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나노 재료의 제조 방법(Method of fabricating nano material)

  • 기술번호 : KST2017009390
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 재료를 연성 물질로 매립하거나 유연 기판에 전사하는 방법을 제공하기 위한 나로 재료의 제조 방법으로서, 웨이퍼 상에 희생층을 형성하는 제 1 단계; 상기 희생층 상에 나노 재료와 상기 나노 재료의 상부 및/또는 측면에 접하는 지지패턴을 형성하는 제 2 단계; 상기 나노 재료의 하부에 언더컷을 형성하도록 상기 희생층의 적어도 일부를 제거하는 제 3 단계; 상기 나노 재료의 하부를 충전하고 상기 지지패턴의 상부면이 노출되도록 1차 연성 물질 패턴을 형성하는 제 4 단계; 상기 지지패턴 및 상기 희생층의 나머지를 제거하는 제 5 단계; 및 제거된 상기 지지패턴 및 상기 희생층의 나머지가 점유하던 공간을 충전하도록 2차 연성 물질 패턴을 형성하는 제 6 단계;를 포함한다.
Int. CL B82B 3/00 (2016.01.08) H01L 21/02 (2016.01.08) B82Y 40/00 (2016.01.08)
CPC H01L 21/02601(2013.01) H01L 21/02601(2013.01)
출원번호/일자 1020150169052 (2015.11.30)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0063086 (2017.06.08) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.11.30)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김정우 대한민국 대전광역시 유성구
2 강일석 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-1169521-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.02.10 수리 (Accepted) 9-1-2017-0004191-38
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.06.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0419221-25
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.08.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0785956-57
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-0785957-03
7 등록결정서
Decision to grant		 2017.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0751463-66
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
웨이퍼 상에 희생층을 형성하는 제 1 단계;상기 희생층 상에 나노 재료와 상기 나노 재료의 상부 및/또는 측면에 접하는 지지패턴을 형성하는 제 2 단계;상기 나노 재료의 하부에 언더컷을 형성하도록 상기 희생층의 적어도 일부를 제거하는 제 3 단계;상기 나노 재료의 하부를 충전하고 상기 지지패턴의 상부면이 노출되도록 1차 연성 물질 패턴을 형성하는 제 4 단계;상기 지지패턴 및 상기 희생층의 나머지를 제거하는 제 5 단계; 및제거된 상기 지지패턴 및 상기 희생층의 나머지가 점유하던 공간을 충전하도록 2차 연성 물질 패턴을 형성하는 제 6 단계;를 포함하고, 상기 제 3 단계;는 상기 희생층의 적어도 일부를 등방성 식각하는 단계;를 포함하며,상기 제 1 단계 내지 제 6 단계를 수행함으로써, 상기 나노 재료는 상기 1차 연성 물질 패턴과 상기 2차 연성 물질 패턴으로 매립되는,나노 재료의 제조 방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 단계;는, 상기 희생층 상에 나노 재료를 먼저 형성하는 단계; 및 상기 나노 재료의 상부 및/또는 측면에 지지패턴을 후속으로 형성하는 단계;를 포함하는, 나노 재료의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 단계;는, 상기 희생층 상에 후속공정으로 형성될 나노 재료를 지지할 지지패턴을 먼저 형성하는 단계; 및 상기 나노 재료의 상부 및/또는 측면에 상기 지지패턴이 접하도록 상기 나노 재료를 후속으로 형성하는 단계;를 포함하는, 나노 재료의 제조 방법
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 제 4 단계;는 상기 나노 재료의 하부를 충전하고 상기 나노 재료 및 상기 지지패턴을 매립하도록 1차 연성 물질 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 지지패턴의 상부면이 노출되도록 상기 1차 연성 물질 패턴의 일부를 제거하는 단계;를 포함하는, 나노 재료의 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 1차 연성 물질 및 상기 2차 연성 물질로 매립된 상기 나노 재료를 상기 웨이퍼로부터 분리하는 단계;를 더 포함하는, 나노 재료의 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서,상기 1차 연성 물질과 상기 2차 연성 물질의 식각 선택비를 이용하여 상기 1차 연성 물질을 제거하는 단계;를 더 포함하는, 나노 재료의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 나노종합기술원 선행공정.플랫폼기술연구개발사업 나노 실리콘 기반 센서 공정플랫폼 기술개발