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미세입자 검출장치
- 기술번호 : KST2015115001
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 미세입자 검출장치가 개시된다. 본 발명에 따른 미세입자 검출장치는 발광하는 광소자, 광소자로부터 발광된 광이 진행하는 방향에 위치하여 광을 수렴시키는 수렴광학계, 수렴광학계를 통과한 광의 진행방향에 위치하고 광과 교차하도록 형성된 입자유로, 입자 유로를 통과한 직광을 차단하는 빔 차단부, 빔 차단부의 후방에 위치하는 집광렌즈, 집광렌즈의 후방에 위치하여 입자에 의해 산란되는 광을 검출하는 검출기를 포함하는 미세입자 검출장치로서, 광소자와 수렴광학계에 의해 형성되는 광의 초점은 입자 유로의 후방에 위치한다.따라서, 본 발명은 샘플 입자에 조사되는 광의 초점과 샘플 입자 유입위치를 다르게 설계하여 잡광이 최대한 배제된 미세입자에 의한 산란광을 검출할 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | G01N 35/08 (2006.01) G01N 21/47 (2006.01) G01N 15/14 (2006.01) |
| CPC | G01N 15/06(2013.01) G01N 15/06(2013.01) G01N 15/06(2013.01) G01N 15/06(2013.01) G01N 15/06(2013.01) G01N 15/06(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100136431 (2010.12.28) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0074558 (2012.07.06) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 공개 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2015.12.28) |
| 심사청구항수 | 35 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 권준형 | 대한민국 | 인천광역시 연수구 |
| 2 | 윤두섭 | 대한민국 | 경기도 성남시 분당구 |
| 3 | 노희열 | 대한민국 | 경기도 수원시 영통구 |
| 4 | 김수현 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 5 | 류성윤 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 6 | 권원식 | 대한민국 | 전라북도 전주시 완산구 |
| 7 | 이협 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 특허법인 플러스 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층 |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 최종권리자 정보가 없습니다 | |||
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0866492-44 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5132663-40 |
| 3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2015.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0500194-43 |
| 8 | [출원인변경]권리관계변경신고서 [Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status |
2015.05.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0508638-00 |
| 9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2015.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1274481-85 |
| 10 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2016.09.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 11 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2016.11.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2016-0046437-14 |
| 12 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2016.12.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0913837-59 |
| 13 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2017.02.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0170252-76 |
| 14 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2017.03.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0254680-41 |
| 15 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2017.03.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0254673-21 |
| 16 | 수수료 반환 안내서 Notification of Return of Official Fee |
2017.03.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2017-0038880-58 |
| 17 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2017.07.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0515635-43 |
