광화학 박막증착 및 급속열처리를 낱장으로 행하는 장치에 있어서, 반응로 본체(1)의 위치맞춤핀(1a)에 일측의 위치 맞춤 구멍(2a)이 끼워지면서 타측의 위치맞춤된(1b)에는 걸림편(3)의 슬롯홈(3a)이 걸리도록 한 석영판의 열전대용 웨이퍼 지지대(2)의 측면상에는 다수의 리이드선 구멍(2b)을 형성하여 열전대용 리이드선(4)을 끼우도록 하고, 중앙 원형공간부(2c)의 둘레에는 3개의 ＂ㄴ＂형의 지지핀(5)을 일정한 간격으로 설치하여서 구성함을 특징으로 하는 광화학증착 및 급속열처리 장치용 웨이퍼 지지대

제1항에 있어서, 열전대용 웨이퍼 지지대(2)의 리이드선 구멍(2b)은 2열의 교호로 다수개 형성하여 2개의 열전대용 리이드선(4)을 서로 엇갈리게 끼우도록 한 광화학증착 및 급속열처리 장치용 웨이퍼 지지대

제1항에 있어서, 웨이퍼 지지대(2)의 각각의 ＂ㄴ＂형 지지핀(5)은 높이와 거리가 다른 단부(5a),(5b),(5c),(5d)를 다수개 형성하여 웨이퍼 지지대(2)의 교체없이 크기가 다른 웨이퍼를 사용하도록 한 광화학증착 및 급속열처리 장치용 웨이퍼 지지대

반응로 본체(1)의 위치맞춤편(1a)과 (1b)에 돌출부(11)의 위치맞춤 구멍(11a )과 걸림편912)의 슬롯홈(12a)이 끼워지거나 걸리도록 한 ＂ㄷ＂형 석영봉의 파이로미터용 웨이퍼 지지대(10)에는 ＂ㄴ＂형의 지지핀(13)을 일정한 간격으로 3개 설치하여 구성함을 특징으로 하는 광화학증착 및 급속열처리 장치용 웨이퍼 지지대