소자에 이용될 수 있다.
Int. CL H01B 5/14 (2006.01)
CPC H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01)
출원번호/일자 1020110002413 (2011.01.10)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1273760-0000 (2013.06.04)
공개번호/일자 10-2012-0080930 (2012.07.18) 문서열기
공고번호/일자 (20130612) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.01.10)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김한기 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 박용석 대한민국 경상북도 구미시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서재승 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***-*(논현동) ***호(스카이국제특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0019263-07
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.02.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0009291-84
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0350003-55
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.08.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0666810-15
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0675885-28
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0783500-79
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.01.15 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0041209-82
9 등록결정서
Decision to grant
2013.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0372537-63
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명 전도성 산화물층 및 상기 투명 전도성 산화물층과 접하는 금속층을 포함하고, 상기 금속층의 상하면에 상기 투명 전도성 산화물층이 적층된 2n+1층(n은 1 이상의 정수)의 샌드위치 구조를 갖는 다층 투명 전도막; 및상기 다층 투명 전도막의 일면에 접하는 복수의 금속선;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전극
2 2
제 1 항에 있어서,상기 다층 투명 전도막은 그 두께가 일정하고, 상기 복수의 금속선을 부분적으로 감쌀 수 있도록 상기 복수의 금속선에 대응하는 부분이 상기 금속선의 두께에 대응하는 높이로 융기된 것을 특징으로 하는 투명전극
3 3
제 1 항에 있어서,상기 금속층과 상기 금속선은 동일한 금속 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명전극
4 4
제 3 항에 있어서,상기 금속 물질은 Ag, Au, Cu, Al
5 5
제 1 항에 있어서,상기 복수의 금속선은 일정한 형태의 메시를 형성하는 그물망 구조로 배치되는 것을 특징으로 하는 투명전극
6 6
제 1 항에 있어서,상기 복수의 금속선 중 일부는 제 1 방향으로 배치되고, 나머지 일부는 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 투명전극
7 7
투명 기판;상기 투명 기판 위에 놓이는 복수의 금속선; 및상기 투명 기판 위에 적층되어 상기 복수의 금속선을 덮고, 투명 전도성 산화물층 및 상기 투명 전도성 산화물층과 접하는 금속층을 포함하되, 상기 금속층의 상하면에 상기 투명 전도성 산화물층이 적층된 2n+1층(n은 1 이상의 정수)의 샌드위치 구조를 갖는 다층 투명 전도막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 안테나
8 8
기판 위에 복수의 금속선을 형성하는 단계; 및상기 복수의 금속선이 형성된 상기 기판 위에 상기 복수의 금속선을 덮도록 다층 투명 전도막을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 다층 투명 전도막을 형성하는 단계는,상기 복수의 금속선이 형성된 상기 기판 위에 상기 복수의 금속선을 덮도록 투명 전도성 산화물층을 형성하는 단계,상기 투명 전도성 산화물층 위에 금속층을 형성하는 단계, 및상기 금속층 위에 투명 전도성 산화물층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 금속층의 상하면에 상기 투명 전도성 산화물층이 배치되어 전체적으로 2n+1층(n은 1 이상의 정수)의 샌드위치 구조가 되도록 상기 투명 전도성 산화물층 및 상기 금속층을 적층하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 금속선을 형성하는 단계는,상기 복수의 금속선의 배치 구조에 대응하는 패턴홈을 갖는 패턴 마스크를 상기 기판 위에 배치하는 단계, 및상기 금속층과 같은 재질의 금속 타겟을 이용한 스퍼터 공정을 통해 상기 금속 타겟의 입자를 상기 패턴홈을 통과시켜 상기 기판 위에 입사시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 금속선을 형성하는 단계는,상기 기판 위에 포토레지스트층을 형성하는 단계,상기 복수의 금속선의 배치 구조에 대응하는 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 포토레지스트층 위에 배치하고, 상기 포토 마스크의 패턴에 따라 상기 포토레지스트층을 노광하는 단계,상기 포토레지스트층을 현상하여 상기 포토레지스트층에 상기 복수의 금속선의 배치 구조에 대응하는 패턴홈을 형성하는 단계,상기 패턴홈에 상기 금속선을 구성하기 위한 금속 물질을 도포하는 단계, 및상기 포토레지스트층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
11 11
제 8 항에 있어서,상기 투명 전도막을 형성하는 각각의 단계는, 상기 투명 전도성 산화물층과 동일한 재질의 산화물 타겟과 상기 금속층과 동일한 재질의 금속 타겟을 이용한 스퍼터 공정을 통해 차례로 수행되는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 스퍼터 공정은,상기 복수의 금속선이 형성된 상기 기판, 상기 산화물 타겟이 구비된 제 1 스퍼터건, 상기 금속 타겟이 구비된 제 2 스퍼터건을 같은 진공 챔버에 넣고, 상기 제 1 스퍼터건 및 상기 제 2 스퍼터건을 교대로 작동시켜 상기 기판 위에 상기 투명 전도성 산화물층 및 상기 금속층을 차례로 적층하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
13 13
제 8 항에 있어서,상기 기판으로 필름형의 플렉시블 기판을 이용하고,상기 플렉시블 기판의 이동 경로 중에 상기 금속선과 동일한 재질의 금속 타겟을 갖는 제 1 스퍼터건과 상기 투명 전도 산화물층과 동일한 재질의 산화물 타겟을 갖는 제 2 스퍼터건과 상기 금속층과 동일한 재질의 금속 타겟을 갖는 제 3 스퍼터건과 상기 산화물 타겟을 갖는 제 4 스퍼터건을 차례로 배치하되, 상기 플렉시블 기판과 상기 제 1 스퍼터건 사이에는 상기 복수의 금속선의 배치 구조에 대응하는 패턴홈을 갖는 패턴 마스크를 배치하고,상기 플렉시블 기판을 이동시키면서 상기 제 1 스퍼터건, 상기 제 2 스퍼터건, 상기 제 3 스퍼터건 및 상기 제 4 스퍼터건을 작동시켜 상기 플렉시블 기판 위에 상기 복수의 금속선, 상기 투명 전도 산화물층, 상기 금속층 및 상기 투명 전도 산화물층을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 (주)에스엔텍 산업원천기술개발사업 대면적 소자/패턴 박리 공정 및 모듈화 기술 개발