| 18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 20 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 발광하는 광소자, 상기 광소자로부터 발광된 광이 진행하는 방향에 위치하여 상기 광을 수렴시키는 수렴광학계, 상기 수렴광학계를 통과한 광의 진행방향에 위치하고 상기 광과 교차하도록 형성된 입자유로, 상기 입자 유로를 통과한 직광을 차단하는 빔 차단부, 상기 빔 차단부의 후방에 위치하는 집광렌즈, 상기 집광렌즈의 후방에 위치하여 상기 입자에 의해 산란되는 광을 검출하는 검출기를 포함하는 미세입자 검출장치에 있어서,상기 광소자와 수렴광학계에 의해 형성되는 광의 초점은 상기 입자 유로의 후방에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 광의 초점은 상기 입자 유로와 상기 빔 차단부의 사이에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 3 |
3 제1항에 있어서,상기 집광 렌즈의 후방에 상기 빔 차단부의 그림자 영역이 형성되고,상기 검출기는 상기 그림자 영역 내에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 4 |
4 제3항에 있어서,상기 그림자 영역의 크기가 설정범위 이상이 되도록 상기 빔 차단부의 직경이 조절되는 미세입자 검출장치 |
| 5 |
5 제4항에 있어서,상기 입자유로의 위치에서 발생하는 산란광이 상기 집광 렌즈에 의해 상기 그림자 영역 내에서 수렴하도록 상기 입자유로가 상기 집광렌즈의 후방 초점면(back focal plane)보다 전방에 배치되는 미세입자 검출장치 |
| 6 |
6 제2항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 광의 진행방향에 수직으로 위치하여 상기 직광의 일부를 차단하는 제 1 차단벽; 및상기 제 1 차단벽으로부터 돌출된 제 2 차단벽을 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 7 |
7 제6항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 제 1 차단벽의 테두리로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 8 |
8 제6항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 광의 진행방향에 평행하게 상기 제 1 차단벽으로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 9 |
9 제6항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 집광 렌즈에 일부가 삽입된 미세입자 검출장치 |
| 10 |
10 제1항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 광의 진행방향을 중심으로 소정의 각도로 기울어진 거울로 구비되어 상기 직광을 반사시키는 미세입자 검출장치 |
| 11 |
11 광학챔버; 상기 광학챔버 내로 입자를 유입시키는 유입부; 상기 유입된 입자에 광을 조사하는 광원부; 상기 광이 조사된 입자에 의해 산란된 산란광을 검출하는 검출광학계; 및 상기 검출광학계의 전방에 위치하여 직광을 차단하는 빔 차단부를 포함하는 미세입자 검출장치에 있어서,상기 광학챔버 내로 상기 입자가 유입되어 형성된 입자 유로와 상기 빔 차단부 사이에 상기 입자에 조사된 광의 초점이 존재하도록 조절된 미세입자 검출장치 |
| 12 |
12 제11항에 있어서,상기 입자유로는 상기 광원부에 의한 광이 진행하는 방향에 위치하고 상기 광과 교차하도록 형성된 미세입자 검출장치 |
| 13 |
13 제11항에 있어서,상기 검출광학계는상기 빔 차단부를 통과한 광을 굴절시켜 상기 광을 수렴시키는 집광 렌즈; 및상기 집광 렌즈에 의해 수렴된 산란광의 초점 상에 위치하여 상기 산란광을 검출하는 검출기를 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 14 |
14 제13항에 있어서,상기 집광 렌즈의 후방에 상기 빔 차단부의 그림자 영역이 형성되고,상기 검출기는 상기 그림자 영역 내에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 15 |
15 제14항에 있어서,상기 그림자 영역의 크기가 설정범위 이상이 되도록 상기 빔 차단부의 직경이 조절되는 미세입자 검출장치 |
| 16 |
16 제14항에 있어서,상기 그림자 영역의 크기가 설정범위 이상이 되도록 상기 빔 차단부의 직경이 조절되는 미세입자 검출장치 |
| 17 |
17 제11항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 광의 진행방향에 수직으로 위치하여 상기 직광의 일부를 차단하는 제 1 차단벽; 및상기 제 1 차단벽으로부터 돌출된 제 2 차단벽을 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 18 |
18 제17항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 제 1 차단벽의 테두리로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 19 |
19 제17항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 광의 진행방향에 평행하게 상기 제 1 차단벽으로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 20 |
20 제17항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 집광 렌즈에 일부가 삽입된 미세입자 검출장치 |
| 21 |
21 제11항에 있어서,상기 빔 차단부는광축을 중심으로 소정의 각도로 기울어진 거울로 구비되어 상기 빔 차단부로 입사되는 직광을 반사시키는 미세입자 검출장치 |
| 22 |
22 제13항에 있어서,상기 집광 렌즈는 한쪽면 또는 양쪽면이 비구면인 렌즈로 구성되는 미세입자 검출장치 |
| 23 |
23 제13항에 있어서,상기 집광 렌즈는광을 수렴시키는 수렴계 렌즈로 구성되는 미세입자 검출장치 |
| 24 |
24 제11항에 있어서,상기 광원부는발광하는 광소자; 및상기 광소자에서 발광된 광을 수렴시키는 수렴광학계를 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 25 |
25 제24항에 있어서,상기 광소자는 LD(Laser Diode) 또는 LED인 미세입자 검출장치 |
| 26 |
26 광학챔버; 상기 광학챔버 내로 입자를 유입시키는 유입부; 상기 유입된 입자에 광을 조사하는 광원부; 상기 광이 조사된 입자에 의해 산란된 산란광을 검출하는 검출 광학계; 및 상기 검출광학계의 전단에 위치하여 상기 샘플 입자에 의해 산란되지 않은 직광를 차단하는 빔 차단부를 포함하는 미세입자 검출장치에 있어서,상기 빔 차단부는 상기 광원부에 의한 광의 진행방향에 수직으로 위치하여 상기 직광을 차단하는 제 1 차단벽; 및 상기 제 1 차단벽로부터 돌출된 제 2 차단벽을 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 27 |
