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랩탑(ｌａｐ－ｔｏｐ) 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치

  • 기술번호 : KST2015117716
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치에 관한 것으로, 펨토초 레이저 발생기, 상기 펨토초 레이저 발생기에서 출력되는 빛을 전달하는 광전달수단, 상기 광전달수단을 통해 전달받은 빛이 통과할 때 근접장 증폭이 일어날 수 있는 나노 개구를 가지는 금속 박막의 미세패턴, 상기 광전달수단을 통해 빛이 상기 미세패턴을 통과할 때 비활성 기체를 공급시켜주는 기체 공급부 및 상기 미세패턴과 기체 공급부를 진공 분위기 내에서 수용하기 위한 진공챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 외부 광증폭기 없이 미세패턴을 통해 근접장 증폭으로 입사되는 펨토초 레이저의 반복률을 유지시키면서 고차 조화파 생성을 달성할 수 있음으로 랩탑(lap-top) 크기로 소형화할 수 있는 큰 이점이 있다. 랩탑, 근접장, 고차 조화파, 펨토초, 미세패턴, 플라즈몬
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01S 3/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020080103060 (2008.10.21)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0993894-0000 (2010.11.05)
공개번호/일자 10-2010-0043841 (2010.04.29) 문서열기
공고번호/일자 (20101111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.21)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김승우 대한민국 대전광역시 유성구
2 진종환 대한민국 대전광역시 유성구
3 김승철 대한민국 대전광역시 유성구
4 박인용 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0729775-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2009-0052780-14
4 보정요구서
Request for Amendment		 2010.05.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0187786-15
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2010-0356246-56
6 등록결정서
Decision to grant		 2010.10.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0461118-08
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
펨토초 레이저 발생기; 상기 펨토초 레이저 발생기에서 출력되는 빛을 전달하는 광전달수단; 상기 광전달수단을 통해 전달받은 빛이 통과할 때 근접장 증폭이 일어날 수 있는 나노 개구를 가지는 금속 박막의 미세패턴; 상기 광전달수단을 통해 빛이 상기 미세패턴을 통과할 때 비활성 기체를 공급시켜주는 기체 공급부; 및 상기 미세패턴과 기체 공급부를 진공 분위기 내에서 수용하기 위한 진공챔버;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 미세패턴은, 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al) 재질 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 미세패턴은, 삼각 또는 사각 형상의 금속박막이 소정간격을 두고 마주하여 나노개구를 형성하거나, 원형 형상의 나노 개구가 소정간격 중첩되어 나노 개구를 형상하는 것 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
4 4
제 3항에 있어서, 상기 미세패턴은, 삼각 또는 사각 형상의 금속박막이 소정간격을 두고 마주하여 나노개구를 형성할 때 160 내지 200nm의 길이와 20 내지 30nm의 간격을 가지는 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
5 5
제 1항 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세패턴은, 근접장 증폭 비율이 최소 20dB 이상이며, 상기 미세패턴 주변에 생성된 광 강도가 최소 1013 W/Cm2 이상인 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
6 6
제 1항에 있어서, 상기 기체 공급부는, 상기 미세패턴 주위에 Ar, Ne, Xe를 포함하는 비활성 기체 중 어느 하나 혹은 그들의 혼합을 기체 또는 유체로 마이크로 노즐을 통해 공급하는 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
7 7
제 1항에 있어서, 상기 광전달수단은, 상기 펨토초 레이저 발생기로부터 출력되는 광을 집광하여 상기 미세패턴에 집광시키도록 하는 포커싱 렌즈; 및 상기 펨토초 레이저 발생기에서 출력되는 광의 분산을 보상하기 위한 웨지 프리즘(wedge prism)과 처프 미러(chirped mirror)를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 랩탑 크기의 근접장 증폭을 이용한 고차 조화파 생성장치
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3 US08009350 US 미국 FAMILY
4 US20100098118 US 미국 FAMILY

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4 US8009350 US 미국 DOCDBFAMILY
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