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유전손실층과 상기 유전손실층의 배면에 형성된 고전도층을 구비한 전자파 흡수체에 있어서,
상기 유전손실층의 전면 또는 중간에 형성되며, 패턴에 따른 공진점과 λ/4 정합에 따른 공진점이 동시에 발생되는 패턴층을 구비한 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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제1항에 있어서, 상기 패턴층은 주기격자패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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제2항에 있어서, 상기 패턴에 따른 공진점에 따라 상기 주기격자패턴의 단위격자의 형상 및 크기와 단위격자간 사이 간격이 조절된 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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제1항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점과 상기 패턴층의 패턴의 표면 면적에 따라 상기 패턴층의 두께가 조절된 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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5
제1항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점과 상기 패턴층의 패턴의 표면 면적에 따라 상기 패턴층의 전기전도도가 조절된 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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제5항에 있어서, 상기 패턴층이 전도성 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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제1항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점은 상기 유전손실층의 두께 및 유전율에 따라 가변되는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체
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8
유전손실층의 전면 또는 중간에, 패턴에 따른 공진점과 λ/4 정합에 따른 공진점이 동시에 발생되는 패턴층을 형성하고,
상기 유전손실층의 배면에 고전도층을 형성하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 패턴층을 주기격자패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 패턴에 따른 공진점에 따라 상기 주기격자패턴의 단위격자의 형상 및 크기와 단위격자간 사이 간격을 설정하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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11
제8항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점과 상기 패턴층의 패턴의 표면 면적에 따라 상기 패턴층의 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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12
제8항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점과 상기 패턴층의 패턴의 표면 면적에 따라 상기 패턴층의 전기전도도를 조절하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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13
제12항에 있어서, 상기 패턴층을 전도성 고분자로 형성하는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 λ/4 정합에 따른 공진점은 상기 유전손실층의 두께 및 유전율에 따라 가변되는 것을 특징으로 하는 광대역 전자파 흡수체의 제조방법
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