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a) 기판; b) 상기 기판 위에 형성되어 배열된 수직 나노 구조체 전극; c) 상기 배열된 수직 나노 구조체 전극 상에 코팅된 치밀막(dense layer); d) 상기 치밀막이 코팅된 수직 나노 구조체 전극 배열의 사이 및 그 상부에 형성된 p형 반도체 박막; 및 e) 상기 p형 반도체 박막 상에 형성된 금속 전극을 포함하는 벌크 헤테로 접합(bulk heterojunction) 무기 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 수직 나노 구체체 전극은 투명 또는 반투명 금속 산화물 전극인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 수직 나노 구조체는 ZnO, TiO2 또는 ITO 물질의 나노 로드 또는 나노 튜브 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 치밀막은 n형의 산화물 반도체인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 치밀막을 구성하는 n형의 산화물 반도체는 TiO2 또는 ZnO 인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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6
제1항에 있어서,상기 치밀막의 상부에 n형 반도체 버퍼층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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제6항에 있어서, 상기 n형 반도체 버퍼층은 CdS, ZnS, In2S3 중에서 선택된 반도체로 이루어진 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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8
제1항에 있어서, 상기 p형 반도체 물질은 I-III-VI 족 원소 중에서 선택되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 금속 전극은 Al, Au, Ag 또는 탄소로 이루어진 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지
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10
1) 기판 상에 수직 나노 구조체의 전극 배열을 형성하는 단계;2) 상기 수직 나노 구조체 배열 상에 치밀막을 코팅하는 단계; 3) 상기 치밀막이 코팅된 수직 나노 구조체의 전극 배열의 사이에 p형 반도체 물질의 잉크 또는 페이스트를 증착하여 수직 성장 나노 구조체 사이의 빈 공간을 채우고 상부에 박막을 형성함으로써 벌크 헤테로 접합을 형성하는 단계;4) 상기 벌크 헤테로 접합 박막 상에 금속 전극을 증착하는 단계를 포함하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 수직 나노 구체체 전극은 투명 또는 반투명 금속 산화물 전극인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 수직 나노 구조체는 ZnO, TiO2 또는 ITO 물질의 나노 로드 또는 나노 튜브 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 단계 (1)에서 수직 나노 구조체는 전기화학증착, 수열 합성, CVD, 애노다이징(anodizing) 또는 스퍼터링 방법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 수직 나노 구조체의 높이는 0
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제10항에 있어서, 상기 치밀막은 n형의 산화물 반도체인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제15항에 있어서, 상기 치밀막을 구성하는 n형의 산화물 반도체는 TiO2 또는 ZnO 인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 단계 (2)에서 치밀막은 ALD, CVD, 딥코팅(dip-coating), 졸-겔(sol-gel) 방법에 의해 코팅되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 치밀막의 두께는 100 nm 이하인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 치밀막의 상부에 n형 반도체 버퍼층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제19항에 있어서, 상기 n형 반도체 버퍼층은 CdS, ZnS, In2S3 중에서 선택된 반도체로 이루어진 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제19항에 있어서, 상기 n형 반도체 버퍼층은 CBD(chemical bath deposition)에 의해 코팅되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제19항에 있어서, 상기 버퍼층의 두께는 10 - 200 nm 인 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 p형 반도체 물질은 I-III-VI 족 원소 중에서 선택되는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 p형 반도체 물질은 나노입자 잉크 또는 전구체 용액을 사용하여 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥코팅(dip-coating) 중에서 선택된 용액 기반 코팅 방법에 의해 코팅되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 p형 반도체 물질 코팅 후 잔존 유기물을 제거해 주기 위해 공기 중 또는 불활성 기체 분위기하에 400 ℃ 이하의 온도에서 열처리 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 금속 전극은 Al, Au, Ag 또는 탄소를 이용하여 제조되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 금속 전극은 진공 증착 또는 용액 증착법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 벌크 헤테로 접합 무기 박막 태양전지의 제조 방법
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