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기판;상기 기판상에 형성되어 있는 하부 클래딩층;상기 하부 클래딩층 상의 소정 부분에 형성되는 적어도 하나의 코어층 패턴; 및상기 코어층 패턴이 형성된 하부 클래딩층 상부에 형성되는 상부 클래딩층을 포함하는 폴리머 광소자로서,상기 상부 클래딩층은 적어도 2층의 서브 상부 클래딩층으로 구성되고, 상기 폴리머 광소자의 복굴절(TE-TM 쉬프트)은 상기 서브 상부 클래딩층의 두께 및 적층 회수에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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제 1 항에 있어서, 상기 코어층 패턴은 하부 클래딩층 상부에 형성되는 폴리머 성분으로 된 코어층, 및 상기 코어층 상부에 상기 상부 또는 하부 클래딩층 물질과 동일한 버퍼층을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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제 1 항에 있어서, 상기 코어층 패턴의 높이는 2 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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제 1 항에 있어서, 상기 기판, 하부 클래딩층, 코어층 및 상부 클래딩층은 각각 폴리머 물질로 구성되고, 상기 폴리머 물질은 플루오리네이트 폴리에테르 계열, 아크릴레이트 계열, 폴리이미드 계열 및 퍼플루오네이트 사이클로부탄 계열의 물질 중 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판, 실리카 기판 또는 유리 기판 중 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 코어층 패턴과 접하는 하부 클래딩층의 표면은 상기 상부 클래딩층과 접하는 하부 클래딩층의 표면보다 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자
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기판 상부에 하부 클래딩층을 형성하는 단계;상기 하부 클래딩층 상부에 코어층 패턴을 형성하는 단계; 및상기 코어층 패턴이 형성된 하부 클래딩층 상부에 적어도 2층 이상의 서브 상부 클래딩층으로 구성되는 상부 클래딩층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 상부 클래딩층을 형성하는 단계에서 원하는 복굴절(TE-TM 쉬프트)에 맞게 두께 및 적층 회수를 조절하는 폴리머 광소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 코어층 패턴을 형성하는 단계는, 상기 하부 클래딩층 상부에 코어층을 형성하는 단계; 상기 코어층 상부에 마스크 패턴을 형성하는 단계; 상기 마스크 패턴의 형태로 코어층을 식각하는 단계; 및 상기 마스크 패턴을 제거하는 단계를 포함하며, 상기 코어층 식각시 상기 하부 클래딩층이 일부 과도식각되는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 하부 클래딩층은 0
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제 9 항에 있어서, 상기 코어층을 형성하는 단계와, 상기 코어층 상부에 마스크 패턴을 형성하는 단계 사이에, 상기 코어층 상부에 버퍼층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 하부 클래딩층을 형성하는 단계, 상기 코어층을 형성하는 단계, 및 상기 서브 상부 클래딩층을 형성하는 단계 각각은, 상기 폴리머층을 코팅하는 단계; 및 상기 폴리머층을 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자의 제조방법
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제 12 항에 있어서, 상기 폴리머층을 경화시키는 단계는, 상기 폴리머층을 열적 또는 UV에 의해 경화시키는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자의 제조방법
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13
제 12 항에 있어서, 상기 폴리머층을 경화시키는 단계는, 상기 폴리머층을 열적 또는 UV에 의해 경화시키는 것을 특징으로 하는 폴리머 광소자의 제조방법
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