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기판의 일측 상의 제 1 광 도파로;상기 제 1 광 도파로에서 분리되어 상기 기판의 타측 상에 배치된 레이저; 및상기 레이저와 상기 제 1 광 도파로 사이의 제 1 접합 도파로를 포함하되,상기 레이저는 상기 기판 상에 단일 집적된(monolithic integrated) 광학 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저는 배 모양을 갖는 광학 장치
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제 2 항에 있어서,상기 배 모양의 상기 레이저는, 임의의 선폭을 갖는 레이저 중심 도파로; 및상기 레이저 도파로의 양측에 각각 연결되고, 상기 레이저 도파로에서 멀어지는 방향으로 테이퍼진 제 1 레이저 에지 도파로 및 제 2 레이저 에지 도파로를 포함하는 광학 장치
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제 3 항에 있어서,상기 제 1 광 도파로와, 상기 제 1 레이저 에지 도파로 및 상기 제 2 레이저 에지 도파로 중 어느 하나와, 상기 제 1 광 도파로는 가까워지는 방향으로 각각 테이퍼진 광학 장치
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제 3 항에 있어서,상기 레이저는 상기 레이저 중심 도파로의 선폭에 비례하는 파장의 레이저 광을 발진하는 광학 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저는 분산형 피드백(DFB) 레이저를 포함하는 광학 장치
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제 6 항에 있어서,상기 레이저는,하부 클래드 층;상기 하부 클래드 층 상의 활성 층; 및상기 활성 층 상의 상부 클래드 층을 포함하되,상기 하부 클래드 층, 상기 활성 층, 상기 상부 도파로 층은 3-5족 반도체를 포함하는 광학 장치
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제 7 항에 있어서,상기 레이저는,상기 하부 클래드 층 상의 제 1 전극; 및상기 상부 클래드 층 상의 제 2 전극을 더 포함하는 광학 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 접합 도파로는 상기 하부 클래드 층, 상기 활성 층, 상기 상부 클래드 층, 및 상기 제 2 전극을 덮는 광학 장치
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10
제 7 항에 있어서,상기 레이저는 상기 하부 클래드 층과 상기 상부 클래드 층 중 어느 하나에 형성된 제 1 브래그 회절 격자들을 더 포함하는 광학 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 광 도파로에 대향되는 상기 레이저의 타측 기판 상에 분리된 제 2 광 도파로; 및 상기 제 2 광 도파로와 상기 레이저 사이의 제 2 접합 도파로를 더 포함하는 광학 장치
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12
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 접합 도파로 및 상기 제 2 접합 도파로 중 적어도 하나에 형성된 제 2 브래그 회절 격자들을 포함하는 광학 장치
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13
제 12 항에 있어서, 상기 레이저는 상기 제 2 브래그 회절 격자들 사이의 거리에 비례하는 파장의 레이저 광을 발진하는 광학 장치
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제 11 항에 있어서, 상기 제 1 광 도파로 및 상기 제 2 광 도파로 중 적어도 하나에 형성된 제 3 브래그 회절 격자들을 더 포함하는 광학 장치
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15
제 1 항에 있어서, 상기 레이저와 상기 기판 사이, 또는 상기 광 도파로와 상기 기판 사이의 버퍼 층을 더 포함하는 광학 장치
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16
제 1 기판의 일측 상에 광 도파로를 형성하는 단계;상기 광 도파로에서 이격되는 상기 제 1 기판의 타측 상에 레이저를 형성하는 단계; 및상기 레이저와 상기 광 도파로 사이의 상기 제 1 기판 상에 접합 도파로를 형성하는 단계를 포함하되,상기 레이저는 웨이퍼 접합(bonding)에 의해 단일 집적(monolithically)으로 형성된 광학 장치의 제조방법
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제 16 항에 있어서,상기 웨이퍼는,제 2 기판;상기 제 2 기판 상의 상부 클래드 층;상기 상부 클래드 층 상의 활성 층; 및상기 활성 층 상의 하부 클래드 층을 포함하되,상기 하부 클래드 층은 상기 제 1 기판의 타측 상에 접합되는 광학 장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 레이저 형성 단계는, 상기 상부 클래드 층, 상기 활성 층, 및 상기 하부 클래드 층을 배 모양으로 패터닝하는 단계를 포함하는 광학 장치의 제조방법
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제 17 항에 있어서,상기 하부 클래드 층 아래의 상기 제 1 기판의 전면에 버퍼 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 광학 장치의 제조방법
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