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다수의 반응가스를 공급하기 위한 가스공급 시스템과, 상기 가스 공급 시스템으로부터 공급되는 상기 반응가스를 분해하여 래디칼을 생성하는 래디칼 소스와, 상기 래디칼 및 반응가스를 공급받으며, 열처리를 위해 다수의 램프를 구비하는 성장 챔버와, 상기 성장 챔버로 웨이퍼를 이송하기 위한 로드-록 챔버와, 상기 성장 챔버의 내부를 진공으로 만들고 반응가스를 배출시키기 위한 진공 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스공급 시스템, 래디칼 소스, 성장 챔버, 로드-록 챔버 및 진공 시스템의 동작을 제어하기 위한 제어 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 다수의 램프는 자외선 램프 및 적외선 램프인 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 로드-록 챔버에는 상기 웨이퍼를 이송하기 위한 이송암이 구비되며, 상기 이송암에 상기 웨이퍼를 가열하기 위한 열전대가 부착된 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 로드-록 챔버에 웨이퍼의 표면 처리를 위한 챔버가 클러스터로 연결된 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스공급 시스템은 상기 다수의 반응가스가 각각 공급되는 다수의 가스공급관과, 상기 각 가스공급관에 설치된 유량조절기 및 가스밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 래디칼 소스는 가스주입구 및 가스배기구가 형성된 외부 커버와, 상기 외부 커버 내에 삽입되며 반사막에 의해 서로 격리되는 다수의 램프와, 상기 각각의 램프에 전력을 공급하기 위한 다수의 전극과, 양측 종단부가 상기 가스주입구 및 가스배기구에 각각 연결되며, 상기 반응가스가 상기 램프 주위를 순환할 수 있도록 설치된 코일 형태의 가스관을 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 반응가스 및 상기 램프의 상태를 모니터하기 위한 센서들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 진공 시스템은 배기구에 연결된 가스배기관과, 펌핑시스템에 연결된 가스배기관과, 상기 각 가스배기관과 상기 성장 챔버를 연결 및 분리시키는 챔버 분리 밸브와, 상기 각 가스배기관에 설치된 다수의 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 반응가스는 O2, N2, Ar, N2O, NO2, NH3, H2, HfCl4, ZrCl4, TMA(Al)를 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 반응가스는 O2, N2, Ar, N2O, NO2, NH3, H2, HfCl4, ZrCl4, TMA(Al)를 포함하는 것을 특징으로 하는 래디칼 보조 산화 장치
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