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콜드월(cold wall) 형태의 반응 챔버;상기 챔버 내에 설치되어 도입되는 기판을 지지하며 그 온도를 조절하는 기판부;상기 기판에 증착시킬 유기물 소스 기상(organic source gas phase)을 발생시키는 유기물 소스부; 증착 반응 동안에 상기 챔버의 전체압력을 수 mTorr 영역에서 수백 Torr 영역까지의 저진공으로 유지하는 진공 펌프부; 상기 기판 아래에 대향되게 상기 챔버 내에 설치되어 상기 유기물 소스 기상을 상기 기판 상으로 균일하게 분배하는 운반가스를 주입할 수 있는 운반가스부; 및상기 챔버에 상기 유기물 소스 기상과 함께 제공될 희석가스를 위한 희석가스 공급원을 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항에 있어서, 잔류 유기물 부산물들이 상기 챔버 벽면에 증착되는 것을 방지하며 자기 세척(self cleaning)이 가능하도록 온도조절이 가능한 보호부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 유기물 소스부는 서로 다른 성분의 유기물 소스 기상들을 생성하기 위해서 다수개가 설치되는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 희석가스로는 질소, 헬륨, 아르곤, 크립톤, 제논, 네온, 암모니아, 메탄올, 산소, 또는 수소를 사용하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 운반가스부는 운반가스 공급원과, 운반가스 분배를 위한 샤워 링(shower ring) 또는 파이프를 구비한 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제6항에 있어서, 상기 운반가스로는 질소, 헬륨, 아르곤, 크립톤, 제논 또는 네온을 사용하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제6항에 있어서, 상기 샤워 링 또는 파이프가 냉각 또는 가열이 가능한 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제6항에 있어서, 상기 샤워 링 또는 파이프가 상기 유기물 소스부 상부, 하부 또는 상부와 하부 두 곳에 존재하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제6항에 있어서, 상기 운반가스의 유량 및 속도를 조절하기 위한 유량조절계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제6항에 있어서, 상기 샤워 링 또는 파이프는 크기가 1㎜ 내지 50㎜ 정도인 홀을 하나 이상 가진 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제11항에 있어서, 상기 홀은 구형 또는 임의의 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 희석가스의 유량 및 속도를 조절하기 위한 유량조절계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착장치
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제1항 내지 제13항 기재의 증착장치를 이용하여 유기물 박막을 증착하는 증착방법
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콜드월 형태의 반응 챔버 안에 수 mTorr 영역에서 수백 Torr 영역 사이인 저진공을 형성하는 단계; 유기물 소스 재료를 담은 유기물 소스부를 가열하여 유기물 소스 기상을 형성하는 단계; 상기 유기물 소스 기상을 상기 챔버 안에 도입된 기판 상에 수송, 분배하여 증착 반응을 유도하는 단계; 및 상기 기판 상에 증착이 수행된 후 상기 챔버를 퍼지(purge)하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착방법
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제15항에 있어서, 상기 증착 반응을 유도하는 단계에서는 질소, 헬륨, 아르곤, 크립톤, 제논 또는 네온과 같은 운반가스를 상기 유기물 소스부 쪽으로 공급하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착방법
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제15항에 있어서, 상기 증착 반응을 유도하는 단계에서는 질소, 헬륨, 아르곤, 크립톤, 제논 또는 네온과 같은 운반가스를 상기 유기물 소스부 쪽으로 공급하는 것을 특징으로 하는 저진공 유기물 기상 증착방법
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