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식각용 마스크, 이의 제조 방법, 이를 이용한 다공성 멤브레인의 제조 방법, 다공성 멤브레인 및 이를 포함하는 미세먼지 차단용 마스크

  • 기술번호 : KST2015015909
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  • 전화번호 :
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 식각용 마스크, 이의 제조 방법, 다공성 멤브레인 이의 제조 방법, 다공성 멤브레인 및 미세먼지 차단용 마스크에서, 식각용 마스크는 유기막과, 유기막 상에 배치되고, 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태의 균일한 크기를 갖는 개구들이 형성된 패턴층을 포함한다.
Int. CL B01D 69/00 (2006.01) B01J 19/00 (2006.01) C08J 9/00 (2006.01) B01D 67/00 (2006.01)
CPC B01D 69/00(2013.01) B01D 69/00(2013.01) B01D 69/00(2013.01) B01D 69/00(2013.01) B01D 69/00(2013.01)
출원번호/일자 1020140114033 (2014.08.29)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0026111 (2016.03.09) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.08.29)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양승윤 대한민국 대구광역시 달성군
2 이승현 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0827438-89
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.03.11 수리 (Accepted) 9-1-2015-0015216-70
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0792812-23
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.01.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0031926-24
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0031950-10
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0386656-74
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-0602211-36
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2016.06.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0602203-71
11 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2016.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0537905-46
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
유기막; 및상기 유기막 상에 배치되고, 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태의 균일한 크기를 갖는 개구들이 형성된 패턴층을 포함하되,상기 패턴층의 개구들을 통해 상기 유기막의 표면이 노출되는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
2 2
제1항에 있어서,상기 패턴층은표면에 금속 또는 금속 산화물이 코팅되거나,금속 또는 금속 산화물로 형성된 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
3 3
제1항에 있어서,상기 개구들 각각은 상기 유기막에 의해 부분적으로 채워지는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
유기막을 준비하는 단계; 및상기 유기막 상에, 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태를 갖는 다수의 개구들이 형성된 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 패턴층은 표면에 금속 및 금속 산화물 중 어느 하나가 코팅되거나, 금속 및 금속 산화물 중 어느 하나로 형성되고,상기 패턴층의 개구들을 통해서 상기 유기막의 표면이 노출된 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 패턴층을 형성하는 단계는상기 유기막 상에 상기 패턴층을 배치시키는 단계;진공 또는 감압 조건에서 상기 유기막의 유리전이온도 이상으로 상기 패턴층이 배치된 상기 유기막을 열처리하는 단계; 및열처리된 패턴층 및 상기 유기막을 냉각시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
8 8
제6항에 있어서,상기 패턴층은,금속막을 준비하는 단계;상기 금속막을 양극 산화시켜 금속 산화물층을 형성하는 단계; 및상기 금속 산화물층의 일부를 상기 금속막으로부터 분리하는 단계를 거쳐 형성되고,상기 금속막으로부터 분리된 상기 금속 산화물층의 일부인 상기 패턴층을 상기 유기막 상에 배치시키는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
9 9
제6항에 있어서,상기 패턴층은임프린트 패턴에 금속 또는 금속 산화물을 코팅하거나, 금속막 또는 금속 산화물막을 식각하여 형성하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
10 10
제6항에 있어서,상기 패턴층을 형성하는 단계 이후에, 상기 개구들을 통해 노출된 유기막을 제거하여 상기 유기막에 홀들을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
11 11
고분자막 상에, 상기 고분자막과 접촉하는 유기막 및 상기 유기막 상에 배치되고 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태를 갖는 다수의 개구들이 형성된 패턴층을 포함하는 식각용 마스크를 배치시키는 단계; 및상기 식각용 마스크가 배치된 상태에서, 상기 고분자막을 플라즈마 식각하여 상기 고분자막에 다수의 관통홀들을 형성하는 단계를 포함하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
12 12
제11항에 있어서,상기 패턴층의 개구들은 균일한 크기를 갖는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
13 13
제11항에 있어서,상기 관통홀들을 형성한 후, 상기 식각용 마스크의 유기막과 상기 고분자막의 손상 없이, 상기 고분자막으로부터 상기 식각용 마스크가 제거되는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
14 14
제11항에 있어서,상기 고분자막은 엘라스토머로 형성된 탄성 고분자막인 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
15 15
제11항에 있어서,상기 고분자막은천연고무(Natural Rubber), 폴리이소프렌(polyisoprene), 폴리클로로프렌(polychloroprene), 폴리부타디엔(polybutadiene), 스티렌부타디엔 고무(Styrene Butadiene Rubber, SBR), 아크릴로니트릴부타디엔 고무(acrylonitrile butadiene rubber), 에틸렌프로필렌디엔모노머(ethylene Propylene Diene Monomer, EPDM), 클로로술포네이티드 폴리에틸렌(chlorosulfonated polyethylene, CSM), 디부톡시에톡시에틸 아디페이트(Dibutoxyethoxyethyl Adipate, DBEA), 폴리에피클로로히드린 (Polyepichlorohydrin, PECH), 폴리우레탄(Polyurethane, PU), 에틸렌 아크릴산 공중합체(Ethylene acrylic acid copolymer, EAA), 테트라플루오르 에틸렌/프로필렌 고무(tetrafluoro ethylene/propylene rubbers, FEPM), 퍼플루오르-엘라스토머(perfluoro-elastomers, FFKM) 및 폴리노보넨(Polynorbornene)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나로 형성되고,상기 유기막은폴리에틸렌 (Polyethylene, PE), 폴리프로필렌 (Polypropylene, PP), 폴리스티렌 (Polystyrene, PS), 폴리염화비닐 (Poly(vinyl chloride), PVC), 폴리메틸메타크릴레이트 (Poly(methyl methacrylate), PMMA), 폴리비닐아세테이트(Poly(vinyl acetate), PVA), 폴리아크릴로니트릴 (Polyacrylonitrile, PAN), 테트라플루오르에틸렌 (Polytetrafluoroethylene, teflon), 폴리디시클로펜타디엔 (Polydicyclopentadiene), 폴리페닐렌설파이드 (Poly(phenylene sulfide)), 카본섬유 (Carbon Fiber), 에폭시 수지(Epoxy resin), 폴리에스테르(Polyester), 폴리아미드(Polyamide), 폴리클로로프렌(Polychloroprene), 폴리카보네이트 (Polycarbonate), 폴리글리콜라이드 (Polyglycolide, PGA) 및 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)을 포함하는 합성 폴리머; 및 셀룰로오스(Cellulose), 녹말(Starch), 키틴(Chitin), 키토산(chitosan), 케라톤(Keratin), 콜라겐(Collagen), 젤라틴(Gelatin), 알지네이트(alginate), 히알루로난(hyaluronan), 콘드로이틴황산(chondroitin sulfate), 실크(silk), 핵산(DNA)을 포함하는 천연 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
16 16
제11항에 있어서,상기 관통홀들을 형성하는 단계는상기 유기막 및 상기 고분자막을 모두 식각하는 산소 플라즈마를 이용하는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
17 17
제11항에 있어서,상기 유기막은상기 패턴층의 개구들 각각과 대응하는 홀들을 포함하는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
18 18
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1 미래창조과학부 부산대학교 일반연구 (신진연구자 지원사업) 기생충 모방형 부푸는 마이크로바늘을 이용한 고속 상처치료용 다기능 조직 접착제 개발