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a) 방향족 디아민계 모노머와 방향족 무수물계 모노머를 반응시켜 카르복실기를 포함하는 고분자 전구체를 합성하는 단계; b) 상기 고분자 전구체와 금속염 화합물을 반응시켜 양이온 교환을 수행하는 단계; 및c) 상기 양이온 교환을 통해 얻어진, 금속 이온이 포함된 고분자 전구체를 150 ℃ 이상에서 열처리하여 고분자 전구체의 이미드화 반응과 동시에 상기 금속 이온을 환원시키는 단계;를 포함하고, 상기 a) 단계의 방향족 디아민계 모노머로는 설폰화된 방향족 디아민계 모노머와 비설폰화된 방향족 디아민계 모노머를 함께 사용하며, 상기 설폰화된 방향족 디아민계 모노머는 2,2-벤즈인딘디설포닉 에시드(2,2-benzidinedisulfonic acid, BDSA), 4,4'-디아미노 바이페닐-2,2'-디설포닉 에시드(BDSA), 2,4-디아미노벤젠설포닉 에시드(2,5-DASA), 3,5-디아미노벤젠설포닉 에시드(3,5-DASA), 4,4'-설포닉 디아민(4,4'-DDS), 3,3'-설포닉 디아민(3,3'-DDS), 9,9-비스(4-아미노페닐)플로오린-2,7-디설포닉 에시드(BAPFDS), 및 2,4-디아미노벤젠 설포닉 에시드(2,4-DABSA)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이고, 상기 비설폰화된 방향족 디아민계 모노머는 3,5-디아미노벤조익 에시드(3,5-DABA), 4,4'-옥시디페닐렌 디아민(4,4'-oxydianiline, 4,4'-ODA), 3,4'-옥시디페닐렌 디아민(3,4-ODA), 1,4-페닐렌 디아민(PDA), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-Q), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-R), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)-바이페닐, 탄소수 4 내지 10의 디아미노 알칸(H2N∼(CH)ℓ∼NH2, 여기서, ℓ= 4 내지 10)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이고, 상기 a) 단계의 방향족 무수물계 모노머는 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물(2
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제1항에 있어서,상기 a) 단계의 방향족 디아민계 모노머는 리튬, 나트륨, 칼륨, 및 구리로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속 이온을 추가로 포함하는 것인 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 방향족 디아민계 모노머는 리튬 함유 벤즈인딘설포닉 에시드(BDSA-Li, lithium-containing Benzidinedisulfonic acid)인 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 a) 단계의 고분자 전구체는 설폰화된 폴리아믹 에시드(SPAA, sulfonated polyamic acid)인 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 a) 단계에서 방향족 디아민계 모노머와 방향족 무수물계 모노머는 60 내지 90 ℃의 조건 하에서 반응시키는 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 a) 단계에서 방향족 디아민계 모노머와 방향족 무수물계 모노머는 N-메틸-2-피롤리돈(Nmethyl-2-pyrrolidone, NMP), 디메틸아세트아미드(dimethyl acetamide, DMAc), 디메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide, DMSO), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran, THF), m-크레졸(m-cresol)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 유기 용매 존재 하에서 반응시키는 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 b) 단계에서 상기 고분자 전구체는 금속염 화합물을 포함하는 용액에 함침시키는 반응을 통해 양이온 교환을 수행하는 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 c) 단계에서 상기 고분자 전구체의 금속 이온을 환원시켜 금속 이온의 자가 금속화 공정으로, 상기 고분자 전구체의 이미드화 반응을 통해 생성된 고분자 필름의 표면에 금속 전극층을 생성시키는 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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제1항, 제4항 내지 제6항, 또는 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 전기 활성 고분자 작동기
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제12항에 있어서,고분자 필름, 및 상기 고분자 필름의 표면에 형성된 금속 전극층을 포함하고,상기 고분자 필름은 설폰화된 폴리이미드(SPI, sulfonated polyimides), 설폰화된 폴리우레탄이미드(sulfonated polyurethaneimide), 설폰화된 폴리에테르에테르케톤(SPEEK, sulfonated poly(ether ether ketone)), 설폰화된 폴리에테르에테르케톤케톤(SPEEKKs, sulfonated poly(ether ether ketone ketone)s), 설폰화된 폴리에테르설폰(SPES, sulfonated poly(ether sulfone)), 및 설폰화된 폴리벤즈이미다졸(SPBI, sulfonated polybenzimidazole)으로 이루어진 군에서 선택된 고분자 성분 1종 이상을 포함하는 것이며, 상기 금속 전극층은 은(Ag), 백금(Pt), 금(Au), 및 팔라듐(Pd)으로 이루어진 군에서 선택된 금속 성분 1종 이상을 포함하는 것이고, 상기 고분자 필름의 함수도는 10% 내지 30%인 전기 활성 고분자 작동기
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제13항에 있어서,상기 고분자 필름의 함수도는 17% 내지 20%인 전기 활성 고분자 작동기
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제13항에 있어서,상기 고분자 필름의 양이온 교환량은 0
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제13항에 있어서,상기 고분자 필름의 양이온 전도도는 0
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제13항에 있어서,상기 고분자 필름의 표면 저항은 200 mΩ/sq 이하인 전기 활성 고분자 작동기
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제12항에 있어서,0
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제12항에 있어서,0
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제1항에 있어서,상기 a) 단계의 설폰화된 방향족 디아민계 모노머 : 비설폰화된 방향족 디아민계 모노머 : 방향족 무수물계 모노머의 몰비는 1:1:2로 반응시키는 전기 활성 고분자 작동기의 제조 방법
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