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고체상 자기조립을 이용한 펩타이드 나노구조체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113270
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고체상 자기조립을 이용한 펩타이드 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판상에 비정질 펩타이드 박막을 대면적 또는 선택적으로 형성시킨 다음, 상기 형성된 비정질 펩타이드 박막을 열적, 화학적 및/또는 물리학적으로 처리함으로써 균일하게 정렬된 단분산 형태의 펩타이드 나노구조체를 대면적 또는 선택적으로 고체상에서 자기조립시키는 펩타이드 나노구조체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 펩타이드 나노구조체의 제조방법은 고체상에서 생체분자의 자기조립 공정을 이용하므로 다양한 화학적 특성을 지니는 동시에 생체 및 친환경적이고, 나노구조의 제어가 용이할 뿐만 아니라, 펩타이드 나노구조체를 액상에서 제조시에 사용되는 추가적인 화학물질과 공정의 도입이 필요없어 생산공정상의 단가상승과 자기조립거동 변화 등의 문제점을 해결할 수 있는 바, 다양한 나노소재의 합성 등에 매우 유용하게 사용될 수 있는 효과가 있다. 펩타이드, 다이페닐알라닌, 자기조립, 고체상, 나노구조체, 나노소재
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020080119327 (2008.11.28)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1093200-0000 (2011.12.06)
공개번호/일자 10-2010-0060645 (2010.06.07) 문서열기
공고번호/일자 (20111212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.28)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬범 대한민국 대전광역시 유성구
2 유정기 대한민국 강원 철원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0821209-04
2 보정요구서
Request for Amendment		 2010.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0604895-10
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2011.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0004252-54
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0490569-89
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.10.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0808138-93
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.10.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0808137-47
7 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0701052-81
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 단계를 포함하는 펩타이드 나노구조체의 제조방법: (a) 휘발성 유기용매에 자기조립을 유발하는 소수성 디펩타이드를 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 펩타이드 박막을 형성시키는 단계; 및 (b) 상기 비정질 펩타이드 박막을 열처리 방식, 화학적처리 방식, 물리학적처리 방식 및 이들의 혼합처리 방식으로 구성된 군에서 선택되는 방식으로 처리하여 상기 소수성 디펩타이드의 자기조립을 통해 펩타이드 나노구조체로 성장되도록 하는 단계
2 2
제1항에 있어서, 상기 휘발성 유기용매는 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, HFIP), 트리플루오로아세트산(trifluoroacetic acid) 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 기판은 결정질 또는 비정질의 금속, 세라믹 및 유기분자로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 펩타이드는 휘발성 유기용매 100중량부에 대하여, 0
6 6
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 선택적 영역에 비정질 펩타이드 박막을 형성하기 위해 소프트 리소그라피(soft lithography) 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 소프트 리소그라피(soft lithography) 단계는 마이크로 컨택프린팅(microcontact printing)방식 또는 용매 보조 마이크로몰딩(solvent assisted micro molding, SAMIM)방식을 이용하는 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 열처리 방식은 비정질 펩타이드 박막을 펩타이드의 열분해온도 이하의 온도로 처리하는 것을 특징으로 하는 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 열처리 방식은 50℃~200℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 화학적 처리방법은 화합물 증기를 비정질 펩타이드 박막에 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 화합물은 물, 아닐린, 벤젠, 톨루엔, 자일렌(xylene), 톨루이딘(toluidine), 크레졸(cresol), 이황화탄소, 에탄올, 프로판올, 디메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethyl formamide), 이들의 화학적 유도체 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
12 12
제1항에 있어서, 상기 물리적처리 방식은 전기장, 자기장 및 전자기장으로 구성된 군에서 선택되는 것을 이용하여 비정질 펩타이드 박막에 가하는 것을 특징으로 하는 방법
13 13
다음 단계를 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체의 제조방법: (a) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올에 다이페닐알라닌을 용해시킨 다음, 기판에 도포하여 비정질 다이페닐알라닌 박막을 형성시키는 단계; 및 (b) 상기 비정질 다이페닐알라닌 박막을 100℃에서 아닐린 증기로 처리하여 상기 다이페닐알라닌의 자기조립을 통해 대면적 영역에서 다이페닐알라닌 나노구조체로 성장되도록 하는 단계
14 14
제13항에 있어서, 상기 기판은 결정질 또는 비정질의 금속, 세라믹 및 유기분자로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
15 15
제13항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 다이페닐알라닌는 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 100중량부에 대하여, 0
16 16
다음 단계를 포함하는 다이페닐알라닌 나노구조체의 제조방법: (a) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올에 다이페닐알라닌을 용해시킨 다음, 마이크로 컨택프린팅(microcontact printing) 방식 또는 용매 보조 마이크로몰딩(solvent assisted micro molding) 방식을 이용하여 선택적으로 기판에 도포하여 비정질 다이페닐알라닌 박막을 형성시키는 단계; 및 (b) 상기 비정질 다이페닐알라닌 박막을 100℃에서 아닐린 증기로 처리하여 상기 다이페닐알라닌의 자기조립을 통해 선택적 영역에서 다이페닐알라닌 나노구조체로 성장되도록 하는 단계
17 17
제16항에 있어서, 상기 기판은 결정질 또는 비정질의 금속, 세라믹 및 유기분자로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
18 18
제16항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 다이페닐알라닌는 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 100중량부에 대하여, 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.