27 제26항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 제 1 차단벽의 테두리로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 28 |
28 제26항에 있어서,상기 제 2 차단벽은 상기 광의 진행방향에 평행하게 상기 제 1 차단벽으로부터 돌출되어 형성되는 미세입자 검출장치 |
| 29 |
29 제26항에 있어서,상기 검출광학계는상기 빔 차단부를 통과한 광을 굴절시켜 상기 광을 수렴시키는 집광 렌즈; 및상기 집광 렌즈에 의해 수렴된 산란광의 초점 상에 위치하여 상기 산란광을 검출하는 검출기를 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 30 |
30 제29항에 있어서,상기 빔 차단부는상기 집광렌즈에 일부가 삽입된 미세입자 검출장치 |
| 31 |
31 제29항에 있어서,상기 집광렌즈의 후방에 상기 빔 차단부의 그림자 영역이 형성되고, 상기 검출기는 상기 그림자 영역 내에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 32 |
32 제31항에 있어서,상기 그림자 영역의 크기가 설정범위 이상이 되도록 상기 빔 차단부의 직경이 조절되는 미세입자 검출장치 |
| 33 |
33 제32항에 있어서,상기 광학챔버 내로 상기 입자가 유입되어 형성된 입자 유로의 위치에서 발생하는 산란광이 상기 집광 렌즈에 의해 상기 그림자 영역 내에서 수렴하도록 상기 입자 유로의 위치가 상기 집광렌즈의 후방 초점면(back focal plane)보다 전방에 배치되는 미세입자 검출장치 |
| 34 |
34 광학챔버; 상기 광학챔버 내로 입자를 유입시키는 유입부; 상기 유입된 입자에 광을 조사하는 광원부; 상기 광이 조사된 입자에 의해 산란된 산란광을 검출하는 검출 광학계; 및 상기 검출광학계의 전단에 위치하여 상기 입자에 의해 산란되지 않은 직광을 차단하는 빔 차단부를 포함하는 미세입자 검출장치에 있어서,상기 빔 차단부는 상기 광원부에 의한 광의 진행방향을 중심으로 소정의 각도로 기울어진 거울로 구비되어 상기 빔 차단부로 입사되는 상기 직광을 반사시키는 미세입자 검출장치 |
| 35 |
35 제34항에 있어서,상기 검출광학계는상기 빔 차단부를 통과한 광을 굴절시켜 상기 광을 수렴시키는 집광 렌즈; 및상기 집광 렌즈에 의해 수렴된 산란광의 초점 상에 위치하여 상기 산란광을 검출하는 검출기를 포함하는 미세입자 검출장치 |
| 36 |
36 제35항에 있어서,상기 집광 렌즈의 후방에 상기 빔 차단부의 그림자 영역이 형성되고, 상기 검출기는 상기 그림자 영역 내에 위치하는 미세입자 검출장치 |
| 37 |
37 제36항에 있어서,상기 그림자 영역의 크기가 설정범위 이상이 되도록 상기 빔 차단부의 직경이 조절되는 미세입자 검출장치 |
| 38 |
38 제37항에 있어서,상기 광학챔버 내로 상기 입자가 유입되어 형성된 입자 유로의 위치에서 발생하는 산란광이 상기 집광 렌즈에 의해 상기 그림자 영역 내에서 수렴하도록 상기 입자 유로의 위치가 상기 집광 렌즈의 후방 초점면(back focal plane)보다 전방에 배치되는 미세입자 검출장치 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
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|---|---|---|---|---|
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0866492-44 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5132663-40 |
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| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2015.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0500194-43 |
| 8 | [출원인변경]권리관계변경신고서 | 2015.05.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0508638-00 |
| 9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2015.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1274481-85 |
| 10 | 선행기술조사의뢰서 | 2016.09.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 11 | 선행기술조사보고서 | 2016.11.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2016-0046437-14 |
| 12 | 의견제출통지서 | 2016.12.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0913837-59 |
| 13 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2017.02.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0170252-76 |
| 14 | [명세서등 보정]보정서 | 2017.03.15 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2017-0254680-41 |
| 15 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2017.03.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2017-0254673-21 |
| 16 | 수수료 반환 안내서 | 2017.03.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2017-0038880-58 |
| 17 | 거절결정서 | 2017.07.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2017-0515635-43 |
| 18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 20 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
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