요약 | 본 발명은 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 및 그 제조방법과 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드에 관한 것이다.본 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물은 InP 기판 상부에 형성되는 제 1 굴절률을 갖는 InAlGaAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제1 InAlAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 제1 InAlAs층 상에 형성되는 InP층; 및 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제2 InAlAs층을 포함한다. 이에 따라, InAlGaAs층과 InP층의 접합부분에서 발생하는 타입-Ⅱ 밴드 라인업에 의해 발생하는 광학적 손실을 줄이므로, 소자의 특성을 향상시킬 수 있다. DBR(distributed Bragg reflector), InAlGaAs, InP, InAlAs, 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드 |
---|---|
Int. CL | H01S 5/183 (2006.01) |
CPC | H01S 5/18366(2013.01) H01S 5/18366(2013.01) H01S 5/18366(2013.01) H01S 5/18366(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020060049238 (2006.06.01) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | 10-0794667-0000 (2008.01.08) |
공개번호/일자 | 10-2007-0059853 (2007.06.12) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20080114) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020050118196 | 2005.12.06
|
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.06.01) |
심사청구항수 | 15 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김기수 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 한원석 | 대한민국 | 대전 유성구 |
3 | 김성복 | 대한민국 | 대전 유성구 |
4 | 오대곤 | 대한민국 | 대전 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 신영무 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.06.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0387392-02 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.04.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2007.05.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0026820-18 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.07.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0399972-80 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2007.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0670651-28 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2007.09.17 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0670694-81 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.01.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0003757-84 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 제 1 굴절률을 가지며 InP 기판 상부에 형성되는 InAlGaAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제1 InAlAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 제1 InAlAs층 상에 형성되는 InP층; 및 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InP층 상에 형성되는 제2 InAlAs층을 포함하는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 InAlGaAs층(n1, t1)의 두께(t1)는 λ/4n1 (여기서, λ : 발진 파장, n1 : 굴절률)이고, 상기 제1, 제2 InAlAs층(n2, t2) 및 상기 InP층(n3,t3)의 두께(t2, t3)는 하기의 수학식을 만족하는 (여기서, n2, n3 : 굴절률)수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 |
3 |
3 제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 InAlAs층의 두께는 5㎚ ~ 30㎚인 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 |
4 |
4 제1항에 있어서, 상기 InAlGaAs층의 굴절률은 3 |
5 |
5 제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 InAlAs층의 굴절률은 3 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 InP층의 굴절률은 3 |
7 |
7 InP 기판 상부에 제 1 굴절률을 갖는 InAlGaAs층을 형성하는 단계;상기 InAlGaAs층 상에 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 제 1 InAlAs층을 형성하는 단계;상기 제 1 InAlAs층 상에 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 InP층을 형성하는 단계; 및 상기 InP층 상에 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 제 2 InAlAs층을 형성하는 단계를 포함하는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 제조 방법 |
8 |
8 제7항에 있어서,상기 InAlGaAs층, 상기 제1 InAlAs층, 상기 제2 InAlAs층 및 상기 InP층은 n-타입 도펀트 또는 p-타입 도펀트 중 하나를 이용하여 도핑되는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 제조 방법 |
9 |
9 제7항에 있어서, 내부 공진 접합(intra-cavity junction)을 이용하는 경우, 상기 InAlGaAs층, 상기 제1 InAlAs층, 상기 제2 InAlAs층 및 상기 InP층은 도핑되지 않는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 제조 방법 |
10 |
10 InP 기판상에 형성되는 하부 DBR 구조물과, 상기 하부 DBR 구조물 상에 형성되는 캐비티와, 상기 캐비티 상에 형성되는 상부 DBR 구조물을 포함하며,상기 하부 DBR 구조물 및 상기 상부 DBR 구조물 중 적어도 하나는, 제 1 굴절률을 갖는 InAlGaAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제1 InAlAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 제1 InAlAs층 상에 형성되는 InP층; 및 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InP층 상에 형성되는 제2 InAlAs층을 포함하는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 |
11 |
11 제10항에 있어서,상기 InAlGaAs층(n1, t1)의 두께(t1)는 λ/4n1 (여기서, λ : 발진 파장, n1 : 굴절률)이고, 상기 제1, 제2 InAlAs층(n2, t2) 및 상기 InP층(n3,t3)의 두께(t2, t3)는 하기의 수학식을 만족하는 (여기서, n2, n3 : 굴절률) 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 |
12 |
12 제10항에 있어서,상기 제1 및 제2 InAlAs층의 두께는 5㎚ ~ 30㎚인 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 |
13 |
13 제10항에 있어서,상기 상부 DBR 구조물 및 하부 DBR 구조물은 n-타입 도펀트 또는 p-타입 도펀트를 이용하여 도핑되는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 |
14 |
14 제10항에 있어서, 내부 공진 접합(intra-cavity junction)을 이용하는 경우, 상기 상부 DBR 구조물 및 하부 DBR 구조물은 도핑되지 않는 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 |
15 |
15 제10항에 있어서,발진 파장이 1㎛ ~ 1 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US07369595 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20070127535 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2007127535 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US7369595 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0794667-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20060601 출원 번호 : 1020060049238 공고 연월일 : 20080114 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080104 청구범위의 항수 : 7 유별 : H01S 5/183 발명의 명칭 : 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 및그 제조방법과 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 370,500 원 | 2008년 01월 09일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2011년 01월 04일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2011년 12월 30일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 194,000 원 | 2012년 12월 06일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 366,000 원 | 2013년 12월 09일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 366,000 원 | 2014년 12월 29일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 366,000 원 | 2015년 12월 28일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 625,000 원 | 2016년 12월 28일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 625,000 원 | 2017년 12월 26일 | 납입 |
제 12 년분 | 금 액 | 312,500 원 | 2018년 12월 26일 | 납입 |
제 13 년분 | 금 액 | 372,500 원 | 2019년 12월 23일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2006.06.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0387392-02 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.04.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2007.05.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0026820-18 |
4 | 의견제출통지서 | 2007.07.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0399972-80 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2007.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0670651-28 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2007.09.17 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0670694-81 |
7 | 등록결정서 | 2008.01.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0003757-84 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1440001126 |
---|---|
세부과제번호 | 2004-S-069 |
연구과제명 | UWB기술및무선1394SoC개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신연구진흥원 |
연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
성과제출연도 | 2005 |
연구기간 | 200302~200601 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1440000979 |
---|---|
세부과제번호 | 2004-S-088 |
연구과제명 | 광엑세스용광집적모듈 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신연구진흥원 |
연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
성과제출연도 | 2005 |
연구기간 | 200302~200701 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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